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公开(公告)号：CN107439057A
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：CN201580063111.X
申请日：2015-09-18
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: G21G1/10 , H05H6/00 , H05H2277/116
Abstract: 本发明根据一个示例性实施例公开了一种用于同位素产生系统的靶系统的靶体。所述靶体包括靶室，所述靶室具有第一室和第二室，所述第一室具有第一表面区域，所述第二室具有大于所述第一表面区域的第二表面区域。所述第一室配置成容纳供带电粒子束轰击的液体靶介质。一部件连接到所述靶体并且配置成产生放射。
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