公开(公告)号：CN102149460A

公开(公告)日：2011-08-10

申请号：CN200980135309.9

申请日：2009-09-07

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 真弓聪 ,  功刀俊介 ,  佐藤崇 ,  梅冈尚

IPC: B01J19/08 ,  B01D53/22 ,  H01L21/3065

CPC classification number: B01D53/229 ,  B01D2257/2027 ,  B01D2258/0216 ,  H01L21/32137

Abstract: 在大气压等离子体处理中，抑制氟原料的回收率或回收浓度的波动，以保证处理的稳定性。通过分离部(4)的分离膜(41)将离开大气压等离子体处理部(2)到达废气管线(30)的废气分离成用于回收管线(50)的回收气体和用于释放管线(60)的释放气体。将回收气体用作处理气体的至少一部分。在分离时，根据处理气体的流率调整回收气体、释放气体和废气中的至少两种气体的与分离相关的物理量(优选压力)，使得氟原料的回收率或回收浓度中的一项或两项达到期望值。

公开(公告)号：CN102149460B

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN200980135309.9

申请日：2009-09-07

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 真弓聪 ,  功刀俊介 ,  佐藤崇 ,  梅冈尚

IPC: B01J19/08 ,  B01D53/22 ,  H01L21/3065

CPC classification number: B01D53/229 ,  B01D2257/2027 ,  B01D2258/0216 ,  H01L21/32137

Abstract: 在大气压等离子体处理中，抑制氟原料的回收率或回收浓度的波动，以保证处理的稳定性。通过分离部(4)的分离膜(41)将离开大气压等离子体处理部(2)到达废气管线(30)的废气分离成用于回收管线(50)的回收气体和用于释放管线(60)的释放气体。将回收气体用作处理气体的至少一部分。在分离时，根据处理气体的流率调整回收气体、释放气体和废气中的至少两种气体的与分离相关的物理量(优选压力)，使得氟原料的回收率或回收浓度中的一项或两项达到期望值。

公开(公告)号：CN102165566B

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：CN200980138173.7

申请日：2009-09-16

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 梅冈尚 ,  八木泽博史 ,  真弓聪

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01J37/32376 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32761 ,  H01J37/32834 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6776

Abstract: 本发明提供一种表面处理装置，该表面处理装置使设置于表面处理用处理槽的用于搬入搬出被处理物的开口处的气流稳定。将被处理物(9)沿搬送方向自搬入开口(13)搬入处理槽(10)的内部，并配置于处理空间(19)。自供给系统(30)向处理空间(19)供给处理气体，以便对被处理物(9)进行表面处理。此后，将被处理物(9)自搬出开口(14)搬出。利用排气系统(40)自处理槽(10)的内部排出气体。由彼此在与上述搬送方向正交的对置方向上相隔对置距离(D)而对置的一对整流面(17、18)划定开口(13、14)。将开口(13、14)的沿上述搬送方向的纵深(L)设为对置距离(D)的两倍以上，优选设为6倍以上。

公开(公告)号：CN102210014B

公开(公告)日：2013-10-09

申请号：CN200980145086.4

申请日：2009-09-16

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 梅冈尚 ,  八木泽博史 ,  真弓聪 ,  佐藤崇 ,  功刀俊介

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/304 ,  H01L21/31

CPC classification number: H01J37/32752 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01L21/67069

Abstract: 为了防止处理气体从用于处理被处理物表面的处理槽中泄漏，并稳定处理空间中的处理气体的流动。被处理物(9)由输送机(20)通过入口(13)输送到处理槽(10)的内部，并被定位处理空间(19)中。处理气体由供给系统(30)供给至处理空间(19)，并且对被处理物(9)进行表面处理。随后，通过出口(14)将被处理物(9)输送出。处理槽(10)内部的气体由排气系统(40)排出。气体的排出使处理槽(10)外面的气体通过开口(13，14)流入处理槽(10)的内部，使得流入气体的平均流速至少为0.1m/sec，但仍然小于将允许流入气体到达处理空间的速度。

公开(公告)号：CN102210014A

公开(公告)日：2011-10-05

申请号：CN200980145086.4

申请日：2009-09-16

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 梅冈尚 ,  八木泽博史 ,  真弓聪 ,  佐藤崇 ,  功刀俊介

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/304 ,  H01L21/31

CPC classification number: H01J37/32752 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01L21/67069

Abstract: 为了防止处理气体从用于处理被处理物表面的处理槽中泄漏，并稳定处理空间中的处理气体的流动。被处理物(9)由输送机(20)通过入口(13)输送到处理槽(10)的内部，并被定位处理空间(19)中。处理气体由供给系统(30)供给至处理空间(19)，并且对被处理物(9)进行表面处理。随后，通过出口(14)将被处理物(9)输送出。处理槽(10)内部的气体由排气系统(40)排出。气体的排出使处理槽(10)外面的气体通过开口(13，14)流入处理槽(10)的内部，使得流入气体的平均流速至少为0.1m/sec，但仍然小于将允许流入气体到达处理空间的速度。

公开(公告)号：CN102165566A

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN200980138173.7

申请日：2009-09-16

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 梅冈尚 ,  八木泽博史 ,  真弓聪

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01J37/32376 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32761 ,  H01J37/32834 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6776

Abstract: 本发明提供一种表面处理装置，该表面处理装置使设置于表面处理用处理槽的用于搬入搬出被处理物的开口处的气流稳定。将被处理物(9)沿搬送方向自搬入开口(13)搬入处理槽(10)的内部，并配置于处理空间(19)。自供给系统(30)向处理空间(19)供给处理气体，以便对被处理物(9)进行表面处理。此后，将被处理物(9)自搬出开口(14)搬出。利用排气系统(40)自处理槽(10)的内部排出气体。由彼此在与上述搬送方向正交的对置方向上相隔对置距离(D)而对置的一对整流面(17、18)划定开口(13、14)。将开口(13、14)的沿上述搬送方向的纵深(L)设为对置距离(D)的两倍以上，优选设为6倍以上。