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公开(公告)号:CN106067528B
公开(公告)日:2022-03-29
申请号:CN201610262748.8
申请日:2016-04-25
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开高新信息电子材料株式会社
IPC: H01M50/449 , H01M50/403
Abstract: 本发明涉及一种复合分离膜,所述复合分离膜包含:多孔性高分子基材;原子层沉积金属氧化物层,其形成在所述多孔性高分子基材的表面上;以及陶瓷层,其形成在所述金属氧化物层上。
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公开(公告)号:CN106159159B
公开(公告)日:2022-04-05
申请号:CN201610323669.3
申请日:2016-05-16
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开高新信息电子材料株式会社
IPC: H01M50/457 , H01M50/451 , H01M50/431 , H01M50/434 , H01M50/403 , H01M10/0525
Abstract: 本发明涉及一种复合分离膜,所述复合分离膜包含:多孔性高分子基材;陶瓷层,其形成在多孔性高分子基材上;以及金属氧化物层,其通过原子层沉积法形成在陶瓷层及多孔性高分子基材上。所述复合分离膜作为二次电池用复合分离膜,具有显著的物理性质,并且使用所述复合分离膜的二次电池在性能、寿命及稳定性方面比现有的二次电池优异。
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公开(公告)号:CN106159159A
公开(公告)日:2016-11-23
申请号:CN201610323669.3
申请日:2016-05-16
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: H01M2/14 , H01M2/16 , H01M2/18 , H01M10/0525
CPC classification number: H01M2/145 , H01M2/1646 , H01M2/1653 , H01M2/18 , H01M10/0525
Abstract: 本发明涉及一种复合分离膜,所述复合分离膜包含:多孔性高分子基材;陶瓷层,其形成在多孔性高分子基材上;以及金属氧化物层,其通过原子层沉积法形成在陶瓷层及多孔性高分子基材上。所述复合分离膜作为二次电池用复合分离膜,具有显著的物理性质,并且使用所述复合分离膜的二次电池在性能、寿命及稳定性方面比现有的二次电池优异。
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公开(公告)号:CN106067528A
公开(公告)日:2016-11-02
申请号:CN201610262748.8
申请日:2016-04-25
Applicant: SK新技术株式会社
CPC classification number: H01M2/1646 , H01M2/145 , H01M2/1653
Abstract: 本发明涉及一种复合分离膜,所述复合分离膜包含:多孔性高分子基材;原子层沉积金属氧化物层,其形成在所述多孔性高分子基材的表面上;以及陶瓷层,其形成在所述金属氧化物层上。
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