一种APCVD在线低辐射镀膜废气处理装置

    公开(公告)号:CN103727548B

    公开(公告)日:2016-06-08

    申请号:CN201310678781.5

    申请日:2013-12-14

    Abstract: 本发明公开一种APCVD在线低辐射镀膜废气处理装置,包括通过管道依次连通的变频废气风机(1)、焚烧炉(2)、高温静电除尘装置(3)、洗涤塔(4)、重力脱水装置(5)与引风机(6);通过各个废气处理装置的有序配合,处理高温、酸性、含尘、含氟的镀膜废气;洗涤塔(4)废液出口及重力脱水装置(5)出水口还连通有回水池(9),回水池(9)通过抽液泵(13)与冷却塔(14)与供液池(8)构成循环通路,使洗涤塔(4)中未反应完全的碱液循环利用,反应完全后的废液经泥浆泵(15)抽至压滤机(16),通过压滤机(16)的固液分离,使滤液进入废水池(10)后再经废水泵(17)喷入焚烧炉(2)燃烧处理,滤渣可回收利用,从而实现了在镀膜废气处理过程中产生废水的循环净化,达到无污染排放的目的。

    聚苯乙烯小球作为软模版制备多孔结构VO2薄膜的方法

    公开(公告)号:CN105254185A

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201510584975.8

    申请日:2015-09-15

    Abstract: 一种聚苯乙烯小球作为软模版制备多孔结构VO2薄膜的方法。将五氧化二钒(V2O5)与分析纯草酸(C2H2O4)融入无水乙醇,于烧杯中搅拌至原料全部溶解,加入少量聚乙烯吡咯烷酮(PVP),搅拌20~40min后将溶液转移入四口烧瓶于120~150℃油浴锅中加热搅拌12~16h,后加入分散有聚苯乙烯小球的无水乙醇乳状液,滴入一定量表面活性剂P123的无水乙醇溶液,在室温下继续搅拌直至形成均匀乳状液溶胶,制得湿膜后,于100~150℃烘箱内干燥10~30min,后在Ar气或N2气气氛保护下于450~650℃下保温20~30min即得多孔结构VO2薄膜。原料V2O5与C2H2O4的摩尔比为1:3~1:6,加入软模版聚苯乙烯小球的乳状液占总溶胶体积的6%~18%。

    纳米SiO2小球改性热致变色VO2智能薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN105236763A

    公开(公告)日:2016-01-13

    申请号:CN201510585948.2

    申请日:2015-09-15

    Abstract: 一种纳米SiO2小球改性热致变色VO2智能薄膜的制备方法,其特征在于,包括将原料五氧化二钒(V2O5)与分析纯草酸(C2H2O4)混合溶入溶剂无水乙醇,在烧杯中混合搅拌至原料全部溶解,加入稳定剂聚乙烯吡咯烷酮(PVP)溶液,搅拌10~30min,将该溶液转移入四口烧瓶置于100~120℃油浴锅中加热搅拌10~15h后加入分散有纳米SiO2小球的乳状液,继续加入适量吐温-80,搅拌至形成均匀乳状液VO2镀膜溶胶,将所制备的湿膜在80~120℃烘箱中烘干,然后在惰性气氛炉中于500℃~600℃退火5~30min即得热致变色智能VO2薄膜。根据本发明实施例的纳米SiO2小球改性热致变色VO2智能薄膜的制备方法,用液相法镀膜,能够很好地引入模版从而达到控制薄膜表面形貌的目的。

    一种具有仿生凸起结构SiO2减反射膜的制备方法

    公开(公告)号:CN105070769A

    公开(公告)日:2015-11-18

    申请号:CN201510476397.6

    申请日:2015-08-06

    CPC classification number: H01L31/02168

    Abstract: 本发明公开一种具有仿生凸起结构SiO2减反射膜的制备方法,以单分散球形SiO2粉体作为硬模板,分散到酸性SiO2溶胶中,通过在玻璃基片上镀膜制得具有仿生凸起结构SiO2减反射膜,利用仿生凸起的特殊结构改善SiO2减反射膜的性能,在保持膜层强度的基础上,增加太阳光透过率,且仿生凸起结构可以提高膜层的防污自洁能力。本发明方法简单,条件温和,产品的物化稳定性高,提高改善SiO2减反射膜的产品性能,进而提高了太阳能电池的转化效率,对普及太阳能电池的广泛应用起到了一定的推动作用。

    一种在浮法线上生产镀膜玻璃的装置

    公开(公告)号:CN103951272A

    公开(公告)日:2014-07-30

    申请号:CN201410194864.1

    申请日:2014-05-10

    Abstract: 本发明公开一种在浮法线上生产透明导电膜玻璃的装置,包括退火窑(40)以及设置在退火窑中的镀膜器(10),退火窑中还设有使镀膜器输出的前驱气体光致解离的激光装置,包括:设置于退火窑一侧的升降台(21),升降台上设有激光器(22)和相应的掩膜版(23),在退火窑的两侧分别设有与掩膜版对应的入射窗口(24)和出射窗口(25),激光器射入退火窑的激光束(27)位于镀膜器底部与退火窑中的玻璃板(41)之间,退火窑另一侧设有与出射窗口相对应的激光功率计(26)。本发明利用激光驱动化学气相反应的发生,降低了镀膜反应的温度,对提高薄膜质量、提高前驱气体利用率、降低锡槽能耗和锡液损耗、降低镀膜器制作成本和操作难度,具有积极效果。

    一种APCVD在线低辐射镀膜废气处理装置

    公开(公告)号:CN103727548A

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN201310678781.5

    申请日:2013-12-14

    Abstract: 本发明公开一种APCVD在线低辐射镀膜废气处理装置,包括通过管道依次连通的变频废气风机(1)、焚烧炉(2)、高温静电除尘装置(3)、洗涤塔(4)、重力脱水装置(5)与引风机(6);通过各个废气处理装置的有序配合,处理高温、酸性、含尘、含氟的镀膜废气;洗涤塔(4)废液出口及重力脱水装置(5)出水口还连通有回水池(9),回水池(9)通过抽液泵(13)与冷却塔(14)与供液池(8)构成循环通路,使洗涤塔(4)中未反应完全的碱液循环利用,反应完全后的废液经泥浆泵(15)抽至压滤机(16),通过压滤机(16)的固液分离,使滤液进入废水池(10)后再经废水泵(17)喷入焚烧炉(2)燃烧处理,滤渣可回收利用,从而实现了在镀膜废气处理过程中产生废水的循环净化,达到无污染排放的目的。

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