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公开(公告)号：CN100355573C
公开(公告)日：2007-12-19
申请号：CN200310124777.0
申请日：2003-12-26
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1631 , B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1639 , B41J2/1642
Abstract: 本发明涉及制造喷墨记录头的基础件，该喷墨记录头包括：从外部接收液体的供应口、喷射液体的喷射出口、与喷射出口液体相通的用来将从供应口供应的液体引导到喷射出口的液体流动通道、产生液体喷射压力的喷射压力产生部分，该部分布置在液体流动通道一部分上，供应口形成为在基片内的贯穿开口，在该基片上提供有构成喷射压力产生部分的喷射压力产生部件，该基础件包括凹槽部分，它在提供有喷射压力产生部件的基片一侧形成，凹槽部分从供应口边缘延伸到喷射压力产生部件邻近；保护层，至少提供在构成凹槽部分的基片表面部分的表面上。该喷墨记录头，基片正面侧的供墨孔边缘在构造上符合预定规范；位于基片正面侧的直接靠近供墨孔边缘的附属凹槽高度耐墨腐蚀。
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公开(公告)号：CN1583409A
公开(公告)日：2005-02-23
申请号：CN200410033091.5
申请日：2004-02-13
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1603 , B41J2/14145 , B41J2/1629
Abstract: 本发明的基板的加工方法，包括：在基板上形成保护膜的工序，腐蚀上述保护膜的表面的工序，在上述已蚀刻的保护膜上形成耐腐蚀膜的工序，由上述保护膜和上述耐腐蚀膜形成开口图形的工序，通过上述开口图形腐蚀上述基板由此在上述基板形成开口部的工序，去除当形成上述开口部时产生的向上述开口部内突起的上述保护膜的端部的工序，以及去除上述耐腐蚀膜的工序的工序，由此就能够在形成开口部的基板表面上形成高精度的保护膜。
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公开(公告)号：CN1628982A
公开(公告)日：2005-06-22
申请号：CN200410081989.X
申请日：2004-12-15
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1603 , B41J2/14145 , B41J2/1623 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1642 , B41J2/1643 , B41J2/1646 , Y10T428/24331 , Y10T428/24479 , Y10T428/24562 , Y10T428/2457 , Y10T428/24612
Abstract: 一种梁，该梁具有一个由单晶硅制成的基底材料和至少一个凸起，凸起被一体制成，凸起的至少一端受到支撑，凸起包括两个具有定向平面(111)的表面，该梁包括：一个底面，该底面位于一个与基底材料共面的平面内；一个沟槽，该沟槽从底面贯穿到凸起的顶部；和一个保护部件，该保护部件对各向异性晶体蚀刻液体具有耐受性并覆盖着沟槽的一个内壁。
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公开(公告)号：CN1515413A
公开(公告)日：2004-07-28
申请号：CN200310124777.0
申请日：2003-12-26
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1631 , B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1639 , B41J2/1642
Abstract: 一种用于制造喷墨记录头的基础件，其中该喷墨记录头包括：用来从外部接收液体的供应口、喷射液体的喷射出口、与喷射出口液体相通的用来将从供应口供应的液体引导到喷射出口的液体流动通道、产生用于喷射液体的压力的喷射压力产生部分，该产生部分布置在液体流动通道一部分上，并且其中供应口形成为在基片内的贯穿开口，在该基片上提供有构成喷射压力产生部分的喷射压力产生部件，该基础件包括凹槽部分，它在提供有喷射压力产生部件的基片一侧形成，该凹槽部分从供应口边缘到喷射压力产生部件邻近处延伸；以及保护层，它至少在构成凹槽部分的基片表面部分的表面上提供。
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