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公开(公告)号：CN110291039A
公开(公告)日：2019-09-27
申请号：CN201880011275.1
申请日：2018-02-05
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B32/205
Abstract: 本发明中，提供在面内单方向上具备更高的热扩散性的石墨膜及其制造方法。石墨膜(3)具备：膜面内的热扩散率最高的方向即第1轴方向(1)、及在膜面内垂直于该第1轴方向(1)的第2轴方向(2)，所述第1轴方向(1)上的热扩散率除以所述第2轴方向(2)上的热扩散率而得的值是1.020以上且1.300以下。
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公开(公告)号：CN109071232A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780023529.7
申请日：2017-04-12
Applicant: 株式会社钟化
Abstract: 提供一种如下卷状石墨片：即使沿着纵向、倾斜朝向配置、或施加有振动、卷绕偏移、即卷侧端面的凹凸也难以增大。一种卷状石墨片，其是将长度为1m以上的石墨片卷绕于棒状体而成的，在对所述棒状体固定并将所述石墨片的长度方向的端部沿着所述卷的截面圆的切线方向以1.5N/cm的力牵拉了时，该端部沿着牵拉方向移动的距离是0mm以上且5mm以下。
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公开(公告)号：CN105102200B
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201480006911.3
申请日：2014-01-30
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: B32B9/007 , B29C45/0005 , B29C45/14 , B29C45/14811 , B29C2045/0012 , B29K2707/04 , B29L2009/00 , B32B7/02 , B32B9/04 , B32B9/045 , B32B27/308 , B32B27/38 , B32B27/42 , B32B38/00 , B32B2307/51 , B32B2457/00 , C08J5/042
Abstract: 为了防止在制造由石墨膜层积体和树脂所一体形成的树脂成形体时发生石墨膜层积体错位，使用包含以下结构的石墨膜层积体：250℃下的弹性模数为7.0×104Pa以上5.0×107Pa以下的第一固定层与石墨膜的至少一方主面相接触。
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公开(公告)号：CN104169214B
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201380015309.1
申请日：2013-09-19
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C01B32/20 , B32B18/00 , C01B32/05 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , C04B2235/6562 , C04B2235/9607 , C04B2237/363
Abstract: 以连续生产方式所生产的碳质膜、及对该碳质膜进行热处理而获得的石墨膜有易产生褶皱的问题。本发明通过使用连续碳化装置沿高分子膜的厚度方向进行加压并在该加压状态下进行热处理，以获得褶皱得到抑制的碳质膜及石墨膜。
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公开(公告)号：CN103547530B
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201280011528.8
申请日：2012-03-15
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C01B31/04 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , H01L23/373 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明通过设置2个级别以上的加热空间连续地进行煅烧，可以获得褶皱或波纹得到抑制的石墨片材。特别是如果在各加热空间之间存在冷却空间，那么可以获得平坦性优异、热扩散率较高的石墨膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105565301A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201510971545.1
申请日：2011-05-12
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B31/04
CPC classification number: C01B32/20
Abstract: 平坦性差的原料石墨膜在进行与其它材料的层压时会发生产生褶皱等不良情况。特别是对于大面积的石墨膜，往往会发生产生褶皱等不良情况。为了解决该问题而实施平坦性矫正处理工序，该工序中，一边对原料石墨膜施加压力，一边进行热处理直至2000℃以上。通过该平坦性矫正处理，可获得平坦性良好的石墨膜。进一步利用内芯的热膨胀进行矫正时，可获得松弛度小的石墨膜。
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公开(公告)号：CN103080005B
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201180040757.8
申请日：2011-08-19
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B31/04
CPC classification number: C01B31/04 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , C04B35/63444 , C08G69/26 , C08G69/28 , C08L77/06
Abstract: 本发明能通过对构成石墨膜原料即聚酰亚胺膜的酸二酐和二胺加以适当选择，来制造较少产生石墨粉末的石墨膜。具体而言，可以通过方案（1）或（2）来获得较少产生石墨粉末的石墨膜。方案（1）：以PMDA为酸二酐，以ODA/PDA（摩尔比率为100/0～80/20）为二胺；方案（2）：以PMDA/BPDA（摩尔比率为80/20～50/50）为酸二酐，以ODA/PDA（摩尔比率为30/70～90/10）为二胺。
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公开(公告)号：CN104169214A
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201380015309.1
申请日：2013-09-19
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C01B32/20 , B32B18/00 , C01B32/05 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , C04B2235/6562 , C04B2235/9607 , C04B2237/363
Abstract: 以连续生产方式所生产的碳质膜、及对该碳质膜进行热处理而获得的石墨膜有易产生褶皱的问题。本发明通过使用连续碳化装置沿高分子膜的厚度方向进行加压并在该加压状态下进行热处理，以获得褶皱得到抑制的碳质膜及石墨膜。
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公开(公告)号：CN103402915A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201280010613.2
申请日：2012-03-26
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C01B31/02 , B32B18/00 , C01B32/05 , C01B32/20 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B2237/363 , C04B2237/704 , C04B2237/84 , C08G73/10
Abstract: 本发明的课题在于，在利用高分子热分解法的长尺寸（辊状）的碳质膜的制造中，抑制碳质膜的熔合、波状起伏。一种碳质膜的制造，其特征在于，其是经由将高分子膜在卷成辊状的状态下进行热处理的工序来制造碳质膜的方法，在低于该高分子膜的热分解开始温度的温度下，当制成下述的辊状高分子膜后进行热处理，所述辊状高分子膜在50%截面圆的内侧的部分具有空间（50%截面圆内的空间），所述50%截面圆是以辊状高分子膜的中心为圆周的中心、以相对于高分子膜全长从内侧开始50%的膜长度的位置为圆周上的一点的辊状高分子膜的截面圆，50%截面圆内的空间所占的面积相对于50%截面圆的截面积为25%以上；特别是通过在芯与辊状高分子膜的最内径之间具有空间，上述课题的抑制进一步有效。
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公开(公告)号：CN106029566B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201580009408.8
申请日：2015-01-15
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B32/205 , C04B35/52 , H01L23/373 , H05K7/20
Abstract: 本发明能通过采用由石墨层层叠而成并且吸水量少的高取向性石墨(10)，来实现一种以不会发生层间剥离的该高取向性石墨(10)为构成成分，且使用时的信赖度高并具有良好散热性的电子设备。
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