-
公开(公告)号：CN1898365A
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200480038844.X
申请日：2004-12-22
Applicant: 巴斯福股份公司
CPC classification number: C10L1/003 , C10L1/1857 , C10L1/223 , C10L1/232 , C10M171/007 , C10M2207/08 , C10M2215/068 , C10N2240/56
Abstract: 本发明涉及含有至少一种蒽醌衍生物作为标记物的燃料和润滑剂添加剂浓缩物，含有所述浓缩物的矿物油以及将所述类型的浓缩物添加至矿物油中的用途。
-
公开(公告)号：CN101175836A
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：CN200680016182.5
申请日：2006-05-10
Applicant: 巴斯福股份公司
IPC: C09K19/32
CPC classification number: C09K19/322
Abstract: 本发明涉及式(I)化合物，其中各变量具有说明书中给出的技术含义。本发明进一步涉及一种包含一种或多种本发明化合物的可聚合或不可聚合液晶组合物，涉及一种可通过可聚合的本发明液晶组合物的低聚或聚合获得的低聚物或聚合物，涉及一种通过将可聚合的本发明液晶组合物施用于底材且随后聚合而印刷或涂覆该底材的方法，涉及本发明液晶组合物或本发明低聚物或聚合物在生产光学或电光学组件中的用途，涉及一种制备所选本发明化合物的方法，以及涉及尤其适用于制备所选本发明化合物的中间体。
-
公开(公告)号：CN1942444A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200580011436.X
申请日：2005-04-14
Applicant: 巴斯福股份公司
IPC: C07D213/85 , C08K5/3445
CPC classification number: C07D213/85 , C09K15/30
Abstract: 本发明涉及通式(I)的吡啶二酮衍生物和任选地其异构体用于保护有机材料免受光线的损害影响的用途，其中R1为氢，任选地取代的和/或如果合适含杂原子的烷基、链烯基或炔基，或者任选地取代的环烷基、环烯基、杂环烷基、芳基或杂芳基；R2独立于R1，具有R1或NR4R5的定义；R4、R5彼此独立且独立于R1，具有R1或COR6的定义；A为CN、COR7、COOR7或CONR7R8；R6、R7、R8彼此独立且独立于R1，具有R1的定义；n表示数值1、2、3或4，当n为1时，R3为氢、任选地取代的和/或如果合适含杂原子的烷基、链烯基或炔基、或者任选地取代的环烷基、环烯基或杂环烷基；当n不为1时，R3为n价的脂肪族或环脂族基团，如果合适其可以含有杂原子。本发明还涉及包含赋予免受光线损害影响的保护的用量的至少一种该式I吡啶二酮衍生物和至少一种有机材料的组合物，并且涉及式I的吡啶二酮衍生物。
-
公开(公告)号：CN101175836B
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN200680016182.5
申请日：2006-05-10
Applicant: 巴斯福股份公司
IPC: C07D237/04
CPC classification number: C09K19/322
Abstract: 本发明涉及式(I)化合物，其中各变量具有说明书中给出的技术含义。本发明进一步涉及一种包含一种或多种本发明化合物的可聚合或不可聚合液晶组合物，涉及一种可通过可聚合的本发明液晶组合物的低聚或聚合获得的低聚物或聚合物，涉及一种通过将可聚合的本发明液晶组合物施用于底材且随后聚合而印刷或涂覆该底材的方法，涉及本发明液晶组合物或本发明低聚物或聚合物在生产光学或电光学组件中的用途，涉及一种制备所选本发明化合物的方法，以及涉及尤其适用于制备所选本发明化合物的中间体。
-
公开(公告)号：CN100425971C
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200480023774.0
申请日：2004-08-17
Applicant: 巴斯福股份公司
IPC: G01N17/00
CPC classification number: G01N17/004 , G01N21/00
Abstract: 本发明涉及一种检测样品因环境影响导致的物理可测性质改变的方法。根据所述方法：(i)使样品在曝光期间经受环境影响，其中该环境影响以已知依赖于位置的、以模型函数M(x，y)为基础的强度分布I(x，y)(强度模型)作用于样品，(ii)根据样品位置坐标(x，y)和分析辐射波长检测分析辐射因样品导致的透射、反射或散射，由此确定响应函数A(x，y)，该函数根据样品位置坐标(x，y)和波长再现透射、反射或散射的分析辐射的强度，以及(iii)环境影响的已知依赖于位置的强度分布I(x，y)或其基于的模型函数M(x，y)与响应函数A(x，y，λ)之间的相关性通过相关分析确定，该相关性是样品因环境影响导致的物理可测性质改变的量度。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101107509A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：CN200580047096.6
申请日：2005-12-21
Applicant: 巴斯福股份公司
CPC classification number: G01N17/004 , G01J3/50
