非易失性半导体存储器及其制造工艺

    公开(公告)号:CN1426113A

    公开(公告)日:2003-06-25

    申请号:CN02154596.0

    申请日:2002-12-10

    CPC classification number: H01L27/11521 H01L27/115 H01L29/66825

    Abstract: 一种非易失性半导体存储器包括:在半导体衬底上的至少一个第一栅电极,其间插有作为隧道氧化膜的第一绝缘膜,作为浮栅;沿沟道长度方向第一栅电极的两个侧壁上的侧壁间隔;通过第一栅电极的侧面,在半导体衬底的表面层中,由与半导体衬底导电类型不同的导电类型的杂质扩散区形成的位线,其中,所述位线包括采用第一栅电极作为掩膜,以自对准方式形成的第一位线和采用第一栅电极和侧壁间隔作为掩膜,以自对准方式形成的第二位线。

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