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公开(公告)号：CN102473765B
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201080029197.1
申请日：2010-07-06
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: H01L31/0236 , H01L31/048 , H01L31/18
CPC classification number: H02S40/20 , H01L31/048 , Y02E10/50
Abstract: 本发明涉及太阳能电池模块用涂布剂，是将平均粒径为15nm以下的二氧化硅微粒(A)和折射率为1.36以下的低折射率树脂粒子(B)分散在水性介质中而成的太阳能电池模块用涂布剂，其特征在于，固体成分为5质量％以下，并且固体成分中的上述二氧化硅微粒(A)和上述低折射率树脂粒子(B)的质量比(二氧化硅微粒(A)/低折射率树脂粒子(B))大于20/80且小于70/30。该太阳能电池模块用涂布剂能够在室温下形成反射率降低效果、耐磨耗性和耐候性优异的防反射膜。
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公开(公告)号：CN102473765A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080029197.1
申请日：2010-07-06
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: H01L31/042
CPC classification number: H02S40/20 , H01L31/048 , Y02E10/50
Abstract: 本发明涉及太阳能电池模块用涂布剂，是将平均粒径为15nm以下的二氧化硅微粒(A)和折射率为1.36以下的低折射率树脂粒子(B)分散在水性介质中而成的太阳能电池模块用涂布剂，其特征在于，固体成分为5质量％以下，并且固体成分中的上述二氧化硅微粒(A)和上述低折射率树脂粒子(B)的质量比(二氧化硅微粒(A)/低折射率树脂粒子(B))大于20/80且小于70/30。该太阳能电池模块用涂布剂能够在室温下形成反射率降低效果、耐磨耗性和耐候性优异的防反射膜。
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公开(公告)号：CN102316996A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201080007722.X
申请日：2010-02-08
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: B05D5/083 , B05D1/36 , B05D2420/01 , B05D2451/00 , B08B17/06 , C09D5/1625 , C09D5/1637 , Y10T428/249994 , B05D2401/20 , B05D2401/32
Abstract: 本发明提供涂覆方法，其特征在于包含如下工序：将在水性介质中含有无机微粒和氟树脂粒子的涂覆组合物涂布于被涂布材料的工序；使所述被涂布材料上的所述涂覆组合物干燥以除去所述水性介质，氟树脂粒子分散且具有孔隙的无机微粒的多孔膜形成的工序；将选自水溶性表面活性剂和水溶性聚合物中一种以上的水溶性物质涂布于所述多孔膜、在所述多孔膜的孔隙中填充所述水溶性物质的工序。根据该涂覆方法可以形成抑制油污附着的效果经过长期仍优异，同时，即使附着油污通过擦除或水清洗也可以容易地除去油污的涂覆膜。
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公开(公告)号：CN101583676A
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：CN200880002401.3
申请日：2008-01-08
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: F28F19/04 , B05D3/042 , C09D1/00 , C09D5/1637 , C09D127/18 , F24F1/0059
Abstract: 本发明涉及涂料组合物，其包含具有小于等于15nm的平均粒径的二氧化硅超微粒子、和氟树脂粒子，其特征在于，前述二氧化硅超微粒子的含量为0.1～5质量％，并且前述二氧化硅超微粒子和前述氟树脂粒子的质量比为70∶30～95∶5。根据本发明的涂料组合物，能够不损害各种物品表面的色调和手感下容易地进行涂覆，同时能提供防污性能及耐久性优异的涂覆膜。
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公开(公告)号：CN102458689B
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201080024267.4
申请日：2010-05-31
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: B05D3/042 , B05D3/10 , B05D5/083 , F28F1/32 , F28F13/18 , F28F19/04 , F28F2245/04
Abstract: 本发明提供在具有复杂形状的仪器中采用简易的构成进行充分的除液，能够形成无不均匀的均一的涂布膜的涂布方法。仪器的涂布方法中，具有：使仪器浸渍于洗涤液的洗涤工序；使上述仪器浸渍于漂洗液的漂洗工序；将水性介质中分散有疏水性的树脂粒子的涂布液涂布于上述仪器的涂布工序；从涂布了上述涂布液的上述仪器的上方和下方的至少两方向上设置的气体喷出口，向上述仪器的规定位置使上述两方向的气体碰撞而喷射的气体喷射工序；和使上述涂布液干燥的干燥工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102356134B
