固态成像装置
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100426512C

    公开(公告)日:2008-10-15

    申请号:CN200510009599.6

    申请日:2005-02-24

    Abstract: 在半导体衬底(10)的主表面中形成光电二极管(20a、20b)。光电二极管(20a)包括P+型半导体层(22a)和电荷积累部分(21a),光电二极管(20b)包括P+型半导体层(22b)和电荷积累部分(21b)。光电二极管(20a和20b)由具有STI结构的元件隔离部分(33a)分开。构成光电二极管(20a和20b)的电荷积累部分(21a和21b)的底部位于到半导体衬底(10)的主表面比到元件隔离部分(33a)的底部更深的位置上。这样,可以提供一种固态成像装置,其中可以防止色彩混合并且电荷积累部分的容量大,并且灵敏性和饱和特性优异。

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