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公开(公告)号：CN103193222B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201310088168.8
申请日：2008-05-15
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C09K5/14 , B32B5/18 , B32B7/12 , B32B9/007 , B32B9/045 , B32B27/065 , B32B27/281 , B32B2307/302 , B32B2307/306 , B32B2307/54 , B32B2307/714 , B32B2457/00 , C01B32/20 , H01L23/373 , H01L23/3737 , H01L2924/0002 , H05K7/20481 , Y10T428/24446 , Y10T428/2918 , Y10T428/30 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种石墨膜及石墨复合膜，其兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。本发明的石墨膜的特征在于，在MIT耐弯曲试验中，使用15mm宽的长方形试验片，在折弯夹板的曲率半径R为2mm、左右的折弯角度为135°、折弯速度为90次／分钟、载荷为0.98N的条件下测得的直到折断为止的往返折弯次数为10000次以上。
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公开(公告)号：CN103144387B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201310087420.3
申请日：2008-05-15
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C09K5/14 , B32B5/18 , B32B7/12 , B32B9/007 , B32B9/045 , B32B27/065 , B32B27/281 , B32B2307/302 , B32B2307/306 , B32B2307/54 , B32B2307/714 , B32B2457/00 , C01B32/20 , H01L23/373 , H01L23/3737 , H01L2924/0002 , H05K7/20481 , Y10T428/24446 , Y10T428/2918 , Y10T428/30 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种石墨膜及石墨复合膜，其兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。采用扫描式电子显微镜，在5kV的加速电压下对所述石墨膜进行表面观察，以能够观察该石墨膜的表面的折皱的方式调节亮度、对比度、焦距，按640×480摄入倍率为400倍的表面SEM图像，对于所述表面SEM图像，使用通用图像处理软件实施浓度测定，得到测定值从最小值0到最大值255为止的图像，对该图像按通过下式决定的阈值进行黑白二值化，即阈值＝（最大值－最小值）×0.62，进而将被二值化了的该图像的白色区域按线宽为1进行细线化后，所得到的图像的白色区域的面积为1.0%以上且8.5%以下。
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公开(公告)号：CN103193222A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201310088168.8
申请日：2008-05-15
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C09K5/14 , B32B5/18 , B32B7/12 , B32B9/007 , B32B9/045 , B32B27/065 , B32B27/281 , B32B2307/302 , B32B2307/306 , B32B2307/54 , B32B2307/714 , B32B2457/00 , C01B32/20 , H01L23/373 , H01L23/3737 , H01L2924/0002 , H05K7/20481 , Y10T428/24446 , Y10T428/2918 , Y10T428/30 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种石墨膜及石墨复合膜，其兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。本发明的石墨膜的特征在于，在MIT耐弯曲试验中，使用15mm宽的长方形试验片，在折弯夹板的曲率半径R为2mm、左右的折弯角度为135°、折弯速度为90次／分钟、载荷为0.98N的条件下测得的直到折断为止的往返折弯次数为10000次以上。
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公开(公告)号：CN103144387A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201310087420.3
申请日：2008-05-15
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C09K5/14 , B32B5/18 , B32B7/12 , B32B9/007 , B32B9/045 , B32B27/065 , B32B27/281 , B32B2307/302 , B32B2307/306 , B32B2307/54 , B32B2307/714 , B32B2457/00 , C01B32/20 , H01L23/373 , H01L23/3737 , H01L2924/0002 , H05K7/20481 , Y10T428/24446 , Y10T428/2918 , Y10T428/30 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种石墨膜及石墨复合膜，其兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。采用扫描式电子显微镜，在5kV的加速电压下对所述石墨膜进行表面观察，以能够观察该石墨膜的表面的折皱的方式调节亮度、对比度、焦距，按640×480摄入倍率为400倍的表面SEM图像，对于所述表面SEM图像，使用通用图像处理软件实施浓度测定，得到测定值从最小值0到最大值255为止的图像，对该图像按通过下式决定的阈值进行黑白二值化，即阈值＝（最大值－最小值）×0.62，进而将被二值化了的该图像的白色区域按线宽为1进行细线化后，所得到的图像的白色区域的面积为1.0%以上且8.5%以下。
