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公开(公告)号：CN102781828B
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201180011595.5
申请日：2011-02-28
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
IPC: C01B31/02
CPC classification number: C01B31/0226 , B01J23/745 , B01J37/0217 , B01J37/0219 , B01J37/0225 , B01J37/0244 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/16 , C01B2202/08
Abstract: 本发明提供一种碳纳米管取向集合体的制造方法，含有如下工序：将溶解含有铝的金属有机化合物和/或金属盐及用于抑制该金属有机化合物和/或金属盐的缩聚反应的稳定剂于有机溶剂而成的催化剂负载膜涂布剂涂布在基板上而设置催化剂负载膜；将溶解含有铁的金属有机化合物和/或金属盐及用于抑制该金属有机化合物和/或金属盐的缩聚反应的稳定剂于有机溶剂而成的催化剂生成膜涂布剂涂布在所述催化剂负载膜上而设置催化剂生成膜；通过CVD法使碳纳米管取向集合体在基板上生长。
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公开(公告)号：CN102741161B
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN200980100516.0
申请日：2009-04-02
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
IPC: C01B31/02
CPC classification number: C23C16/26 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/162 , C01B32/164 , C01B2202/08 , C01P2004/13 , C23C16/0281
Abstract: 本发明提供一种碳纳米管定向集合体的制造装置及制造方法，该装置在表面含有催化剂的基材上使碳纳米管定向集合体生长，包括：形成单元，其实现形成工序，使催化剂的周围环境成为还原气体环境，并加热催化剂及还原气体中的至少一方；生长单元，其实现生长工序，使催化剂的周围环境成为原料气体环境，并加热催化剂及原料气体中的至少一方使碳纳米管定向集合体生长；及传送单元，其至少将基材从形成单元传送到生长单元。由此可以防止连续制造中CNT定向集合体的制造量下降及品质恶化，与此同时轻易实现装置大型化从而可提高CNT定向集合体的制造效率。
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公开(公告)号：CN103827024A
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：CN201280039624.3
申请日：2012-08-23
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
IPC: C01B31/02 , B01J23/745 , B82Y30/00 , B82Y40/00
CPC classification number: C01B32/05 , B01J23/745 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/16 , C01B2202/08 , C01B2202/30 , C01B2202/32 , C23C16/4412 , C23C16/45578
Abstract: 本发明的取向碳纳米管集合体的制造装置具备：具备将原料气体喷射到基体材料(111)上的喷射口(12a)的喷射部(12)、排出原料气体的排气口(15)、设有多个排气口(13a)的排气部(13)，多个排气口(13a)位于比多个喷射口(12a)更靠近排气口(15)的一侧。
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公开(公告)号：CN102741161A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN200980100516.0
申请日：2009-04-02
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
IPC: C01B31/02
CPC classification number: C23C16/26 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/162 , C01B32/164 , C01B2202/08 , C01P2004/13 , C23C16/0281
Abstract: 本发明提供一种碳纳米管定向集合体的制造装置及制造方法，该装置在表面含有催化剂的基材上使碳纳米管定向集合体生长，包括：形成单元，其实现形成工序，使催化剂的周围环境成为还原气体环境，并加热催化剂及还原气体中的至少一方；生长单元，其实现生长工序，使催化剂的周围环境成为原料气体环境，并加热催化剂及原料气体中的至少一方使碳纳米管定向集合体生长；及传送单元，其至少将基材从形成单元传送到生长单元。由此可以防止连续制造中CNT定向集合体的制造量下降及品质恶化，与此同时轻易实现装置大型化从而可提高CNT定向集合体的制造效率。
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公开(公告)号：CN102325720A
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：CN201080007140.1
申请日：2010-02-08
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
IPC: C01B31/02
CPC classification number: B82Y40/00 , B82Y30/00 , C01B32/158 , C01B32/162 , C01B2202/08 , Y10T428/24355 , Y10T428/31678
Abstract: 本发明的取向碳纳米管集合体生产用基材是一种为了在该表面生成取向碳纳米管集合体的取向碳纳米管集合体生产用基材，具备金属基板和在该金属基板的表面以及背面上形成的防渗碳层。
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