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公开(公告)号：CN104178731A
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201410410634.4
申请日：2014-08-20
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明涉及一种WO3薄膜的制备方法，用离子束溅射沉积技术结合后续退火处理工艺制备具有优良光学性能的电致变色WO3薄膜，并通过控制WO3薄膜中缺氧相强度来实现对光学调制性能的调控。以ITO导电玻璃为衬底，用离子束溅沉积技术制备WOx薄膜，用99.999%纯O2作为退火气氛，在不同温度下对WOx薄膜作不同时间的退火处理，制备含缺氧相的WO3薄膜。对WO3薄膜进行Li+电化学着褪色反应，施加着褪色电压后，所制备的电致变色WO3薄膜着色态积分透射率低，缺氧相强度可调，光学调制幅度大且可控性好。WO3薄膜制备工艺简单，有望应用于灵巧窗、电子信息显示器、无眩反光镜等领域。
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公开(公告)号：CN116083865B
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202211724267.6
申请日：2022-12-30
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明公开了一种提高非晶WO3薄膜光学透过率的方法，利用可见光或紫外光充分辐照处理非晶WO3薄膜，能够有效提高WO3薄膜光学透过率，且在提高WO3薄膜的光学透过率、大幅提升样品的透明度的同时其电致变色效率或光学调制也得到提升，方法简单有效，制备成本低廉，具有广阔的应用前景。
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公开(公告)号：CN117778972A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311505039.4
申请日：2023-11-13
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明公开了一种具有快速电致变色响应效果的非晶WO3薄膜及其制备方法和应用，通过Ni、Ag共掺杂非晶WO3薄膜，在没有降低WO3薄膜的光学调制的前提下大幅度缩短了WO3薄膜的电致变色响应时间，制得的电致变色薄膜具有广阔的应用前景，采用磁控溅射法制备Ni、Ag共掺杂的非晶WO3薄膜，该方法具有均匀镀膜、良好的膜基附着性、易于大面积制备和高重复性等优势，溅射过程中将Ni和Ag丝以井字状固定在W靶上，在溅射WO3薄膜的同时就实现了Ni、Ag共掺杂，方法简单，操作性强。
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公开(公告)号：CN114574805A
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202210094992.3
申请日：2022-01-26
Applicant: 常州大学
IPC: C23C14/08 , C23C14/35 , C23C14/58 , G02F1/1524
Abstract: 本发明公开了一种提高非晶WO3薄膜电致变色效率的方法。用射频磁控溅射法在ITO玻璃衬底上制备了非晶WO3薄膜，然后在含量为99.7％的无水乙醇中充分浸泡后取出烘干，其在676.2nm波长处的光学调制最高可以提高35％～44％，电致变色效率大幅度提高。本发明利用射频磁控溅射法进行非晶WO3薄膜的沉积，它具有膜层均匀、膜基附着性好、易于大面积制备、重复性高和无需反应气体氧气等特点，而且乙醇浸泡处理方法简单、高效，制备成本低廉。
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公开(公告)号：CN104178731B
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201410410634.4
申请日：2014-08-20
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明涉及一种WO3薄膜的制备方法，用离子束溅射沉积技术结合后续退火处理工艺制备具有优良光学性能的电致变色WO3薄膜，并通过控制WO3薄膜中缺氧相强度来实现对光学调制性能的调控。以ITO导电玻璃为衬底，用离子束溅沉积技术制备WOx薄膜，用99.999%纯O2作为退火气氛，在不同温度下对WOx薄膜作不同时间的退火处理，制备含缺氧相的WO3薄膜。对WO3薄膜进行Li+电化学着褪色反应，施加着褪色电压后，所制备的电致变色WO3薄膜着色态积分透射率低，缺氧相强度可调，光学调制幅度大且可控性好。WO3薄膜制备工艺简单，有望应用于灵巧窗、电子信息显示器、无眩反光镜等领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103866256B
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201410103801.0
申请日：2014-03-20
