公开(公告)号：CN1876243A

公开(公告)日：2006-12-13

申请号：CN200610091758.6

申请日：2006-06-12

Applicant: 株式会社半导体能源研究所

Inventor： 立石文则

IPC: B05C5/00 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  B05D1/40

CPC classification number: G03F7/162 ,  G02F1/1303 ,  G02F1/133711 ,  H01L51/0003 ,  H01L51/0004

Abstract: 本发明旨在提供一种通过可以均匀且没有偏差地涂敷药液的旋转涂敷法来进行涂敷的药液涂敷装置及药液涂敷方法。本发明的技术方案的要点是：配置有多个用于将药液涂敷在固定在基台上的涂敷对象物上的喷嘴。各喷嘴可以分别独立沿着上下左右方向移动。因此，可以控制喷出点，并且可以进行对应更广的粘度范围的药液的涂敷。通过实施本发明，可以获得在整个衬底上膜厚差异小且厚度均匀的涂敷膜，并且可以获得使用消除了被喷出的药液的浪费并提高了使用效率的药液喷出方法的药液涂敷装置。

公开(公告)号：CN1699058A

公开(公告)日：2005-11-23

申请号：CN200510072785.4

申请日：2005-05-20

Applicant: 株式会社半导体能源研究所

Inventor： 立石文则 ,  桑原秀明

IPC: B41J2/01 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/76838 ,  B41J3/407 ,  B41J11/002 ,  H01L21/2885 ,  H01L21/6715 ,  H01L27/1285 ,  H01L27/1292

Abstract: 本发明提供了一种半导体装置制造设备，具有应用适于批量生产大基片的小滴释放法的图案成形装置。设置应用小滴释放法的多个图案成形装置和多个热处理腔，每个热处理腔与一个是多腔系统的转移腔相连。有效地进行释放和烘干以便提高生产率。通过在图案成形装置中设置一个吹气装置，就在小滴被降落之后，沿着与扫描方向(或者释放头的扫描方向)相同的方向将气体吹到基片上，在气流路径中设置一个加热器用于局部烘干。