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公开(公告)号：CN101687647B
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN200880022608.7
申请日：2008-05-15
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C09K5/14 , B32B5/18 , B32B7/12 , B32B9/007 , B32B9/045 , B32B27/065 , B32B27/281 , B32B2307/302 , B32B2307/306 , B32B2307/54 , B32B2307/714 , B32B2457/00 , C01B32/20 , H01L23/373 , H01L23/3737 , H01L2924/0002 , H05K7/20481 , Y10T428/24446 , Y10T428/2918 , Y10T428/30 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种石墨膜及石墨复合膜，其兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。本发明的解决方法是采用下述石墨膜，在该石墨膜的MIT耐弯曲试验中，使用15mm宽的长方形试验片，在折弯夹板的曲率半径R为2mm、左右的折弯角度为135°、折弯速度为90次/分钟、载荷为0.98N的条件下，测得的直到折断为止的往返折弯次数为10000次以上。
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公开(公告)号：CN103193221B
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201310088092.9
申请日：2008-05-15
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C09K5/14 , B32B5/18 , B32B7/12 , B32B9/007 , B32B9/045 , B32B27/065 , B32B27/281 , B32B2307/302 , B32B2307/306 , B32B2307/54 , B32B2307/714 , B32B2457/00 , C01B32/20 , H01L23/373 , H01L23/3737 , H01L2924/0002 , H05K7/20481 , Y10T428/24446 , Y10T428/2918 , Y10T428/30 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种石墨膜及其制造方法，所述石墨膜兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。本发明的石墨膜的制造方法的特征在于，是对由高分子膜及／或碳化了的高分子膜形成的原料膜进行石墨化的石墨膜的制造方法，在所述石墨化中，在石墨化最高温度为2800℃以上、向原料膜的厚度方向施加的压力为5.0g／cm2以上且100g／cm2以下、原料膜的层叠片数为10片以上的条件下进行热处理。
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公开(公告)号：CN103193221A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201310088092.9
申请日：2008-05-15
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C09K5/14 , B32B5/18 , B32B7/12 , B32B9/007 , B32B9/045 , B32B27/065 , B32B27/281 , B32B2307/302 , B32B2307/306 , B32B2307/54 , B32B2307/714 , B32B2457/00 , C01B32/20 , H01L23/373 , H01L23/3737 , H01L2924/0002 , H05K7/20481 , Y10T428/24446 , Y10T428/2918 , Y10T428/30 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种石墨膜及其制造方法，所述石墨膜兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。本发明的石墨膜的制造方法的特征在于，是对由高分子膜及／或碳化了的高分子膜形成的原料膜进行石墨化的石墨膜的制造方法，在所述石墨化中，在石墨化最高温度为2800℃以上、向原料膜的厚度方向施加的压力为5.0g／cm2以上且100g／cm2以下、原料膜的层叠片数为10片以上的条件下进行热处理。
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公开(公告)号：CN101687647A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200880022608.7
申请日：2008-05-15
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C09K5/14 , B32B5/18 , B32B7/12 , B32B9/007 , B32B9/045 , B32B27/065 , B32B27/281 , B32B2307/302 , B32B2307/306 , B32B2307/54 , B32B2307/714 , B32B2457/00 , C01B32/20 , H01L23/373 , H01L23/3737 , H01L2924/0002 , H05K7/20481 , Y10T428/24446 , Y10T428/2918 , Y10T428/30 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种石墨膜及石墨复合膜，其兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。本发明的解决方法是采用下述石墨膜，在该石墨膜的MIT耐弯曲试验中，使用15mm宽的长方形试验片，在折弯夹板的曲率半径R为2mm、左右的折弯角度为135°、折弯速度为90次/分钟、载荷为0.98N的条件下，测得的直到折断为止的往返折弯次数为10000次以上。
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