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公开(公告)号：CN109215847A
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201810722307.0
申请日：2018-06-29
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供实现透明导电层的低电阻特性及结晶化速度的改善的兼顾的透明导电性膜、及具备该透明导电性膜的触控面板。本发明的透明导电性膜具备基材膜和形成于所述基材膜的至少一面侧的透明导电层，所述基材膜以不包含极性基团的聚合物作为主成分，所述透明导电层从所述基材膜侧起，依次具有第一铟－锡复合氧化物膜及第二铟－锡复合氧化物膜，所述第一铟－锡复合氧化物膜中的氧化锡的含量相对于氧化锡及氧化铟的合计量大于9重量％且为20重量％以下，所述第二铟－锡复合氧化物膜中的氧化锡的含量相对于氧化锡及氧化铟的合计量为7重量％以上且9重量％以下。
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公开(公告)号：CN105189678B
公开(公告)日：2018-09-18
申请号：CN201580000701.8
申请日：2015-01-16
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C09J7/30 , C09J11/04 , C09J201/00
Abstract: 本发明提供一种粘合片，其能够容易且廉价地制造，并且包含在用于光学构件叠层体的接合时能够有效地抑制内部反射的粘合剂层。通过在从粘合剂层的表面起沿厚度方向的某一范围形成具有比粘合剂层的基础材料更高折射率的折射率调整分区，在该粘合剂层用于光学构件的接合时，可以抑制由这些光学构件形成的叠层体中的内部反射。本发明公开一种粘合片，其由支撑体和该支撑体上的透明粘合剂层形成，在该粘合片中，粘合剂层包含从一个主面起沿厚度方向实质上由透明的粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区、以及从该粘合剂层的另一主面起沿厚度方向形成的透明的粘合性折射率调整用分区，该折射率调整用分区具有比所述粘合剂基础材料的折射率更高的折射率。
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公开(公告)号：CN104290407B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201410216363.9
申请日：2014-05-21
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: H01B5/002 , G06F3/0412 , G06F2203/04103 , H01B1/08 , H01B5/14 , H05K1/0274 , H05K1/0298 , Y10T428/24364
Abstract: 本发明的课题在于提供双面透明导电性膜及其卷绕体、以及触控面板，所述双面透明导电性膜即使将透明导电层图案化也具有良好的外观，且具有抗粘连性，由此能以低成本制造。本发明的解决手段是一种双面透明导电性膜，其中，在基材膜的两面依次形成有光学调整层及透明导电层，在所述基材膜与一侧的所述光学调整层之间及所述基材膜与另一侧的所述光学调整层之间的至少一方形成有含有粒子的抗粘连层，所述抗粘连层具有平坦部和起因于所述粒子的隆起部，从所述粒子的最频粒径减去所述抗粘连层的平坦部的厚度而得的值比所述光学调整层的厚度大。
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公开(公告)号：CN105189678A
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：CN201580000701.8
申请日：2015-01-16
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J11/04 , C09J201/00
CPC classification number: C09J7/0285 , C08K3/22 , C08K7/18 , C08K2003/2241 , C08K2003/2244 , C08K2201/005 , C09J7/20 , C09J7/22 , C09J7/241 , C09J7/255 , C09J9/00 , C09J201/00 , C09J2203/318 , G02F2202/28
Abstract: 本发明提供一种粘合片，其能够容易且廉价地制造，并且包含在用于光学构件叠层体的接合时能够有效地抑制内部反射的粘合剂层。通过在从粘合剂层的表面起沿厚度方向的某一范围形成具有比粘合剂层的基础材料更高折射率的折射率调整分区，在该粘合剂层用于光学构件的接合时，可以抑制由这些光学构件形成的叠层体中的内部反射。本发明公开一种粘合片，其由支撑体和该支撑体上的透明粘合剂层形成，在该粘合片中，粘合剂层包含从一个主面起沿厚度方向实质上由透明的粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区、以及从该粘合剂层的另一主面起沿厚度方向形成的透明的粘合性折射率调整用分区，该折射率调整用分区具有比所述粘合剂基础材料的折射率更高的折射率。
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公开(公告)号：CN104334241A
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN201480001163.X
申请日：2014-04-10
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: A99Z99/00
