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公开(公告)号：CN105914167A
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201610092133.5
申请日：2016-02-19
Applicant: 株式会社思可林集团
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/6708 , H01L21/67017 , H01L21/67051
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置包括将基板保持为水平并使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转的基板保持单元和向由所述基板保持单元保持的基板供给处理液的处理液供给系统。供给流路分支成多个上游流路。多个喷出口分别配置在距旋转轴线的距离不同的多个位置。返回流路与上游流路连接。下游加热器对在上游流路内流动的液体进行加热。下游切换单元能够将从供给流路供给到多个上游流路的液体有选择地供给到多个喷出口以及返回流路中的一方。
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公开(公告)号：CN109037111A
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201810886178.9
申请日：2016-02-19
Applicant: 株式会社思可林集团
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/6708 , H01L21/67017 , H01L21/67051
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置包括将基板保持为水平并使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转的基板保持单元和向由所述基板保持单元保持的基板供给处理液的处理液供给系统。供给流路分支成多个上游流路。多个喷出口分别配置在距旋转轴线的距离不同的多个位置。返回流路与上游流路连接。下游加热器对在上游流路内流动的液体进行加热。下游切换单元能够将从供给流路供给到多个上游流路的液体有选择地供给到多个喷出口以及返回流路中的一方。
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公开(公告)号：CN105895560A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201610090981.2
申请日：2016-02-18
Applicant: 株式会社思可林集团
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/6708 , H01L21/67017 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L21/67109 , H01L21/67248 , H01L21/6715
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置包括将基板保持为水平并使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转的基板保持单元和向由所述基板保持单元保持的基板供给处理液的处理液供给系统。供给流路分支成多个上游流路。多个上游流路包括分支成多个下游流路的分支上游流路。多个喷出口分别配置在距旋转轴线的距离不同的多个位置，将经由多个上游流路供给的处理液向由基板保持单元保持的基板的上表面喷出。
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公开(公告)号：CN105448662A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201510599007.4
申请日：2015-09-18
Applicant: 株式会社思可林集团
CPC classification number: H01L21/30604 , B08B1/04 , B08B3/02 , B08B3/024 , B08B3/04 , H01L21/02052 , H01L21/67017 , H01L21/67023 , H01L21/6704 , H01L21/67051 , H01L21/6715
Abstract: 本发明涉及抑制产生处理残留物和产生液体飞溅的基板处理装置及其方法。该装置具有基板的旋转保持部、沿着大致铅垂方向喷射处理液的液滴的喷流的第一喷嘴、喷出处理液的连续流的第二喷嘴、使第一喷嘴和第二喷嘴一体移动的喷嘴移动部。当第一喷嘴位于基板的周缘部的上方时，连续流的着落位置比液滴的喷流的着落位置更靠旋转中心侧。而且，液滴的喷流的着落位置和连续流的着落位置这两者的移动路径不同，和/或连续流和液滴的喷流这两者的流向不同。这两者的移动路径不同是因当第一喷嘴位于基板的周缘部的上方时，连续流的着落位置比液滴的喷流的着落位置的移动路径更靠旋转方向的下游侧。这两者的流向不同是因连续流相对于铅垂方向倾斜。
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公开(公告)号：CN109037111B
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN201810886178.9
申请日：2016-02-19
Applicant: 株式会社思可林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置包括将基板保持为水平并使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转的基板保持单元和向由所述基板保持单元保持的基板供给处理液的处理液供给系统。供给流路分支成多个上游流路。多个喷出口分别配置在距旋转轴线的距离不同的多个位置。返回流路与上游流路连接。下游加热器对在上游流路内流动的液体进行加热。下游切换单元能够将从供给流路供给到多个上游流路的液体有选择地供给到多个喷出口以及返回流路中的一方。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105895560B
公开(公告)日：2018-09-07
申请号：CN201610090981.2
申请日：2016-02-18
Applicant: 株式会社思可林集团
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/6708 , H01L21/67017 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L21/67109 , H01L21/67248
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置包括将基板保持为水平并使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转的基板保持单元和向由所述基板保持单元保持的基板供给处理液的处理液供给系统。供给流路分支成多个上游流路。多个上游流路包括分支成多个下游流路的分支上游流路。多个喷出口分别配置在距旋转轴线的距离不同的多个位置，将经由多个上游流路供给的处理液向由基板保持单元保持的基板的上表面喷出。
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公开(公告)号：CN105895561B
公开(公告)日：2018-10-12
申请号：CN201610091276.4
申请日：2016-02-18
Applicant: 株式会社思可林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，包括：基板保持单元，一边将基板保持为水平一边使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转；处理液供给系统，将包括通过混合来发热的第一液体以及第二液体的处理液向由所述基板保持单元保持的基板供给。供给流路分支成多个上游流路。多个喷出口分别配置在距旋转轴线的距离不同的多个位置。作为药液(SPM)的成分的之一的过氧化氢从成分液流路向上游流路供给。包括多个第一流量调整阀以及多个第二流量调整阀的混合比变更单元针对各上游流路分别独立变更从多个喷出口喷出的药液所包含的硫酸以及过氧化氢的混合比。
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公开(公告)号：CN105914167B
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201610092133.5
申请日：2016-02-19
Applicant: 株式会社思可林集团
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/6708 , H01L21/67017 , H01L21/67051
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置包括将基板保持为水平并使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转的基板保持单元和向由所述基板保持单元保持的基板供给处理液的处理液供给系统。供给流路分支成多个上游流路。多个喷出口分别配置在距旋转轴线的距离不同的多个位置。返回流路与上游流路连接。下游加热器对在上游流路内流动的液体进行加热。下游切换单元能够将从供给流路供给到多个上游流路的液体有选择地供给到多个喷出口以及返回流路中的一方。
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公开(公告)号：CN105448662B
公开(公告)日：2018-10-02
申请号：CN201510599007.4
申请日：2015-09-18
Applicant: 株式会社思可林集团
Abstract: 本发明涉及抑制产生处理残留物和产生液体飞溅的基板处理装置及其方法。该装置具有基板的旋转保持部、沿着大致铅垂方向喷射处理液的液滴的喷流的第一喷嘴、喷出处理液的连续流的第二喷嘴、使第一喷嘴和第二喷嘴一体移动的喷嘴移动部。当第一喷嘴位于基板的周缘部的上方时，连续流的着落位置比液滴的喷流的着落位置更靠旋转中心侧。而且，液滴的喷流的着落位置和连续流的着落位置这两者的移动路径不同，和/或连续流和液滴的喷流这两者的流向不同。这两者的移动路径不同是因当第一喷嘴位于基板的周缘部的上方时，连续流的着落位置比液滴的喷流的着落位置的移动路径更靠旋转方向的下游侧。这两者的流向不同是因连续流相对于铅垂方向倾斜。
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