公开(公告)号：CN1324561C

公开(公告)日：2007-07-04

申请号：CN200410032737.8

申请日：2004-04-16

Applicant: TDK株式会社 ,  新科实业有限公司

Inventor： 大山信也 ,  太田宪和 ,  小出宗司 ,  佐佐木徹郎 ,  袋井修

IPC: G11B5/39

CPC classification number: G11B5/31 ,  Y10T29/49032

Abstract: 磁条(3)上的各个薄膜磁头(1)中的加热器(17)与其邻近的加热器电连接，每个加热器(17)都与一个可变电阻器(33)并行连接。根据薄膜磁头(1)的相对介质的表面(S)的凸出量，改变每个可变电阻器(33)的电阻值。并且，当使用相同的电源为所有的加热器(17)通电时，磁头条(3)上薄膜磁头(1)的相对介质的表面(S)被抛光。

公开(公告)号：CN1542741A

公开(公告)日：2004-11-03

申请号：CN200410006965.8

申请日：2004-03-01

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 太田宪和 ,  上釜健宏 ,  大山信也 ,  小出宗司 ,  佐佐木徹郎

IPC: G11B5/31 ,  G11B5/60 ,  B24B19/26

CPC classification number: B24B37/048 ,  B24B37/042 ,  G11B5/6064

Abstract: 本发明涉及一种薄膜磁头中的介质相对表面的抛光方法。一种薄膜磁头1形成在支架2上，该薄膜磁头1包括再现磁头部11、记录磁头部12和通过激励而适于产生热量的加热器17。在激励加热器17或记录磁头部12的同时对薄膜磁头1的介质相对表面S进行抛光。

公开(公告)号：CN100350455C

公开(公告)日：2007-11-21

申请号：CN200410006965.8

申请日：2004-03-01

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 太田宪和 ,  上釜健宏 ,  大山信也 ,  小出宗司 ,  佐佐木徹郎

IPC: G11B5/31 ,  G11B5/60 ,  B24B19/26

CPC classification number: B24B37/048 ,  B24B37/042 ,  G11B5/6064

Abstract: 本发明涉及一种薄膜磁头中的介质相对表面的抛光方法。一种薄膜磁头(1)形成在支架(2)上，该薄膜磁头(1)包括再现磁头部(11)、记录磁头部(12)和通过激励而适于产生热量的加热器(17)。在激励加热器(17)或记录磁头部(12)的同时对薄膜磁头(1)的介质相对表面(S)进行抛光。

公开(公告)号：CN1538387A

公开(公告)日：2004-10-20

申请号：CN200410032737.8

申请日：2004-04-16

Applicant: TDK株式会社 ,  新科实业有限公司

Inventor： 大山信也 ,  太田宪和 ,  小出宗司 ,  佐佐木徹郎 ,  袋井修

IPC: G11B5/39

CPC classification number: G11B5/31 ,  Y10T29/49032

Abstract: 磁条(3)上的各个薄膜磁头(1)中的加热器(17)与其邻近的加热器电连接，每个加热器(17)都与一个可变电阻器(33)并行连接。根据薄膜磁头(1)的相对介质的表面(S)的凸出量，改变每个可变电阻器(33)的电阻值。并且，当使用相同的电源为所有的加热器(17)通电时，磁头条(3)上薄膜磁头(1)的相对介质的表面(S)被抛光。