曝光装置和器件制造方法
    15.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100429748C

    公开(公告)日:2008-10-29

    申请号:CN200380105422.5

    申请日:2003-12-08

    Abstract: 曝光装置(EX)在投影光学系统(PL)和衬底(P)之间充有液体(50),投影光学系统(P)通过液体(50)将图形图像投影在衬底(P)上,对衬底(P)进行曝光。它包括:保持衬底的衬底台(PST);向投影光学系统的像面侧供给液体的液体供给装置(1);以及经过液体(50)检测衬底(P)表面的表面信息的聚焦/平整检测系统(14)。曝光装置(EX)根据聚焦/平整检测系统检测(14)的表面信息,一边调整衬底(P)表面与投影光学系统(PL)经过液体(50)形成的像面之间的位置关系一边进行衬底的浸液曝光。能够以良好图案转印精度进行浸液曝光。

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