介质处理装置及图像形成系统
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118684056A

    公开(公告)日:2024-09-24

    申请号:CN202410218207.X

    申请日:2024-02-28

    Abstract: 本发明提供一种能够抑制因液体供给构成中的异常发生而造成的损害的介质处理装置及图像形成系统。包括:第一储液部,能够贮存向液体赋予部件供给的液体,所述液体赋予部件对所述介质进行液体赋予;第二储液部,能够贮存用于向第一储液部补给的液体,以及液体流通路径,与第一储液部和第二储液部连接,并使液体能够在两者之间流通,液体流通路径具有:漏液检测部,检测液体的泄漏,以及液流限制部,当检测到液体的泄漏时,限制液体的流通的方向。

    介质处理装置及图像形成系统
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118647563A

    公开(公告)日:2024-09-13

    申请号:CN202380019159.5

    申请日:2023-02-06

    Abstract: 介质处理装置包括液体赋予器、压接器和控制器。液体赋予器包括液体赋予构件,以将液体赋予到介质的一部分。压接器用于使包括由所述液体赋予器赋予所述液体的介质的介质束按压并变形,以装订所述介质束。控制器基于所述介质的高度信息,使所述液体赋予构件相对于所述介质移动,以使由所述液体赋予构件赋予所述介质的液体量等于指定量。

    介质处理装置及搭载该装置的图像形成系统

    公开(公告)号:CN119212937A

    公开(公告)日:2024-12-27

    申请号:CN202380041053.5

    申请日:2023-05-19

    Abstract: 一种介质处理装置包括:液体赋予器,将液体赋予到介质的一部分;以及后处理装置,对介质束进行处理,介质束包括通过液体赋予器赋予了液体的介质。液体赋予器包括:液体存储部(43),存储液体;液体供给部(45),具有浸渍在存储于液体存储部的液体中的一端,以朝向液体供给部的另一端吸收液体;以及液体赋予构件(44),与液体供给部的另一端连接,液体赋予构件具有与介质接触的接触面,用于将从液体供给部供给的液体赋予到介质上。液体赋予构件与介质的接触面处于比存储在液体存储部中的液体的最上面的位置高的位置。

    介质处理装置及图像形成系统
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118684057A

    公开(公告)日:2024-09-24

    申请号:CN202410266956.X

    申请日:2024-03-08

    Abstract: 本发明提供能够进行对应于装订处理的适当的装订力的设定、处理速度的设定的介质处理装置及图像形成系统。介质处理装置包括对至少一张介质进行液体赋予的液体赋予部(31),以及对被液体赋予的多张介质实施规定的后处理的后处理部(25),根据后处理的种类(装订处理的种类)和装订方式的种类(两处装订、平行装订等),变更后处理部中的后处理的执行次数(G1)。

    介质处理装置及图像形成系统
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116533628A

    公开(公告)日:2023-08-04

    申请号:CN202310066376.1

    申请日:2023-01-13

    Abstract: 本发明涉及能够提高将片材状的介质多张压接并装订的处理的生产率、并提高对装订状态的保持的介质处理装置及图像形成系统。包括:输送部,其输送介质;液体赋予单元,其对通过所述输送部输送来的所述介质赋予液体,以及压接单元,其对包含由所述液体赋予单元赋予了液体的至少一页的所述介质的介质束加压并使其变形来装订,所述液体赋予单元的构成是,根据由所述输送部输送的所述介质的输送间隔,能够选择是对构成所述介质束的全部所述介质实施所述液体赋予,还是仅对构成所述介质束的一部分的所述介质实施所述液体赋予。

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