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公开(公告)号：CN107439057A
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：CN201580063111.X
申请日：2015-09-18
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: G21G1/10 , H05H6/00 , H05H2277/116
Abstract: 本发明根据一个示例性实施例公开了一种用于同位素产生系统的靶系统的靶体。所述靶体包括靶室，所述靶室具有第一室和第二室，所述第一室具有第一表面区域，所述第二室具有大于所述第一表面区域的第二表面区域。所述第一室配置成容纳供带电粒子束轰击的液体靶介质。一部件连接到所述靶体并且配置成产生放射。
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公开(公告)号：CN106572828B
公开(公告)日：2021-01-19
申请号：CN201580044052.1
申请日：2015-06-15
Applicant: 通用电气公司
IPC: A61B6/00
Abstract: 按照本系统的一个方面，X射线成像系统的X射线检测器包含通信模块，其配置成从检测电路系统接收预拍摄图像，并且从X射线成像系统的源控制器接收一个或多个预拍摄参数。X射线检测器还包含分析模块，其配置成确定预拍摄图像的一个或多个图像特性。X射线检测器还包含确定模块，其配置成基于一个或多个预拍摄参数和一个或多个图像特性来计算一个或多个主拍摄参数。确定模块还配置成向X射线成像系统的源控制器发送一个或多个主拍摄参数。
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公开(公告)号：CN106997840A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201710056303.9
申请日：2017-01-25
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: B22F3/1055 , B22F2003/1056 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , Y02P10/295 , H01J37/02 , H01J37/06 , H01J2237/02
Abstract: 本公开的发明名称是“采用多个电子束源的增材制造”。适应性地形成三维组件可包含提供（410）多个电子束源（200），以及同时控制（420）所述多个电子束源以将多个电子束（210）引导到金属粉末的多个沉积层上，从而顺序地加固所述多个沉积的金属粉末层的图案化部分，以适应性地形成所述三维组件。
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公开(公告)号：CN106572828A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201580044052.1
申请日：2015-06-15
Applicant: 通用电气公司
IPC: A61B6/00
Abstract: 按照本系统的一个方面，X射线成像系统的X射线检测器包含通信模块，其配置成从检测电路系统接收预拍摄图像，并且从X射线成像系统的源控制器接收一个或多个预拍摄参数。X射线检测器还包含分析模块，其配置成确定预拍摄图像的一个或多个图像特性。X射线检测器还包含确定模块，其配置成基于一个或多个预拍摄参数和一个或多个图像特性来计算一个或多个主拍摄参数。确定模块还配置成向X射线成像系统的源控制器发送一个或多个主拍摄参数。
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