公开(公告)号：CN102213867A

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：CN201110073302.8

申请日：2011-03-25

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 竹添法隆 ,  佐藤伸吾 ,  远藤真一

IPC: G02F1/1337 ,  F21V29/02

Abstract: 本发明提供一种能够进行被处理对象物的光照射面内紫外线照度的面内均匀性高，而且被处理对象物的温度上升少、被处理对象物的光照射面内温度的面内均匀性高的紫外线照射处理的紫外线照射装置。该紫外线照射装置在包含光反应性物质的液晶面板的制造工序中使用，具备由多个光源元件与作为被处理对象物的液晶面板材料相对地并列排列构成的光源单元、以及向上述光源元件的每一个中的外套管的内部供给冷却风的冷却机构，所述多个光源元件的每一个由放射在300nm～400nm的波长上具有发光峰值的光的长条状的灯、以及在内部穿插有该灯的状态下设置的具有光透射性的长条状的外套管构成。

公开(公告)号：CN203705775U

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：CN201420043416.7

申请日：2014-01-23

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 佐藤伸吾

IPC: G02F1/1337

CPC classification number: G02F1/133788 ,  G02F1/1303

Abstract: 本实用新型提供一种光取向用偏振光照射装置和光取向用偏振光照射方法，能够对板状构件进行光取向加工，能够实现高的生产率。照射单元(1)向照射区域(R)照射偏振光，台移动机构(3)使搭载了基板(S)的第一和第二台(21、22)交替地输送到照射区域(R)并返回。在位于第一基板搭载位置的第一台(21)与照射区域(R)之间确保第二台(22)上的基板(S)经过照射区域(R)的量以上的空间(L1)，在位于第二基板搭载位置的第二台(22)与照射区域(R)之间确保第一台(21)上的基板(S)经过照射区域的量以上的空间(L2)。