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明公开了金属氧化物多孔纳米结构薄膜（MO‑PNFs）的制备方法，涉及多孔薄膜的制备技术领域。本发明首先利用磁控共溅射镀膜技术在室温下沉积了不锈钢基金属‑铝合金薄膜，然后在高真空下进行退火处理，最后置于NaOH溶液中进行腐蚀，除去较活泼的铝组分，并利用不锈钢衬底和较惰性的金属组分或者其半氧化产物构成原电池，进一步氧化金属组分并自组装成MO‑PNFs。本发明通过控制合金薄膜的组成元素、退火温度，以及NaOH溶液的浓度等参数来控制合金薄膜的腐蚀过程，从而可控制得各种不同金属氧化物、纳米结构和孔隙度的MO‑PNFs，具有工艺简单、大面积、均匀性好、可控性好等优点，在催化剂、传感器等领域具有广泛的潜在应用前景。
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公开(公告)号：CN103866256A
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201410103801.0
申请日：2014-03-20
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明公开了金属氧化物多孔纳米结构薄膜（MO-PNFs）的制备方法，涉及多孔薄膜的制备技术领域。本发明首先利用磁控共溅射镀膜技术在室温下沉积了不锈钢基金属-铝合金薄膜，然后在高真空下进行退火处理，最后置于NaOH溶液中进行腐蚀，除去较活泼的铝组分，并利用不锈钢衬底和较惰性的金属组分或者其半氧化产物构成原电池，进一步氧化金属组分并自组装成MO-PNFs。本发明通过控制合金薄膜的组成元素、退火温度，以及NaOH溶液的浓度等参数来控制合金薄膜的腐蚀过程，从而可控制得各种不同金属氧化物、纳米结构和孔隙度的MO-PNFs，具有工艺简单、大面积、均匀性好、可控性好等优点，在催化剂、传感器等领域具有广泛的潜在应用前景。
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公开(公告)号：CN102251278A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN201110144380.2
申请日：2011-05-31
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明涉及铜纳米线的制备方法，尤其是一种液相还原可控制备高产率单晶铜纳米线的方法。首先将二价金属铜盐溶液和乙二胺混合后水浴加热形成单一、稳定的铜离子螯合物，将强碱溶液和水合肼混合后在同一温度水浴下配成还原剂；然后将这两种混合溶液转入反应容器中，充分摇匀后盖好，置于同一温度水浴中加热反应，制备铜纳米线；将漂浮在溶液上层的片状铜纳米线打捞出来，依次用去离子水和无水乙醇洗涤三次以上，在室温和Ar气保护条件下干燥即得铜纳米线。本发明工艺简单、成本低、产率高，所制备的铜纳米线为单晶结构，其表面相对光滑，径向粗细均匀，长度和直径可控且比较均匀。
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公开(公告)号：CN116943687A
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202310669743.7
申请日：2023-06-07
Applicant: 常州大学
IPC: B01J27/04 , C02F1/30 , C02F1/72 , B01J23/20 , B01J35/00 , B01J35/08 , B01J35/02 , B01J37/00 , B01J37/08 , B01J37/10 , C02F103/34
Abstract: 本发明公开了一种KNbO3/ZnIn2S4空心核壳纳米复合材料的制备方法和产品及应用，包括，通过#imgabs0#方法制备SiO2模板；采用水热法合成KNbO3/SiO2微球并进行热处理；用HF去除SiO2模板形成KNbO3空心球；采用化学沉积法将ZnIn2S4沉积到KNbO3的表面上获得到最终产物，清洗后干燥即得到KNbO3/ZnIn2S4空心核壳异质结纳米复合材料。本发明制备方法获得的复合材料能够高效去除水体中的环丙沙星(CIP)。
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公开(公告)号：CN116924475A
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202310660886.1
申请日：2023-06-06
Applicant: 常州大学
IPC: C01G45/12 , C02F1/30 , C02F1/32 , B01J23/34 , B01J35/00 , C02F101/36 , C02F101/38 , C02F101/30
Abstract: 本发明公开了一种ZnMn2O4空心纳米材料及其制备方法和应用，属于光催化制备领域，采用丙烯酰胺单体聚合形成聚丙烯酰胺凝胶体系，随后采用微波加热制备ZnMn2O4空心微纳米材料，该方法制得的ZnMn2O4纳米微球直径大约为2μm且形貌均一，这结构有利于电子和空穴的分离，该空心微纳米催化剂具有较高的催化效率，在可见光下能有效降解废水中的有机染料，特别是对于结晶紫有机溶液的光催化降解效率可达94.25％。
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