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    一种提升衬底有效芯片数目的曝光方法
    1.
    发明公开
    一种提升衬底有效芯片数目的曝光方法 无效

    公开(公告)号：CN108957960A

    公开(公告)日：2018-12-07

    申请号：CN201810574721.1

    申请日：2018-06-06

    Applicant: 中国电子科技集团公司第五十五研究所

    Inventor： 王溯源 ,  俞勇 ,  章军云 ,  黄念宁

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70125 ,  G03F7/7085

    Abstract: 本发明涉及一种提升衬底有效芯片数目的曝光方法，包含如下步骤：1）制作掩模版：所述掩模版的每层光刻图形包含纯芯片层和PCM层两种版图，两种版图尺寸相同；2）设定曝光位置：按照PCM测试位置的要求，在需进行PCM测试的位置设定曝光PCM层，其他区域设置曝光对应的纯芯片层；3）设定曝光参数：分别设置PCM层和纯芯片层曝光参数；4）PCM测试。优点：1）有效降低圆片上PCM图形占空比，提高单位圆片有效芯片数目，实现成本节约和效率提升。2）不限于圆片衬底，不限于光刻机品牌和型号等，适用于所有采用步进式曝光和PCM测试技术的半导体制造工艺。3）该设计也可推广至接触式光刻机1:1的掩模制作。

    制造光刻设备的镜头的方法和测量系统
    3.
    发明公开
    制造光刻设备的镜头的方法和测量系统 有权

    公开(公告)号：CN107810399A

    公开(公告)日：2018-03-16

    申请号：CN201680035995.2

    申请日：2016-03-31

    Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    Inventor： S.弗里切 ,  J.拜耳 ,  R.弗赖曼

    IPC: G01M11/02 ,  G03F7/20 ,  G02B7/00

    CPC classification number: G02B7/003 ,  G01M11/0221 ,  G01M11/0292 ,  G02B7/023 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/7085

    Abstract: 本发明涉及制造光刻设备(100)的镜头(104)的方法，该方法包括如下步骤：a)提供至少一个第一部分镜头和至少一个第二部分镜头(200A，200B)，其中所述至少一个第一部分镜头(200A)包括多个光学元件(202A)且所述至少一个第二部分镜头(200B)包括至少一个光学元件(202B)，其中所述至少一个第一部分镜头和至少一个第二部分镜头(200A，200B)各具有束路径(204A，204B)，所述束路径在特定部分镜头(200A，200B)的输入侧和/或输出侧(206，210，212)上是非同心的；b)沿着所述至少一个第一部分镜头和至少一个第二部分镜头(200A，200B)的各束路径(204A，204B)传输至少一个第一光束(500，602)，并且在所述特定部分镜头(200A，200B)的之后感测所述至少一个第一光束(500，602)；c)基于感测的、至少一个第一光束(500，602)，确定各部分镜头(200A，200B)的至少一个光学特性；d)根据确定的光学特性，调节所述第一部分镜头(200A)的多个光学元件(202A)和所述第二部分镜头(200B)的至少一个光学元件(202B)；以及e)接合所述至少一个第一部分镜头和所述至少一个第二部分镜头(200A，200B)，以制造所述镜头(104)。

    一种基于啁啾光栅间隙检测与控制的超分辨光刻装置
    7.
    发明公开
    一种基于啁啾光栅间隙检测与控制的超分辨光刻装置 有权

    公开(公告)号：CN106547173A

    公开(公告)日：2017-03-29

    申请号：CN201611122015.0

    申请日：2016-12-08

    Applicant: 中国科学院光电技术研究所

    Inventor： 罗先刚 ,  王彦钦 ,  马晓亮 ,  赵泽宇 ,  高平 ,  李雄

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/7085

    Abstract: 本发明是一种基于啁啾光栅间隙检测与控制的超分辨光刻装置，属于超分辨光刻装置的改进和创新技术领域。该装置的特点在于包括超精密环控系统、主动隔振平台、支撑框架、光源、间隙检测系统、对准模块、光刻镜头模块、承片台模块和控制系统。该装置通过啁啾光栅衍射成像技术，实现了纳米量级的在线间隙检测和控制；实现了间隙曝光，有效的保护了超分辨光刻器件；通过激光干涉仪、精密位移台、纳米位移台、对准模块和间隙检测模块进行反馈控制，实现了超精密套刻对准和步进光刻功能。

    基板平整度监控装置
    9.
    发明公开
    基板平整度监控装置 无效 转让

    公开(公告)号：CN106370134A

    公开(公告)日：2017-02-01

    申请号：CN201610951757.8

    申请日：2016-10-27

    Applicant: 南京华东电子信息科技股份有限公司

    Inventor： 曾祥波

    IPC: G01B11/30 ,  G03F7/20

    CPC classification number: G01B11/30 ,  G03F7/7085

    Abstract: 本发明公开了一种基板平整度监控装置，包括光路系统、信号处理系统和显示监控系统，光路系统包括线光源和受光系统；线光源用于发射光束照射基板表面；受光系统用于接收经基板反射的光信号；信号处理系统用于分析受光系统接收到的光信号，判断基板平整度是否存在异常；显示监控系统用于显示信号处理系统的结果并在基板平整度存在异常时发出警报。本监控装置实时监控基板平整度，在不影响设备运行的情况下，可以及时发现基板平整度的异常并发出警报，可以及时进行处理，避免了不良产品的产生，降低了生产成本。

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