自适应光学设备、自适应光学方法和成像设备

    公开(公告)号:CN102058390B

    公开(公告)日:2013-08-07

    申请号:CN201010547484.3

    申请日:2010-11-17

    CPC classification number: A61B3/14

    Abstract: 本发明涉及一种自适应光学设备、自适应光学方法和成像设备。所述自适应光学设备包括:像差测量单元,其测量由被检对象引起的像差,基于从被检对象返回的返回光测量所述像差;像差校正单元,其根据通过像差测量单元测量的像差执行像差校正;照射单元,其用经像差校正单元校正的光照射被检对象;以及,获取单元,其基于通过像差测量单元测量的像差获取基于被检对象的透射率的信息。

    自适应光学设备、自适应光学方法和成像设备

    公开(公告)号:CN102058390A

    公开(公告)日:2011-05-18

    申请号:CN201010547484.3

    申请日:2010-11-17

    CPC classification number: A61B3/14

    Abstract: 本发明涉及一种自适应光学设备、自适应光学方法和成像设备。所述自适应光学设备包括:像差测量单元,其测量由被检对象引起的像差,基于从被检对象返回的返回光测量所述像差;像差校正单元,其根据通过像差测量单元测量的像差执行像差校正;照射单元,其用经像差校正单元校正的光照射被检对象;以及,获取单元,其基于通过像差测量单元测量的像差获取基于被检对象的透射率的信息。

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