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公开(公告)号：CN107683635B
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN201680035483.6
申请日：2016-04-01
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 在确保晶种层与绝缘层的紧贴性的同时实现布线图案的细微化。作为布线基板的制造工序，包括：对在导电层上层叠绝缘层而成的布线基板材料，形成贯通绝缘层的贯通孔的第一工序；在第一工序后，通过对布线基板材料照射波长220nm以下的紫外线，从而进行该布线基板材料的除污处理的第二工序；在第二工序后，在贯通孔内以及绝缘层上，使材料粒子碰撞而附着从而形成晶种层的第三工序；以及在晶种层上，通过电解镀形成由导电材料构成的电镀层的第四工序。
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公开(公告)号：CN105874892B
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201580003124.8
申请日：2015-01-19
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: H05K3/26
Abstract: 本发明的目的是提供一种即使排列配置的多个紫外线灯(21)的相互邻接的紫外线灯(21)的间距(P)大，也能够以高处理效率均匀地处理布线基板材料(1)的除胶渣处理装置(10)。本发明的除胶渣处理装置的特征在于，具备：多个紫外线灯(21)，沿布线基板材料(1)被处理面(1a)排列配置；板状的光透射性窗部件(31)；以及处理用气体供给机构，布线基板材料(1)被配置在处理用气体供给机构的气体供给口(15a)与气体排出口(16a)之间的位置，在形成于布线基板材料(1)与光透射性窗部件(31)之间的空间中，处理用气体沿多个紫外线灯(21)排列的方向流动，并形成该处理用气体的层流。
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公开(公告)号：CN103293768A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201310065061.1
申请日：2013-03-01
Applicant: 优志旺电机株式会社
Inventor： 远藤真一
IPC: G02F1/1337
Abstract: 提供一种液晶面板处理用水槽及光处理装置，将含树脂液晶面板配置在水中，并向上述液晶面板照射光，使将液晶面板浸渍在水中的作业简化，不使水槽内的液体起波动，不使气泡残留在液晶面板表面，且使光源灯的构造简化。特征在于，具备在上述水槽内垂直配置上述液晶面板的面板保持件，在上述水槽的侧壁，在与上述液晶面板的被照射面对置的位置，设置有照射光透射窗，进而，特征在与，与上述照射光透射窗对置地设置有光源。
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公开(公告)号：CN101533756B
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN200910126941.9
申请日：2009-03-10
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 本发明的目的是在于提供可抑制焊料的劣化的准分子灯及该准分子灯的制造方法。该准分子灯，隔着放电容器的密闭空间相对地形成一对电极；并且各个电极与将电力供应于各个电极所用的引线通过焊料固定。本发明的准分子灯，是在由介质材料所构成的放电容器内部形成的密闭空间中封入有放电用气体，隔着上述密闭空间、在上述放电容器的外表面形成包含金属薄膜的一对电极，用于馈电给各个电极的各个引线由焊料与各个电极电连接，该准分子灯其特征为：在上述焊料的周围形成有保护膜。
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公开(公告)号：CN101431000B
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：CN200810171076.5
申请日：2008-11-06
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 提供一种紫外线照射处理装置，防止准分子灯与处理体之间的不希望的放电，不会损伤处理体。上述紫外线照射处理装置包括准分子灯，该准分子灯包括在角部具有弯曲部的扁平筒状放电容器，上述紫外线照射处理装置的特征在于，高压电极与接地电极间的沿面放电距离小于高压电极与处理体间的最短放电距离。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101131228B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200710141093.X
申请日：2007-08-16
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: F21S2/00 , H01L21/00 , F21W131/403
Abstract: 提供一种准分子灯装置，可以适于应对基板的大型化，并且可以降低运转成本，可以切实地进行基板表面的处理。本发明涉及的准分子灯装置的特征在于包括：容纳准分子灯的灯罩；气体供给用配管，设置在灯罩内，位于与准分子灯平行且交互的位置，设有气体喷出口；以及气体供给单元，向气体供给用配管中导入含水蒸气的惰性气体，通过上述气体供给单元，绝对湿度控制为预定值的惰性气体被供给到上述气体供给用配管中。此外上述绝对湿度换算成重量绝对湿度为0.5～6.5g/kg。
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公开(公告)号：CN108781516A
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201780014239.6
申请日：2017-02-27
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 本发明公开了一种布线基板的制造方法，其在不将绝缘层表面粗糙化的情况下适当地进行去胶渣处理。布线基板的制造工序包括：光照射工序，其中，对在导电层(11)上层叠绝缘层(12)、在该绝缘层(12)上形成保护层(13)、且形成有贯通绝缘层(12)及保护层(13)的贯通孔(导通孔)(12a)的布线基板材料，在包含氧的气氛中照射紫外线；和镀覆工序，其中，对于保护层(13)从上述布线基板材料剥离后的布线基板材料，在包含贯通孔(12a)的底的表面形成由导电材料形成的镀层(14)。
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公开(公告)号：CN107683635A
公开(公告)日：2018-02-09
申请号：CN201680035483.6
申请日：2016-04-01
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 在确保晶种层与绝缘层的紧贴性的同时实现布线图案的细微化。作为布线基板的制造工序，包括：对在导电层上层叠绝缘层而成的布线基板材料，形成贯通绝缘层的贯通孔的第一工序；在第一工序后，通过对布线基板材料照射波长220nm以下的紫外线，从而进行该布线基板材料的除污处理的第二工序；在第二工序后，在贯通孔内以及绝缘层上，使材料粒子碰撞而附着从而形成晶种层的第三工序；以及在晶种层上，通过电解镀形成由导电材料构成的电镀层的第四工序。
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公开(公告)号：CN104838732A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201380064293.3
申请日：2013-12-26
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: H05K3/26
CPC classification number: H05K3/0088 , H05K1/0373 , H05K3/227 , H05K3/26 , H05K2201/0209 , H05K2203/0285 , H05K2203/0292 , H05K2203/0743 , H05K2203/075 , H05K2203/0766 , H05K2203/081 , H05K2203/087 , H05K2203/1509
Abstract: 提供一种不论是起因于无机物质及有机物质的哪种的残渣都能够可靠地除去、不需要使用需要废液处理的除渣处理方法及除渣处理装置。本发明的除渣处理方法是层叠有由含有填料的树脂构成的绝缘层和导电层的配线基板材料的除渣处理方法，其特征在于，具有：紫外线照射处理工序，对上述配线基板材料照射波长220nm以下的紫外线；以及物理性振动处理工序，对经过了该紫外线照射处理工序的配线基板材料施加物理性振动。
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公开(公告)号：CN101629708B
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN200910160428.1
申请日：2009-07-16
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 一种准分子灯装置，将装备于较长筐体的灯支撑体的位置平常保持一定，不会有灯支撑体与被处理物的摩擦，消除由于隔壁的热变形所导致的灯支撑体的位置变化，且防止从准分子灯的周围所产生的臭氧对搭载于筐体内的设备的腐蚀。该准分子灯装置(1)具备：筐体(1)；被筐体支撑的悬架体(4)；被悬架体支撑的灯支撑体(6)，被灯支撑体支撑的准分子灯(5)，以及，设于准分子灯与悬架体之间的隔壁(7)；灯支撑体松嵌合于设在隔壁上的贯通孔(8)并被悬架体支撑。而且，设置有调整灯支撑体相对于悬架体的上下方向的位置的调整机构，设置有防止气体通过贯通孔与松嵌合于贯通孔的灯支撑体之间的遮蔽机构。
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