公开(公告)号：CN1901774A

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：CN200610106329.1

申请日：2006-07-19

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 李奎成 ,  金汉基 ,  金度根 ,  金明洙

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01J37/321

Abstract: 本发明公开了一种感应耦合等离子体处理装置。该感应耦合等离子体处理装置包括：反应室；基底支架，用于在反应室中形成等离子体空间并用于支撑在其中的处理基底；屏蔽件，设置在基底支架的侧面；多个开口，形成在基底的下方；线天线，在反应室的下部，高频功率信号被施加到线天线。因此，该感应耦合等离子体处理装置可均匀地分布等离子体的密度，使得可实现大尺寸的平板显示器。

公开(公告)号：CN1818127A

公开(公告)日：2006-08-16

申请号：CN200510121705.X

申请日：2005-12-01

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金度根 ,  安宰弘 ,  宋官燮 ,  许明洙 ,  郑锡宪

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/56

CPC classification number: C23C14/12 ,  C23C14/24 ,  C23C14/243

Abstract: 一种具有稳定沉积速度和高重现性的沉积源，以及一种包括沉积源的沉积设备，其中该沉积源包括：具有线形开孔部分的加热室；和包括多个孔并与加热室线形开孔部分相连的盖。盖上形成的孔之间的距离沿加热室的线形开孔部分的长边方向变化。盖上形成的孔的数量沿加热室的线形开孔部分的长边方向也可发生变化。

公开(公告)号：CN100456446C

公开(公告)日：2009-01-28

申请号：CN200610106277.8

申请日：2006-07-17

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 李奎成 ,  宋官燮 ,  康熙哲 ,  金度根

IPC: H01L21/687

CPC classification number: C23C14/50 ,  C23C14/042 ,  H01L51/56

Abstract: 一种用于制造有机发光显示器的夹持器，包括夹持器主体和设置在夹持器主体的相对的侧面上的多个支撑体，其中，各支撑体具有“┐”形的形状，并包括具有预定高度的侧壁和从侧壁弯曲的支撑板。支撑板被形成为具有多个台阶部分，以支撑基底、膜托盘和掩模，以在传送基底、模托盘和掩膜的同时夹持基底、模托盘和掩模，并防止图案扭曲，从而同时在单个室中传送并加工基底、膜托盘和掩模。

公开(公告)号：CN1924080A

公开(公告)日：2007-03-07

申请号：CN200610127710.6

申请日：2006-08-30

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 郑珉在 ,  金度根 ,  康熙哲

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/26

CPC classification number: C23C14/26

Abstract: 本发明公开一种加热器和一种具有该加热器的汽相沉积源，通过确保熔化罐的温度均匀性，能够在板上镀均匀厚度的材料。该加热器设置在一个沉积装置的熔化罐的上侧或下侧至少之一上，用于加热所述熔化罐。该加热器包括复数个有不均匀的节距的弯曲。该加热器中心部分的节距比在所述加热器两个边缘部分处的节距大。这样，所述复数个有不均匀节距的弯曲可降低加热器的中心部分与加热器的边缘部分之间的温度差，从而使镀料蒸发均匀，进而使镀料的厚度均匀。

公开(公告)号：CN1901155A

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：CN200610106277.8

申请日：2006-07-17

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 李奎成 ,  宋官燮 ,  康熙哲 ,  金度根

IPC: H01L21/687

CPC classification number: C23C14/50 ,  C23C14/042 ,  H01L51/56

Abstract: 一种用于制造有机发光显示器的夹持器，包括夹持器主体和设置在夹持器主体的相对的侧面上的多个支撑体，其中，各支撑体具有“┓”形的形状，并包括具有预定高度的侧壁和从侧壁弯曲的支撑板。支撑板被形成为具有多个台阶部分，以支撑基底、膜托盘和掩模，以在传送基底、模托盘和掩膜的同时夹持基底、模托盘和掩模，并防止图案扭曲，从而同时在单个室中传送并加工基底、膜托盘和掩模。

公开(公告)号：CN1800434A

公开(公告)日：2006-07-12

申请号：CN200610000374.9

申请日：2006-01-06

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 黄珉婷 ,  宋官燮 ,  金度根 ,  安宰弘 ,  李星昊

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54

Abstract: 本发明提供了一种用于控制喷射器的方法。在控制沉积系统中的包括熔罐、引导通路和喷射喷嘴的喷射器的方法中，加热引导通路和喷射喷嘴。在加热引导通路和喷射喷嘴后加热熔罐。此外，在冷却包括熔罐、引导通路和喷射喷嘴的喷射器中，冷却熔罐。在冷却熔罐后，冷却引导通路和喷射喷嘴。这种方法的优点在于通过防止由熔罐中蒸发的沉积材料导致喷射喷嘴形成阻塞或喷溅来提高形成在基底上的有机层的均匀性。

公开(公告)号：CN1740378A

公开(公告)日：2006-03-01

申请号：CN200510093332.X

申请日：2005-08-25

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 许明洙 ,  韩尚辰 ,  安宰弘 ,  郑锡宪 ,  金度根

IPC: C23C14/12 ,  C23C14/24

Abstract: 本发明提供一种将基片直立为约垂直的状态下蒸镀有机物而形成有机薄膜的有机物蒸镀装置，以此不仅可以适用于大型基片，而且可以形成厚度均匀的有机薄膜。本发明所提供的有机物蒸镀装置，包含：室，用于形成壳体并使基片相对地面保持在70°至110°角度；有机物存入部，由用于接收需要蒸镀所述基片上有机物的至少一个有机物存入处组成；有机物喷嘴部，用于喷射需要蒸镀到所述基片上的有机物；连接管道，用于连接所述有机物喷嘴部和有机物存入部；移送装置，用于在所述有机物存入部、有机物喷嘴部和连接管道之中至少可以将所述有机物喷嘴部按垂直方向移动。