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公开(公告)号：CN119932680A
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202411653944.9
申请日：2024-11-19
Applicant: 山东睿思精密工业有限公司
Abstract: 自动挂镀线体挂具摇摆结构，涉及挂镀用具技术领域，包括固定设置的电镀槽体，电镀槽体的上方摇摆设置有挂具放置架，挂具放置架通过竖向驱动结构沿竖向方向往复运动，挂具放置架通过横向驱动结构沿水平方向往复运动。本发明解决了传统技术中的现有电镀线体挂具放置形式，是将挂具放置于所需作业槽体的支架上进行浸泡式作业，作业过程中挂具与槽体处于静止状态，以及作业过程中因产品固定方式、产品结构等因素，导致电镀过程中，产品部分夹拐角、与挂具固定位置液体交换不均匀，作业节拍较低的问题。
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公开(公告)号：CN119913590A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202510413229.6
申请日：2025-04-03
Applicant: 苏州智程半导体科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种晶圆电镀回液管及晶圆电镀设备，涉及晶圆电镀设备技术领域，包括回液管本体，回液管本体由第一管段组件和第二管段组件组成，第一管段组件的内部安装设置管动态检测组件，第二管段组件的底部安装设置均匀电镀回液组件，通过在管动态检测组件配合下，减少金属颗粒在管内逐渐聚集，尤其是在管径变窄处、弯道以及连接处，最终形成堵塞，使整个电镀流程中断的问题，提高生产效率，并使得在均匀电镀回液组件配合下，确保电镀液精准覆盖至每一处需要镀层的晶圆表面，避免出现喷射死角，使得优化的液流状态有助于提高喷射的稳定性与射程，确保在较大电镀槽范围内实现均匀电镀。
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公开(公告)号：CN113930822B
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202010676419.4
申请日：2020-07-14
Applicant: 华为技术有限公司
Abstract: 本申请公开了一种电镀用基体及其制备方法和电镀方法，属于半导体工艺领域。该电镀用基体包括：待镀基体和有机保护膜；待镀基体的表面具有种子层；有机保护膜位于种子层表面；有机保护膜包括：含氮配体，含氮配体中的N原子与种子层中的金属原子络合，并且，络合能够通过电离解除。有机保护膜与种子层之间的络合依靠配位键进行结合，获得稳定的结合力。当电镀用基体以倾斜方式浸入电镀液中时，有机保护膜基于该结合力不会被电镀液所破坏，同时对种子层进行了有效防护。由于该络合能够通过电离解除，通过对电镀用基体施加电流进行电离，即可使有机保护膜从种子层上剥离，使种子层暴露，以使电镀用基体进行正常电镀作业。
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公开(公告)号：CN119877072A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202510093751.0
申请日：2025-01-21
Applicant: 东莞市万连实业有限公司
Abstract: 本发明公开了一种可实现内外膜厚精准控制的电镀方法，其包括制备特殊挂具、工件挂装、工件电镀等步骤，本发明的电镀方法设计合理，其采用特制的挂具和双电源供电设计，挂具的主负极能够与工件接触，挂具的辅助正极能够伸入到工件的内孔，主控电源的正极与电镀槽的正极相连接，主控电源的负极与挂具的主负极相连接，辅助电源的正极与挂具的辅助正极相连接，辅助电源的负极与挂具的主负极相连接，主控电源和辅助电源能够同时供电，主控电源能够对电镀槽里的离子起作用，使电镀槽内的金属电镀材料电镀在工件的外表面和内孔表面上，辅助电源能够通过辅助正极的放电加速离子还原到工件的内孔表面，这样可实现工件内外膜厚的精准比例控制。
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公开(公告)号：CN119855945A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202380063727.1
申请日：2023-08-05
Applicant: 株式会社村田制作所
Inventor： 岛田智和
Abstract: 提供即使增加从喷射部被喷射的镀敷液的流量，被镀敷物也不会过度上升到所储存的镀敷液中的较高位置，抑制了在被镀敷物产生不良的镀敷装置。镀敷装置具备：镀敷槽，储存包含被镀敷物的镀敷液；和喷射部，形成于镀敷槽，具有使镀敷液喷射的第1喷射口，通过从喷射部被喷射的镀敷液，从而包含于镀敷液的被镀敷物被搅拌，其中，在喷射部的第1喷射口设置有筛网构件，筛网构件至少重叠2个筛网而形成，筛网构件在平面方向上观察时，具有中央部和设置在中央部的外侧的周边部，周边部由1个筛网的层或多个筛网的层形成，中央部由多个筛网的层形成，中央部的筛网的层数比周边部的筛网的层数多。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119194568B
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202411696461.7