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201080012354.8
申请日：2010-03-10
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: C09D201/00 , C09D7/12
CPC classification number: C09D7/1216 , C08K3/012 , C08K3/22 , C08K3/28 , C09D5/024 , C09D5/1618 , C09D5/1637 , C09D7/61 , C09D7/67 , C09D127/18 , Y10T428/254 , C08K3/36 , C08K3/0025
Abstract: 本发明提供防污性能高、可提高与塑料等疏水性表面的密合性的涂覆组合物及涂覆方法。所述涂覆组合物在水性介质中分散有疏水性的树脂粒子，具有亲水性的无机微粒和包含过氧化物、高氯酸、氯酸盐、过硫酸、过磷酸、高碘酸盐中的至少任意一种的氧化剂。另外，所述涂覆方法具备：准备如下得到的涂覆组合物的工序：在水性介质中分散有亲水性的无机微粒和疏水性的树脂粒子、进而添加包含过氧化物、高氯酸、氯酸盐、过硫酸、过磷酸、高碘酸盐中的至少任意一种的氧化剂；将所述涂覆组合物涂敷于被涂覆部件的工序；和加热所述被涂覆部件上的所述涂覆组合物的工序。
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公开(公告)号：CN101728134B
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN200910127428.1
申请日：2009-03-11
Applicant: 三菱电机株式会社
Abstract: 本发明涉及的电路断路器，其特征在于，具备：具有固定接点的固定触头、具有可动接点的可动触头、使可动触头动作来开闭固定接点及可动接点的开闭机构、把处于接触状态的固定接点与可动接点分离时产生的电弧加以消弧的消弧装置，在暴露于发生电弧的部分，配置含有脂肪族聚酯树脂及以多糖类作为原料的树脂的至少任何一者的消弧用绝缘成型物。通过这种构成，通过因电弧暴露产生的气体，可把大电流断路时的过电流抑制到低水平，可以得到断路性能优异的电路断路器。
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公开(公告)号：CN102458689A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201080024267.4
申请日：2010-05-31
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: B05D3/042 , B05D3/10 , B05D5/083 , F28F1/32 , F28F13/18 , F28F19/04 , F28F2245/04
Abstract: 本发明提供在具有复杂形状的仪器中采用简易的构成进行充分的除液，能够形成无不均匀的均一的涂布膜的涂布方法。仪器的涂布方法中，具有：使仪器浸渍于洗涤液的洗涤工序；使上述仪器浸渍于漂洗液的漂洗工序；将水性介质中分散有疏水性的树脂粒子的涂布液涂布于上述仪器的涂布工序；从涂布了上述涂布液的上述仪器的上方和下方的至少两方向上设置的气体喷出口，向上述仪器的规定位置使上述两方向的气体碰撞而喷射的气体喷射工序；和使上述涂布液干燥的干燥工序。
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公开(公告)号：CN101728134A
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200910127428.1
申请日：2009-03-11
Applicant: 三菱电机株式会社
Abstract: 本发明涉及的电路断路器，其特征在于，具备：具有固定接点的固定触头、具有可动接点的可动触头、使可动触头动作来开闭固定接点及可动接点的开闭机构、把处于接触状态的固定接点与可动接点分离时产生的电弧加以消弧的消弧装置，在暴露于发生电弧的部分，配置含有脂肪族聚酯树脂及以多糖类作为原料的树脂的至少任何一者的消弧用绝缘成型物。通过这种构成，通过因电弧暴露产生的气体，可把大电流断路时的过电流抑制到低水平，可以得到断路性能优异的电路断路器。
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公开(公告)号：CN101410958A
公开(公告)日：2009-04-15
申请号：CN200780010859.9
申请日：2007-03-23
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: H01L21/314 , H01L21/31 , C23C16/507
CPC classification number: H01L21/02274 , C23C16/30 , C23C16/342 , C23C16/511 , H01J37/32532 , H01L21/02112 , H01L21/02205 , H01L21/318
Abstract: 提供了一种等离子体CVD设备，所述等离子体CVD设备包括：具有用于供给具有环硼氮烷骨架化合物的入口(5)的反应室(1)；设置在反应室(1)中的供电电极(7)，用于支承衬底(8)并且被施加负电荷(7)；以及等离子体产生工具(12)，其介由衬底(8)与供电电极(7)相对设置，用于在反应室(1)内产生等离子体(11)。还提供了一种薄膜形成方法，其中薄膜通过采用具有环硼氮烷骨架的化合物作为原料而形成，以及包括由这样方法形成的薄膜作为绝缘膜的半导体装置。本发明能够产生其中低介电常数和高机械强度可稳定保持长时间且保证绝缘特性的薄膜。
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