-
公开(公告)号：CN101685254A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200910174246.X
申请日：2009-09-25
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明涉及光掩模制造方法以及光掩模，该光掩模制造方法包括：准备在透明基板上形成有遮光膜的光掩模坯体的工序；对形成在所述遮光膜上的抗蚀剂膜进行构图来形成抗蚀剂图案的工序；将抗蚀剂图案作为掩模对遮光膜进行蚀刻并形成遮光膜图案的工序；以及对形成的遮光膜图案进行缺陷检查，当存在由过剩物引起的黑缺陷时对该缺陷部分进行修正的工序。对缺陷部分进行修正的工序在光掩模上再次形成抗蚀剂膜，在包含缺陷部分的规定区域中进行规定的图案描绘并显影，来形成修正用抗蚀剂图案，并将该抗蚀剂图形作为掩模实施蚀刻，去除缺陷部分的过剩物。
-
公开(公告)号：CN109725487B
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN201811274621.3
申请日：2018-10-30
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 早瀬三千彦
IPC: G03F1/70
Abstract: 本发明提供图案描绘方法、光掩模和显示装置用器件的制造方法。将具有符合设计的CD精度的图案转印在被转印体上。本发明提供图案描绘方法及其关联技术，通过根据规定的设计图案数据在光掩模基板上进行描绘而形成用于制造显示装置用器件的具有转印用图案的光掩模，其中，该图案描绘方法包含以下工序：束强度校正映射图形成工序，使用在光掩模基板上利用能量束进行描绘的描绘装置，在由于显示装置用器件的制造工序而产生针对设计值的CD错误时，根据预先掌握的包含CD错误的位置和错误量的、CD错误的产生倾向信息，形成用于校正CD错误的束强度校正映射图；以及描绘工序，将设计图案数据与束强度校正映射图一起使用，用描绘装置进行描绘。
-
公开(公告)号：CN109725487A
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：CN201811274621.3
申请日：2018-10-30
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 早瀬三千彦
IPC: G03F1/70
Abstract: 本发明提供图案描绘方法、光掩模和显示装置用器件的制造方法。将具有符合设计的CD精度的图案转印在被转印体上。本发明提供图案描绘方法及其关联技术，通过根据规定的设计图案数据在光掩模基板上进行描绘而形成用于制造显示装置用器件的具有转印用图案的光掩模，其中，该图案描绘方法包含以下工序：束强度校正映射图形成工序，使用在光掩模基板上利用能量束进行描绘的描绘装置，在由于显示装置用器件的制造工序而产生针对设计值的CD错误时，根据预先掌握的包含CD错误的位置和错误量的、CD错误的产生倾向信息，形成用于校正CD错误的束强度校正映射图；以及描绘工序，将设计图案数据与束强度校正映射图一起使用，用描绘装置进行描绘。
-
-
Search Results
3
records
(took 0.03 seconds)
