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公开(公告)号:CN102049716B
公开(公告)日:2012-04-04
申请号:CN201010227864.9
申请日:2010-07-13
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B13/00
Abstract: 一种用于大口径平面光学元件抛光的可调式压力装置,涉及一种压力装置。提供一种用于调节工件的抛光面在加工时所受的压强,不仅可改善工件的抛光质量和控制材料去除率,而且结构简单且实用的用于大口径平面光学元件抛光的可调式压力装置。设有质量块和夹具平板。质量块作为压力源;夹具平板设有支杆、底座和吸附基模,支杆用于装载质量块,底座下部连接吸附基模,其中吸附基模设有基体和薄膜,底座通过吸附基模的薄膜吸附在工件表面,使得整个装置固定在工件的相应部位。
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公开(公告)号:CN101972952B
公开(公告)日:2012-01-04
申请号:CN201010227892.0
申请日:2010-07-13
Applicant: 厦门大学
Abstract: 轴对称可变磁场抛光轮,涉及一种抛光工具。提供一种结构简单且实用,基于磁流变抛光技术,可实现非球面光学元件超精密抛光的轴对称可变磁场抛光轮。设有抛光盘、磁芯、线圈、转动盘、导座、丝杆组和电机。抛光盘固定在主轴上。抛光盘为空壳体结构。第1电机固定在导座上,第1电机驱动丝杆;第2电机控制转动盘;导座置于转动盘上,转动盘固定在抛光盘空壳体内壁;控制抛光盘内所有线圈的磁场强弱和磁场方向;每片抛光区域的磁芯由2块磁体正对放置组成,2块磁体之间留有空隙,2块磁体通过丝杆调整2块磁体之间空隙;磁芯内沿轴向设有至少4个线圈,至少4个线圈在抛光盘每片抛光区域内排列成矩形。
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公开(公告)号:CN101963483A
公开(公告)日:2011-02-02
申请号:CN201010515089.7
申请日:2010-10-21
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种用于光学元件检测的三轴旋转工作平台,涉及一种光学元件检测工具。提供一种可以三轴旋转,配合三坐标测量机实现对光学元件形面的精确测量的用于光学元件检测的三轴旋转工作平台。设有工作台、底座、工作台倾角调节机构和工作台紧固机构。工作台下表面安装在底座上的凹槽上;底座凹槽内设有油槽;工作台倾角调节机构设有6个定位螺栓,工作台紧固机构设有连杆、连杆弹簧、横向紧固螺杆、纵向紧固螺杆、紧固楔块和挡板;连杆穿过工作台中心孔,连杆下端通过弹簧连接在底座上,连杆上端设有紧固楔块;两个横向紧固螺杆设于紧固楔块侧端;纵向紧固螺杆隔着挡板旋转进入设于紧固楔块顶部的螺孔内,通过旋转纵向紧固螺杆可以锁紧工作台。
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