公开(公告)号：CN116107167A

公开(公告)日：2023-05-12

申请号：CN202211394286.7

申请日：2022-11-08

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 佐藤裕典 ,  郡大佑 ,  小林直贵 ,  矢野俊治

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  G03F7/16

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜的形成方法。本发明提供具有优良的填埋特性、密合性、及良好的平坦化特性的抗蚀剂下层膜材料、使用此材料的图案形成方法、及抗蚀剂下层膜的形成方法。一种抗蚀剂下层膜材料，是多层抗蚀剂法中使用的抗蚀剂下层膜材料，其特征为含有(A)具有下列通式(1)表示的结构单元的树脂、及(B)有机溶剂，且前述树脂的含量为20质量％以上。

公开(公告)号：CN108693713B

公开(公告)日：2022-06-03

申请号：CN201810275797.4

申请日：2018-03-30

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 佐藤裕典 ,  长井洋子 ,  渡边武 ,  郡大佑 ,  荻原勤

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种具有优异的耐受碱性过氧化氢水的性能、良好的嵌入/平坦化特性、及干法蚀刻特性的抗蚀剂下层膜材料、使用了该抗蚀剂下层膜材料的图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法。其为用于多层抗蚀剂法的抗蚀剂下层膜材料，其含有：(A1)下述通式(X)表示的化合物中的一种或两种以上；以及，(B)有机溶剂。[化学式1]式中，n01表示1～10的整数，n01为2时，W表示亚硫酰基、磺酰基、醚基、或碳原子数为2～50的二价有机基团，n01为2以外的整数时，W表示碳原子数为2～50的n01价有机基团。此外，Y表示单键或碳原子数为1～10的可包含氧原子的二价连接基团。

公开(公告)号：CN111948903A

公开(公告)日：2020-11-17

申请号：CN202010413700.9

申请日：2020-05-15

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 郡大佑 ,  中原贵佳 ,  泽村昂志 ,  佐藤裕典 ,  山本靖之

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  C08G61/02

Abstract: 本发明涉及有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物。本发明提供一种有机膜形成用组成物，其含有碳含量高而有热硬化性的聚合物，会展现高蚀刻耐性、优良的扭曲耐性，并提供使用其的图案形成方法及适合其的聚合物。有机膜形成用组成物包含具下列通式(1A)或(1B)表示的部分结构的聚合物及有机溶剂。上述通式(1A)中，Ar1、Ar2表示也可以有取代基的苯环或萘环，X为单键或亚甲基，L为下列中的任一者；上式中的破折线代表价键，R为氢原子或碳数1～20的1价有机基团。 上述通式(1B)中，W1为羟基、碳数1～10的烷氧基或也可以有取代基的具至少1个以上的芳香环的有机基团，Ar1、Ar2、X、L同前所述。