申请日：2024-11-25
Applicant: 南通威森新能源科技有限公司
Inventor： 苏建华
Abstract: 本发明公开了一种光伏器件生产用处理装置，属于电化学装置领域，一种光伏器件生产用处理装置，包括工作槽以及导电杆，导电杆上固定连接有用于挂接工件的挂钩，空心盘上固定连接有多个连杆，多个连杆上远离空心盘的一端均固定连接有斜板，本发明通过设置空心盘以及固定连接在空心盘上的斜板，使得空心盘在带动斜板转动时能够对工作槽内的电解液进行推动扰流，使得电解液的浓度均匀，通过设置活塞筒使得工作槽内的电解液循环流动，即使得工作槽内的电解液的浓度均匀，又能将从阴极上刮下的反应物去除，通过设置电磁阀使得工作槽内的电解液液面下降时能够对工作槽内的电解液进行自动补充。
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公开(公告)号：CN111005060B
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN201911204004.0
申请日：2019-11-29
Applicant: 昆山东威科技股份有限公司
Abstract: 本发明提供的一种物料溶解系统，包括溶解槽、至少一个溢流结构和过滤装置。溢流结构将溶解槽分隔为至少一个混料腔和至少一个溢流腔，过滤装置设置在溢流腔内，过滤装置的入口与溢流腔上游的溢流口连通。物料进入混料腔内的溶液中溶解混合，溶液经溢流口逐级溢流，并通过过滤装置逐级过滤，从出液口输出的溶液中不会含有未溶解的物料，提高了溶液的纯度；投料口下方设置承接结构，承接投料口处投放的物料，避免物料直接投入溶液中造成溶液的迸溅；称量机构通过杠杆原理，自动完成预设重量的称量，减少了人力物力，提高了称量的精度和效率。采用机械的搅拌装置和送风系统，共同辅助混合溶液，扰动溶液，加快物料的溶解速度，提高了溶解效率。
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公开(公告)号：CN119776958A
公开(公告)日：2025-04-08
申请号：CN202411981818.6
申请日：2024-12-31
Applicant: 昆山和博芯创电子科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种离心电镀生产线，包括电镀槽组合体，电镀槽组合体包括水平依次设置的镀镍槽、水洗槽、镀锡槽和反电解槽，电镀槽组合体的两侧顶部分别水平设置有直线导轨，直线导轨上设置有行车，行车的底部两侧分别设置有滚轮，滚轮滚动设置在直线导轨上，行车上设置有产品挂架，行车上部的两端分别固定设置有第一链轮，产品挂架的两端分别设置有第二链轮，第一链轮和第二链轮上绕有链条，行车上设置有用于驱动第一链轮转动的第一伺服电机，镀镍槽和镀锡槽内分别设置有镀桶结构，镀桶结构包括转动的镀桶，镀桶内设置有阳极钛篮和阴极钛环，阳极钛篮与阴极钛环电路导通。本发明的离心电镀生产线电镀作业方便，电镀效率高，电镀质量好。
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公开(公告)号：CN119753797A
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202411854456.4
申请日：2024-12-16
Applicant: 歌尔股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种表面处理线体的加工方法及表面处理线体，涉及表面处理技术领域，表面处理线体的加工方法包括以下步骤：获取待处理产品的加工信息；根据所述加工信息确定至少一个目标储液槽；控制所述输送组件工作以将待处理产品输送至所述目标储液槽，并在满足第一预设条件后移出。在进行产品表面处理加工时，先根据产品的加工信息通过匹配处理液的方式确定目标储液槽，然后输送组件带动待处理的产品到达目标储液槽进行加工，使得表面处理工艺不需要区分产品的类别，能够达到通用化，只需要根据不同产品的不同工艺需求分别匹配储液槽即可，根据不同产品的不同第一预设条件在对应的目标储液槽内完成加工。将多种表面处理工艺集成，提高生产效率。
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公开(公告)号：CN119744317A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202380063735.6
申请日：2023-08-05
Applicant: 株式会社村田制作所
Inventor： 岛田智和
Abstract: 提供即使增加从喷射部被喷射的镀敷液的流量，被镀敷物也不会过度上升到所储存的镀敷液中的较高位置，抑制了在被镀敷物产生不良的镀敷装置。镀敷装置具备：镀敷槽，储存包含被镀敷物的镀敷液；和喷射部，形成于镀敷槽，对镀敷液进行喷射，通过从喷射部被喷射的镀敷液，从而包含于镀敷液的被镀敷物被搅拌，其中，喷射部是具有在水平方向上扩展的底面、从底面向高度方向延伸的内壁、和形成于内壁的上端的开口的内筒状，开口是向镀敷槽喷射镀敷液的第1喷射口，在第1喷射口设置有筛网构件，在底面设置有向喷射部喷射镀敷液的第2喷射口，在喷射部的高度方向的中途与底面平行地设置有形成有多个孔的流速控制板，流速控制板在平面方向上观察时，具有中央部和设置于中央部的外侧的周边部，形成于中央部的孔的各开口面积小于形成于周边部的孔的各开口面积，在流速控制板与第1喷射口的筛网构件之间设置有具有中空部的筒状构件。
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