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公开(公告)号：CN105895561B
公开(公告)日：2018-10-12
申请号：CN201610091276.4
申请日：2016-02-18
Applicant: 株式会社思可林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，包括：基板保持单元，一边将基板保持为水平一边使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转；处理液供给系统，将包括通过混合来发热的第一液体以及第二液体的处理液向由所述基板保持单元保持的基板供给。供给流路分支成多个上游流路。多个喷出口分别配置在距旋转轴线的距离不同的多个位置。作为药液(SPM)的成分的之一的过氧化氢从成分液流路向上游流路供给。包括多个第一流量调整阀以及多个第二流量调整阀的混合比变更单元针对各上游流路分别独立变更从多个喷出口喷出的药液所包含的硫酸以及过氧化氢的混合比。
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公开(公告)号：CN106257638A
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：CN201610424452.1
申请日：2016-06-15
Applicant: 株式会社思可林集团
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L22/10 , H01L21/6715 , H01L21/67248 , H01L21/67023 , H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，一边使处理液喷出口在预喷出位置向存放器喷出药液，一边检测供给到存放器的药液的温度。药液的温度随着时间的经过而上升。当供给至存放器的药液的温度到达第二目标温度时，使处理液喷出口停止喷出药液。然后，变更处理液喷出口以及存放器的位置关系，使处理液喷出口在处理位置向基板喷出药液。
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公开(公告)号：CN105895561A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201610091276.4
申请日：2016-02-18
Applicant: 株式会社思可林集团
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/6708 , H01L21/67017 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L21/67109 , H01L21/67248
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，包括：基板保持单元，一边将基板保持为水平一边使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转；处理液供给系统，将包括通过混合来发热的第一液体以及第二液体的处理液向由所述基板保持单元保持的基板供给。供给流路分支成多个上游流路。多个喷出口分别配置在距旋转轴线的距离不同的多个位置。作为药液(SPM)的成分的之一的过氧化氢从成分液流路向上游流路供给。包括多个第一流量调整阀以及多个第二流量调整阀的混合比变更单元针对各上游流路分别独立变更从多个喷出口喷出的药液所包含的硫酸以及过氧化氢的混合比。
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