场效应晶体管及其制造方法

    公开(公告)号:CN101064362A

    公开(公告)日:2007-10-31

    申请号:CN200710084821.8

    申请日:2007-02-27

    Abstract: 本发明提供一种具有使沟道传导的载流子的移动度比以前的有机TFT大的值的TFT制造方法。场效应晶体管的制造方法的特征是,在衬底上设置形成图形的栅电极,在上述衬底上和上述栅电极上设置栅绝缘膜,在上述栅绝缘膜上分开设置源电极和漏电极,在上述源电极和上述漏电极之间设置应成为沟道的区域,该区域与上述源电极或上述漏电极中的任一方的边界线是直线状,上述该区域和上述漏电极或上述源电极中的另一方的边界线是非直线状,而且,该边界线是连续或不连续的形状,该边界部分有多个凹部,准备上述该区域表面有亲水性、上述该区域的周围区域具有疏水性的构件,向上述该区域供给含有半导体有机分子的溶液,并干燥上述溶液。

    计算机系统以及使用了递归神经网络的运算方法

    公开(公告)号:CN108694442B

    公开(公告)日:2021-08-17

    申请号:CN201810156156.7

    申请日:2018-02-23

    Abstract: 一种计算机系统以及使用了递归神经网络的运算方法,计算机系统执行使用了由输入部、储备池部以及输出部构成的递归神经网络的运算处理,输入部包括接收多个时间序列数据的输入节点,储备池部包括伴随时间延迟的至少一个非线性节点,输出部包括计算输出值的输出节点,输入部对所接收的多个时间序列数据的每一个执行采样以及保持处理以及掩蔽处理,从而计算多个输入流,对多个输入流的每一个执行给予时间偏差的时移处理,通过将执行了时移处理的多个输入流的每一个进行叠加来计算输入数据。据此,在将多个时间序列数据作为输入来处理的储备池计算中,实现高精度且高速的处理。

    场效应晶体管及其制造方法

    公开(公告)号:CN100559625C

    公开(公告)日:2009-11-11

    申请号:CN200710084821.8

    申请日:2007-02-27

    Abstract: 本发明提供一种具有使沟道传导的载流子的移动度比以前的有机TFT大的值的TFT制造方法。场效应晶体管的制造方法的特征是,在衬底上设置形成图形的栅电极,在上述衬底上和上述栅电极上设置栅绝缘膜,在上述栅绝缘膜上分开设置源电极和漏电极,在上述源电极和上述漏电极之间设置应成为沟道的区域,该区域与上述源电极或上述漏电极中的任一方的边界线是直线状,上述该区域和上述漏电极或上述源电极中的另一方的边界线是非直线状,而且,该边界线是连续或不连续的形状,该边界部分有多个凹部,准备上述该区域表面有亲水性、上述该区域的周围区域具有疏水性的构件,向上述该区域供给含有半导体有机分子的溶液,并干燥上述溶液。

    利用了单分子膜的有机晶体管

    公开(公告)号:CN100517745C

    公开(公告)日:2009-07-22

    申请号:CN200710163065.8

    申请日:2007-09-29

    CPC classification number: H01L51/105 H01L51/0545

    Abstract: 提供一种低成本地降低在使有机半导体进行p型动作时产生的电极与有机半导体的接触电阻的方法,和低成本地使原本易于作为p型动作的有机半导体进行n型动作的方法。而且,提供能使用这些方法低成本地制造的p型沟道FET、n型沟道FET、以及互补型MOS(CMOS)晶体管。通过将具有在CMOS中的p型沟道FET的部分,原样使用易于作为p型半导体进行的动作的有机半导体,在n型沟道FET的部分使相同的有机半导体作为n型进行动作的效果的单分子膜夹在电极与半导体之间,低成本地在同一衬底上做成p型区域和n型区域。

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