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公开(公告)号:CN104253073A
公开(公告)日:2014-12-31
申请号:CN201410302788.1
申请日:2014-06-27
Applicant: 株式会社日立国际电气
CPC classification number: H01L21/67393 , B05C11/1002 , B05C11/1026 , H01L21/67253 , H01L21/67288 , H01L21/67769 , H01L21/67775
Abstract: 本发明的目的在于通过适当地向衬底收容器内供给惰性气体,从而减轻衬底收容器内的环境气体变化对晶片的影响。提供了一种衬底处理装置(100),包括:供给惰性气体的净化机构,设于配置衬底收容器(110)的载置部(114)和收纳架(105)中的至少一方;监视部,比较经由所述净化机构供给到所述衬底收容器(110)的惰性气体的流量与预先设定的基准值,并输出表示比较结果的信号;以及管理部,根据从所述监视部输出的所述信号,管理所述衬底收容器(110)的使用。
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公开(公告)号:CN104253073B
公开(公告)日:2017-12-01
申请号:CN201410302788.1
申请日:2014-06-27
Applicant: 株式会社日立国际电气
CPC classification number: H01L21/67393 , B05C11/1002 , B05C11/1026 , H01L21/67253 , H01L21/67288 , H01L21/67769 , H01L21/67775
Abstract: 本发明的目的在于通过适当地向衬底收容器内供给惰性气体,从而减轻衬底收容器内的环境气体变化对晶片的影响。提供了一种衬底处理装置(100),包括:供给惰性气体的净化机构,设于配置衬底收容器(110)的载置部(114)和收纳架(105)中的至少一方;监视部,比较经由所述净化机构供给到所述衬底收容器(110)的惰性气体的流量与预先设定的基准值,并输出表示比较结果的信号;以及管理部,根据从所述监视部输出的所述信号,管理所述衬底收容器(110)的使用。
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