公开(公告)号：CN102163004A

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN201110089474.4

申请日：2004-12-03

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  高岩宏明 ,  蛭川茂

IPC: G03F7/20

Abstract: 本申请公开了一种曝光装置、曝光方法和器件制造方法。曝光装置(EX)是经投影光学系统(PL)和液体(1)将曝光光(EL)照射到基片(P)上以对基片(P)进行曝光的装置。该曝光装置(EX)具有用于保持该基片(P)的基片台(PT)。将具有疏液性的平坦面(30A)的板构件(30)以可更换的方式安装到上述基片台(PT)上，以防止液体残留，维持良好的曝光精度。

公开(公告)号：CN101573780A

公开(公告)日：2009-11-04

申请号：CN200780049273.3

申请日：2007-12-04

Applicant: 株式会社尼康 ,  栗田工业株式会社

Inventor： 长坂博之 ,  森田博志 ,  床嶋裕人

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03F7/70341 ,  Y10T137/0318

Abstract: 本发明提供清洗用液体、清洗方法、液体产生装置、曝光装置以及器件制造方法。曝光装置借助曝光用液体利用曝光光对基板进行曝光。为了清洗曝光装置的至少一部分，将清洗用液体供给到曝光装置。清洗用液体中溶解了饱和浓度以上的规定气体。

公开(公告)号：CN100477083C

公开(公告)日：2009-04-08

申请号：CN200580032801.5

申请日：2005-10-12

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/70341

Abstract: 提供一种曝光装置(EX)，以液体(LQ)充满投影光学系统(PL)像面侧之光路空间，透过投影光学系统(PL)与液体(LQ)使基板(P)曝光。曝光装置(EX)具备用以测量液体(LQ)之光学特性的测量装置(30)。可根据测量结果以液体混合装置(19)来调整液体之光学特性。能将液浸曝光时之曝光精度维持于所希望状态。

公开(公告)号：CN101031996A

公开(公告)日：2007-09-05

申请号：CN200580032801.5

申请日：2005-10-12

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/70341

Abstract: 提供一种曝光装置(EX)，以液体(LQ)充满投影光学系统(PL)像面侧之光路空间，透过投影光学系统(PL)与液体(LQ)使基板(P)曝光。曝光装置(EX)具备用以测量液体(LQ)之光学特性的测量装置(30)。可根据测量结果以液体混合装置(19)来调整液体之光学特性。能将液浸曝光时之曝光精度维持于所希望状态。

公开(公告)号：CN1846298A

公开(公告)日：2006-10-11

申请号：CN200480025055.2

申请日：2004-09-03

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  大和壮一

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/709

Abstract: 一种曝光装置，其包括将掩模的图像投影至载台支承的衬底W上的投影光学系统，以及在投影光学系统和载台间形成特定气体气氛的气氛形成机构70、71，其中气氛形成机构70、71具有缓冲部件71a、71b，其削弱由载台或衬底W与气氛形成机构接触所产生的力，并抑制该力向投影光学系统PL的传递。该构造能防止因载台或衬底W与气氛形成机构70、71接触所产生的力传递至投影光学系统而损坏投影光学系统PL。

公开(公告)号：CN115916450A

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN202080103223.4

申请日：2020-08-18

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  川辺喜雄

IPC: B23K26/082

Abstract: 光学装置包括：第1光学系统，将第1面上的第1区域的光引导至第2面，并且将第2面设为与第1面相对的瞳面；第2光学系统，配置于第2面与第3面之间，且将第2面设为与第3面相对的瞳面；第1反射构件，设置于第1光学系统的射入侧的第1光程上，且具有摇动自如地设置的第1反射面；以及第2反射构件，设置于第1光学系统与第2光学系统之间的第2光程上，且具有摇动自如地设置的第2反射面。

公开(公告)号：CN105204296B

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：CN201510591955.3

申请日：2005-08-01

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 大和壮一 ,  长坂博之 ,  菅原龙

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70733

Abstract: 本发明提供一种曝光装置的控制方法。一种曝光装置的控制方法，透过液浸区域的液体将基板曝光，包含以下步骤：通过从供应口供应液体，并且将从上述供应口所供应的液体从设置有多孔质的回收口回收，以在最靠近投影光学系统的像面的第1光学元件之下形成液浸区域；判断上述液浸区域是否为期望状态；及以边抑制上述液浸区域的液体从第1载台与第2载台的间隙流出，边在上述投影光学系统的像面侧的光路空间填满上述液体的状态下在上述第1载台上与上述第2载台上之间移动上述液浸区域的方式，在上述第1载台与上述第2载台接近的状态下，在上述投影光学系统的像面侧一起移动上述第1载台与上述第2载台。

公开(公告)号：CN101477312B

公开(公告)日：2015-04-08

申请号：CN200910005724.4

申请日：2004-09-03

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  大和壮一

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种曝光装置，其包括将掩模的图像投影至载台支承的衬底W上的投影光学系统，以及在投影光学系统和载台间形成特定气体气氛的气氛形成机构70、71，其中气氛形成机构70、71具有缓冲部件71a、71b，其削弱由载台或衬底W与气氛形成机构接触所产生的力，并抑制该力向投影光学系统PL的传递。该构造能防止因载台或衬底W与气氛形成机构70、71接触所产生的力传递至投影光学系统而损坏投影光学系统PL。

公开(公告)号：CN102163004B

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：CN201110089474.4

申请日：2004-12-03

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  高岩宏明 ,  蛭川茂

IPC: G03F7/20

Abstract: 本申请公开了一种曝光装置、曝光方法和器件制造方法。曝光装置(EX)是经投影光学系统(PL)和液体(1)将曝光光(EL)照射到基片(P)上以对基片(P)进行曝光的装置。该曝光装置(EX)具有用于保持该基片(P)的基片台(PT)。将具有疏液性的平坦面(30A)的板构件(30)以可更换的方式安装到上述基片台(PT)上，以防止液体残留，维持良好的曝光精度。

公开(公告)号：CN101799636B

公开(公告)日：2013-04-10

申请号：CN201010129961.4

申请日：2005-08-01

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 大和壮一 ,  长坂博之 ,  菅原龙

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70733

Abstract: 提供曝光装置(EX)，其具备投影光学系统(PL)，该投影光学系统(PL)具有最靠近投影光学系统(PL)的像面的第1光学元件(LS1)。曝光装置(EX)具备：第1液浸机构(1)，用以在设置于投影光学系统(PL)像面侧的透明构件(64)的上面(65)与第1光学元件(LS1)之间形成第1液体(LQ1)的第1液浸区域(LR1)；及观察装置(60)，用以观察第1液浸区域(LR1)的状态。从而，能掌握液体的液浸区域的状态，执行最适当的液浸曝光。