CPC classification number: G06F3/041 , G02B1/11 , G06F3/044 , G06F2203/04103
Abstract: 本发明提供可以抑制干涉条纹产生的触控面板传感器。触控面板传感器(1)具有透明基材(2)，在该透明基材的一侧依次具有折射率调整层(3)、透明电极图案(4)、折射率调整层(5)和粘接层(6)，并且在透明基材(2)的另一侧依次具有折射率调整层(7)、透明电极图案(8)、折射率调整层(9)和粘接层(10)。折射率调整层(3)、折射率调整层(5)、折射率调整层(7)、折射率调整层(9)的折射率分别为1.6～1.8，并且厚度为50nm～150nm。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102026738B
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN200980117674.7
申请日：2009-02-04
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: B05D1/26 , C08J7/04 , G02B1/10 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3033
Abstract: 已知有在包含具有磺酸基的有机色素的有机薄膜上涂布包含多价金属盐或氨基化合物盐的溶液来获得耐水性有机薄膜的方法。包含氨基化合物盐的溶液的毒性低于包含多价金属盐的溶液，处理性优异。然而使用氨基化合物盐获得的有机薄膜的耐水性远低于使用多价金属盐所获得的有机薄膜的耐水性，不满足偏光膜用途所需要的水平。通过使包含具有阴离子性基团的有机色素的偏光膜的表面与包含阳离子性聚合物的液体接触，可获得耐水性显著优于以往的偏光膜。
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公开(公告)号：CN101636470B
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN200880008784.5
申请日：2008-11-18
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: C09K19/601 , G02B5/3016
Abstract: 流延现有的液晶性涂覆液得到的偏光膜存在以下问题：在干燥过程中，在膜中会析出几十μm左右大小的微细晶体，从而导致偏光膜的雾度值(光散射)变大，进一步，导致溶致液晶化合物的取向度变低，二色性比变小。因此，希望得到解决了该问题的液晶性涂覆液。本发明的液晶性涂覆液的特征在于，其含有溶致液晶化合物、乙烯醇系聚合物和溶剂，相对于100重量份溶致液晶化合物，含有0.05重量份～1.5重量份乙烯醇系聚合物。
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公开(公告)号：CN101939670A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN200880126263.X
申请日：2008-12-16
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/3016
Abstract: 一种光学层叠体的制造方法，其特征在于，所述光学层叠体具备基材和在基材上形成的包含溶致液晶化合物的偏光膜，该制造方法包括如下工序：将包含前述溶致液晶化合物和溶剂的涂布液涂布到基材上、形成溶致液晶化合物沿一个方向取向而成的涂膜的工序(A)；和对前述涂膜施加与溶致液晶化合物的取向方向实质上平行的磁场的工序(B)。
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公开(公告)号：CN101542338B
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN200880000524.3
申请日：2008-07-01
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/3016
Abstract: 本发明提供一种能以简单的操作稳定制造没有取向不良(多畴)、具有二色比高的光学各向异性的层叠体的方法。一种具备包含溶致液晶性化合物的光学各向异性层和基材的层叠体的制造方法，其包含如下工序：准备包含至少一种溶致液晶性化合物和溶剂的溶液的工序(1)；将工序(1)中获得的溶液涂布在表面温度为20℃以下的基材上，形成溶液的涂布层的工序(2)；使工序(2)中获得的涂布层的溶剂挥发，在该挥发过程中使溶致液晶性化合物取向，在基材上形成光学各向异性层的工序(3)。
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公开(公告)号：CN101836141A
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200980100695.8
申请日：2009-01-15
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/13 , G02F1/1335 , G02F1/13363
CPC classification number: C09K19/02 , C09K19/60 , C09K19/606 , C09K2219/03 , G02B5/3033 , G02F1/13363
Abstract: 本发明提供光学各向异性膜的制造方法，该方法具有：形成包含溶致液晶性化合物且显示各向同性相的各向同性层的工序；对该各向同性层施加磁场的工序。所述各向同性层是通过向长条状基材2的长度方向流延涂布液而在基材上形成的，所述涂布液包含溶致液晶性化合物和溶剂且显示各向同性相。使用磁场施加装置对该各向同性层施加磁场。
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