公开(公告)号：CN107439057A

公开(公告)日：2017-12-05

申请号：CN201580063111.X

申请日：2015-09-18

Applicant: 通用电气公司

Inventor： X.张 ,  M.A.弗伦特拉 ,  P.A.扎沃什基 ,  T.A.埃里克森

IPC: H05H6/00 ,  G21G1/10

CPC classification number: G21G1/10 ,  H05H6/00 ,  H05H2277/116

Abstract: 本发明根据一个示例性实施例公开了一种用于同位素产生系统的靶系统的靶体。所述靶体包括靶室，所述靶室具有第一室和第二室，所述第一室具有第一表面区域，所述第二室具有大于所述第一表面区域的第二表面区域。所述第一室配置成容纳供带电粒子束轰击的液体靶介质。一部件连接到所述靶体并且配置成产生放射。

公开(公告)号：CN106997840A

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：CN201710056303.9

申请日：2017-01-25

Applicant: 通用电气公司

Inventor： M.A.弗伦特拉 ,  V.B.内库莱斯 ,  J.W.西尔斯 ,  P.A.扎沃什基

IPC: H01J37/02 ,  H01J37/06

CPC classification number: B22F3/1055 ,  B22F2003/1056 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  Y02P10/295 ,  H01J37/02 ,  H01J37/06 ,  H01J2237/02

Abstract: 本公开的发明名称是“采用多个电子束源的增材制造”。适应性地形成三维组件可包含提供（410）多个电子束源（200），以及同时控制（420）所述多个电子束源以将多个电子束（210）引导到金属粉末的多个沉积层上，从而顺序地加固所述多个沉积的金属粉末层的图案化部分，以适应性地形成所述三维组件。