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公开(公告)号：CN106707699B
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201710164773.7
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法。一种曝光装置，透过液体对基板照射曝光用光以使该基板曝光，具备：投影光学系统，将像透过液体透影；可动构件，支承该基板并移动；液体供应机构，从该可动构件的上方透过供应口对该投影光学系统下供应液体；以及液体回收机构，从该可动构件的上方透过吸引口将该供应的液体与气体一起回收；该液体回收机构具有收容从该吸引口回收且与气体分离的液体的槽、及检测收容在该槽的液体的量的检测器。
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公开(公告)号：CN104122760B
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201410333238.6
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN102323724A
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：CN201110268975.9
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN101436000A
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200810173386.0
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN100452293C
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200480021856.1
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102043350A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201110022027.7
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN100429748C
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：CN200380105422.5
申请日：2003-12-08
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 曝光装置(EX)在投影光学系统(PL)和衬底(P)之间充有液体(50)，投影光学系统(P)通过液体(50)将图形图像投影在衬底(P)上，对衬底(P)进行曝光。它包括：保持衬底的衬底台(PST)；向投影光学系统的像面侧供给液体的液体供给装置(1)；以及经过液体(50)检测衬底(P)表面的表面信息的聚焦/平整检测系统(14)。曝光装置(EX)根据聚焦/平整检测系统检测(14)的表面信息，一边调整衬底(P)表面与投影光学系统(PL)经过液体(50)形成的像面之间的位置关系一边进行衬底的浸液曝光。能够以良好图案转印精度进行浸液曝光。
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公开(公告)号：CN106707699A
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201710164773.7
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法。一种曝光装置，透过液体对基板照射曝光用光以使该基板曝光，具备：投影光学系统，将像透过液体透影；可动构件，支承该基板并移动；液体供应机构，从该可动构件的上方透过供应口对该投影光学系统下供应液体；以及液体回收机构，从该可动构件的上方透过吸引口将该供应的液体与气体一起回收；该液体回收机构具有收容从该吸引口回收且与气体分离的液体的槽、及检测收容在该槽的液体的量的检测器。
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公开(公告)号：CN102043350B
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201110022027.7
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN101436001B
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：CN200810173387.5
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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