公开(公告)号：CN1215543C

公开(公告)日：2005-08-17

申请号：CN02102090.6

申请日：2002-01-22

Applicant: 索尼株式会社 ,  索尼精密技术株式会社

Inventor： 和田裕之 ,  田附幸一 ,  梅津畅彦 ,  矶村英二 ,  阿部哲夫 ,  服部正 ,  大岛朗文 ,  浦垣诚 ,  野口良行 ,  玉置洋之 ,  江部正孝 ,  石黑朋广 ,  加藤康行

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/00 ,  G01N21/00 ,  B07C5/10

CPC classification number: G01N21/956

Abstract: 以不接触方式自动客观地评估多晶硅薄膜状态的多晶硅薄膜评估装置包括可移动的工作台，其上面设置承载多晶硅薄膜的基片；用可见光观察的光学系统，对多晶硅薄膜的表面图像拍照，以实现自动聚焦；用紫外光观察的光学系统，用于获得多晶硅薄膜的表面图像，利用用可见光观察的光学系统进行自动聚焦；以及控制器，从表面图像评估该多晶硅薄膜表面空间结构的线性和周期性，以根据该线性和周期性的评估结果来评估该多晶硅薄膜的状态。

公开(公告)号：CN1379459A

公开(公告)日：2002-11-13

申请号：CN02102090.6

申请日：2002-01-22

Applicant: 索尼株式会社 ,  索尼精密技术株式会社

Inventor： 和田裕之 ,  田附幸一 ,  梅津畅彦 ,  矶村英二 ,  阿部哲夫 ,  服部正 ,  大岛朗文 ,  浦垣诚 ,  野口良行 ,  玉置洋之 ,  江部正孝 ,  石黑朋广 ,  加藤康行

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/00

CPC classification number: G01N21/956

Abstract: 以不接触方式自动客观地评估多晶硅薄膜状态的多晶硅薄膜评估装置包括可移动的工作台,其上面设置承载多晶硅薄膜的基片;用可见光观察的光学系统,对多晶硅薄膜的表面图像拍照,以实现自动聚焦;用紫外光观察的光学系统,用于获得多晶硅薄膜的表面图像,利用用可见光观察的光学系统进行自动聚焦;以及评估单元,从表面图像评估该多晶硅薄膜表面空间结构的线性和周期性,以根据该线性和周期性的评估结果来评估该多晶硅薄膜的状态。