公开(公告)号：CN103912720B

公开(公告)日：2017-01-18

申请号：CN201410114225.X

申请日：2011-01-10

Applicant: CKD株式会社

Inventor： 板藤宽 ,  绞缬雅之

IPC: F16K51/02

CPC classification number: H01L21/6719 ,  H01L21/67253 ,  Y10T137/0318 ,  Y10T137/2562 ,  Y10T137/2572 ,  Y10T137/7758 ,  Y10T137/7761 ,  Y10T137/777

Abstract: 提供真空控制阀以及真空控制系统。真空控制阀包括：控制阀主体，具有连接真空容器和真空泵的流路、形成于流路的阀座；动作部，具有阀体、活塞、连结阀体和活塞的杆，阀体通过调节提升量操控阀开度，通过与阀座抵接切断流路；汽缸，与控制阀主体连接并收纳活塞；施压部，在使提升量减小的方向上对动作部施压；调压阀，追随活塞的动作，密封活塞外周面与汽缸内周面之间的间隙。动作部及汽缸包括：阀开度操控室，是由调压阀密封且具有呈包围杆的筒形的空间，根据工作流体的作用压力对活塞在使提升量增大的方向上产生载荷；切断载荷产生室，形成于杆的内部，与阀开度操控室共中心轴线，在被供给工作流体时，对动作部在使提升量减小的方向上产生载荷。

公开(公告)号：CN103912720A

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：CN201410114225.X

申请日：2011-01-10

Applicant: CKD株式会社

Inventor： 板藤宽 ,  绞缬雅之

IPC: F16K51/02

CPC classification number: H01L21/6719 ,  H01L21/67253 ,  Y10T137/0318 ,  Y10T137/2562 ,  Y10T137/2572 ,  Y10T137/7758 ,  Y10T137/7761 ,  Y10T137/777 ,  F16K51/02 ,  C23C16/52

Abstract: 提供真空控制阀以及真空控制系统。真空控制阀包括：控制阀主体，具有连接真空容器和真空泵的流路、形成于流路的阀座；动作部，具有阀体、活塞、连结阀体和活塞的杆，阀体通过调节提升量操控阀开度，通过与阀座抵接切断流路；汽缸，与控制阀主体连接并收纳活塞；施压部，在使提升量减小的方向上对动作部施压；调压阀，追随活塞的动作，密封活塞外周面与汽缸内周面之间的间隙。动作部及汽缸包括：阀开度操控室，是由调压阀密封且具有呈包围杆的筒形的空间，根据工作流体的作用压力对活塞在使提升量增大的方向上产生载荷；切断载荷产生室，形成于杆的内部，与阀开度操控室共中心轴线，在被供给工作流体时，对动作部在使提升量减小的方向上产生载荷。

公开(公告)号：CN102129256B

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：CN201110006248.5

申请日：2011-01-10

Applicant: CKD株式会社

Inventor： 板藤宽 ,  绞缬雅之

IPC: G05D16/16 ,  F16K31/122

CPC classification number: H01L21/6719 ,  H01L21/67253 ,  Y10T137/0318 ,  Y10T137/2562 ,  Y10T137/2572 ,  Y10T137/7758 ,  Y10T137/7761 ,  Y10T137/777

Abstract: 本发明涉及对真空容器内部的气体流动进行控制的技术。本发明提供一种真空控制系统(10)，其使用真空泵控制真空容器(500)中的工艺气体的真空压力和流动，所述真空容器(500)接收由供气部提供的工艺气体并对处理对象执行处理。所述真空控制系统(10)包括：多个真空控制阀(100，200)，分别连接于各排气口(561，562)和真空泵(300)之间，所述各排气口(561，562)配置于所述真空容器(500)中互不相同的位置；压力测量部(631)，测量被提供给所述处理对象的工艺气体的真空压力；以及控制装置(610)，根据测量出的真空压力对所述多个真空控制阀(100，200)的各自的开度进行操控。

公开(公告)号：CN102129256A

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN201110006248.5

申请日：2011-01-10

Applicant: CKD株式会社

Inventor： 板藤宽 ,  绞缬雅之

IPC: G05D16/16 ,  F16K31/122

CPC classification number: H01L21/6719 ,  H01L21/67253 ,  Y10T137/0318 ,  Y10T137/2562 ,  Y10T137/2572 ,  Y10T137/7758 ,  Y10T137/7761 ,  Y10T137/777

Abstract: 本发明涉及对真空容器内部的气体流动进行控制的技术。本发明提供一种真空控制系统(10)，其使用真空泵控制真空容器(500)中的工艺气体的真空压力和流动，所述真空容器(500)接收由供气部提供的工艺气体并对处理对象执行处理。所述真空控制系统(10)包括：多个真空控制阀(100，200)，分别连接于各排气口(561，562)和真空泵(300)之间，所述各排气口(561，562)配置于所述真空容器(500)中互不相同的位置；压力测量部(631)，测量被提供给所述处理对象的工艺气体的真空压力；以及控制装置(610)，根据测量出的真空压力对所述多个真空控制阀(100，200)的各自的开度进行操控。