Abstract: 本发明涉及一种检测样品P和参照物R的物理可测特性之间的差异的高灵敏度方法，其特征在于进行如下步骤：(i)提供样品P，(ii)提供参考样品R，(iii)提供二维参考场RF，(iv)从所述参考样品R和参考场RF的区域形成第一二维图形，并且从所述样品P和参考场RF的区域形成第二二维图形，所述第一和第二图形以位置相关和波长相关的图形函数M(x，y，λ)描述，(v)在可自由选择的时间t0对所述第一图形，以及在时间t对所述第二图形，通过检测器将所述第一图形和第二图形对分析辐射的透射、反射或散射分别检测为第一和第二图形的局部坐标(x，y)和分析辐射的波长λ的函数，从而确定所述第一图形的第一图形响应函数M0(x，y，λ，t0)，其包括参考响应函数R0(x，y，λ，t0)的物理分割区和第一参考场响应函数RF0(x，y，λ，t0)的物理分割区，并确定第二图形的第二图形响应函数Mt(x，y，λ，t)，其包括样品响应函数Pt(x，y，λ，t)的物理分割区和第二参考场响应函数RFt(x，y，λ，t)的物理分割区，每种情况下的函数M0和Mt将透射、反射或散射分析辐射的强度分别再现为在不同检测时间t0和t的第一和第二图形的局部坐标(x，y)和波长λ的函数，(vi)以如下方式校正样品响应函数Pt，即通过所述第一和第二参考场响应函数RF0和RFt，从所述样品响应函数Pt消除检测器引起的位置相关、时间相关以及波长相关的起伏，从而获得校正样品响应函数Pt,corr，(vii)从所述校正样品响应函数Pt,corr和参考响应函数R0确定物理可测特性的变化。
-
公开(公告)号：CN1989408A
公开(公告)日：2007-06-27
申请号：CN200580024980.8
申请日：2005-07-19
Applicant: 巴斯福股份公司
CPC classification number: G01N21/359 , G01N33/2882 , G01N2021/3196
Abstract: 本发明涉及一种测定均匀分布在介质中的至少一种化学物质V′的同一性或非同一性的方法，其通过：a)将含有至少一种均匀分布的化学物质V′的介质曝露于具有可变波长λ的分析辐射中，和b)借助吸收、反射、发射和/或散射的辐射来确定光谱测量函数I′(λ)。本发明方法特征在于根据方程式I确定相关函数K(δλ，c′，c)，其中K(δλ，c′，c)表示取决于函数I′(λ，c′)和I(λ，c)的相对位移δλ及至少一种化学物质V′及V的浓度c′及c的相关性；c′表示均匀分布在介质中的具有已知或待定同一性的至少一种化学物质V′的浓度；c表示均匀分布在介质中的具有已知同一性的至少一种化学物质V的浓度，I′(λ，c′)表示具有浓度c′的至少一种均匀分布在介质中的化学物质V′的测量函数，I(λ，c)表示具有浓度c的至少一种均匀分布在介质中的化学物质V的比较函数，和N表示标准化因子，并借助相关函数K(δλ，c′，c)测定化学物质V′与V之间的同一性或非同一性。
-
公开(公告)号：CN1839305A
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：CN200480023774.0
申请日：2004-08-17
Applicant: 巴斯福股份公司
IPC: G01N17/00
CPC classification number: G01N17/004 , G01N21/00
Abstract: 本发明涉及一种检测样品因环境影响导致的物理可测性质改变的方法。根据所述方法：(i)使样品在曝光期间经受环境影响，其中该环境影响以已知依赖于位置的、以模型函数M(x，y)为基础的强度分布I(x，y)(强度模型)作用于样品，(ii)根据样品位置坐标(x，y)和分析辐射波长检测分析辐射因样品导致的透射、反射或散射，由此确定响应函数A(x，y)，该函数根据样品位置坐标(x，y)和波长再现透射、反射或散射的分析辐射的强度，以及(iii)环境影响的已知依赖于位置的强度分布I(x，y)或其基于的模型函数M(x，y)与响应函数A(x，y，λ)之间的相关性通过相关分析确定，该相关性是样品因环境影响导致的物理可测性质改变的量度。
-
公开(公告)号：CN1293680A
公开(公告)日：2001-05-02
申请号：CN99804194.7
申请日：1999-01-13
Applicant: 巴斯福股份公司
Inventor： K·马索尔 , A·伯姆 , W·马彻勒 , P·罗茨曼尼茨 , S·克尔霍-拜尔 , K·穆伦 , U·罗尔 , F-W·罗尔弗 , U·施罗塞 , W·施罗夫 , H·翰斯古拉特 , K·赛门斯梅也 , P·德拉威尔 , R·森斯 , T·弗罗德 , 分部孝范 , 池田尚浩
IPC: C08F2/44 , C08F2/22 , C09D11/00 , C07C271/12 , C07C69/54 , C07D221/18 , C07D471/06 , C09D5/02 , C09D5/03 , D21H19/00
CPC classification number: C08F2/32 , C08F2/44 , C08K3/00 , C09B69/102
Abstract: 本发明涉及一种在自由基引发剂的存在下,通过烯属不饱和单体的自由基水乳液聚合反应来制备含染料的聚合物水分散体的方法,其中至少某些单体以其分散相包含至少一种油溶性染料的水包油乳液E1形式使用,其中E1的分散相基本上由直径小于500纳米的含染料的单体液滴形成。本发明还涉及如权利要求35所述的具有结构式Ⅲ的二萘嵌苯染料。本发明还涉及包含本发明含染料的聚合物的含染料配制物,并涉及包含具有荧光增白剂的聚合物的含染料配制物。
-
公开(公告)号：CN1162970A
公开(公告)日：1997-10-22
申请号：CN95196134.9
申请日：1995-10-31
Applicant: 巴斯福股份公司
Abstract: 具有结构式I所示结构的吡啶酮染料，其中：X是N或CH，R1是一个五元或六元碳环或杂环基，R2是氰基、氨基甲酰基、C1-C6烷氧基羰基或C1-C4链烷酰基及R3是未取代或取代的C1-C13烷基，或未取代或取代的苯基或未取代或取代的氨基，和一种这些染料热转移的方法及一种用这些新型染料染色或打印合成材料的方法。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
23
records
(took 0.03 seconds)
