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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105026908A
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：CN201480009470.2
申请日：2014-02-12
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G01M11/00
CPC classification number: G02B1/11 , G02B1/118 , G02B5/0221 , G09G2380/10
Abstract: 本发明的目的在于提供一种作为车载用而具有良好的析像度、反射像扩散性、眩光防止性的光学装置。本发明的光学装置中，具有显示装置和配置在该显示装置的显示面侧的透明基体，其特征在于，所述透明基体在使用析像度指标值T、反射像扩散性指标值R、及眩光指标值S这3个指标值进行了评价的情况下，满足析像度指标值T≤0.2，反射像扩散性指标值R≥0.2，及眩光指标值S≤60。本发明能够利用于例如LCD装置、OLED装置及PDP装置的在各种显示装置的显示面侧设置有透明气体的光学装置。
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公开(公告)号：CN103396763A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201310058694.X
申请日：2013-02-25
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明提供二氧化硅溶液制备方法、研磨液及玻璃基板的制造方法。一种二氧化硅溶液制备方法，其为将异物从含有一次粒径为1～80nm的二氧化硅粒子的二氧化硅溶液中除去的二氧化硅溶液制备方法，其中，对离心加速度G、沉降距离与沉降时间之比h/t和上述溶液的粘度η进行控制，以使被除去的异物的粒径Dp为0.1～1μm；一种研磨液，在磁记录介质用玻璃基板的主平面的研磨中使用，其中，含有通过使被除去的异物的粒径Dp为0.1～1μm的二氧化硅溶液制备方法制备的二氧化硅溶液；以及一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，具有使用该研磨液对主平面进行研磨的工序。
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公开(公告)号：CN106536440A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201580038402.3
申请日：2015-07-13
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供即使实施防眩处理和防反射膜形成这两者色调变化也减少了的覆盖玻璃。本发明提供覆盖玻璃，它是玻璃基板的至少一方的面具有由防眩处理形成的凹凸形状且具有所述凹凸形状的面上具备防反射膜的覆盖玻璃，具有所述防反射膜的玻璃面内的任意2点的a*值之差Δa*与b*值之差Δb*满足下式(1)。√{(Δa*)2+(Δb*)2}≤4 (1)。
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公开(公告)号：CN103396763B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201310058694.X
申请日：2013-02-25
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明提供二氧化硅溶液制备方法、研磨液及玻璃基板的制造方法。一种二氧化硅溶液制备方法，其为将异物从含有一次粒径为1～80nm的二氧化硅粒子的二氧化硅溶液中除去的二氧化硅溶液制备方法，其中，对离心加速度G、沉降距离与沉降时间之比h/t和上述溶液的粘度η进行控制，以使被除去的异物的粒径Dp为0.1～1μm；一种研磨液，在磁记录介质用玻璃基板的主平面的研磨中使用，其中，含有通过使被除去的异物的粒径Dp为0.1～1μm的二氧化硅溶液制备方法制备的二氧化硅溶液；以及一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，具有使用该研磨液对主平面进行研磨的工序。
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公开(公告)号：CN103050133A
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN201210385806.8
申请日：2012-10-12
Applicant: 旭硝子株式会社
Inventor： 玉田稔
Abstract: 本发明的目的在于提供一种磁记录介质用玻璃基板及使用了该磁记录介质用玻璃基板的磁记录介质，其中，在磁记录介质用玻璃基板的至少一个主平面（记录再生面）的整体设定的格子状的各评价区域测定了表面粗糙度Ra时，其最大值处于规定的范围内。提供一种磁记录介质用玻璃基板及使用了该磁记录介质用玻璃基板的磁记录介质，该磁记录介质用玻璃基板具有一对主平面，其特征在于，在至少一个主平面上，在主平面整个面上设定的格子状的各评价区域所测定到的表面粗糙度Ra的最大值为所述表面粗糙度Ra的平均值的1.7倍以下。
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