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公开(公告)号:CN1387236A
公开(公告)日:2002-12-25
申请号:CN02120051.3
申请日:2002-05-17
Applicant: 日本网目版制造株式会社 , 株式会社神户制钢所
IPC: H01L21/304 , H01L21/461 , B08B3/00
CPC classification number: B08B9/0321 , B08B7/0021 , Y10S134/902
Abstract: 当基板清洗腔5的盖子打开,在腔中放置基板时,阀门V1,V2,V3,V4,和V6都关闭,只有阀门V5打开。于是,向基板清洗腔5提供气体CO2以防止环境空气成分进入腔及进行腔的净化。随着基板清洗腔5的盖子关闭,阀门V6继续关闭以形成基板清洗腔的5的排出管线。于是,在基板清洗腔5和导管中的气体残余受到CO2气体的排斥而进入环境空气中,从而进行了腔的净化而防止了任何不需要的环境空气成分的滞留。随后,使用超临界CO2清洗基板。当清洁循环线时,向循环线提供超临界CO2。超临界CO2流向基板清洗腔5。在流过包括循环管道11的所有循环线之后,超临界CO2通过旁路管道12流向减压器7。滞留在循环线中的任何化学试剂或有机物质与超临界CO2流体一起连续地流入到减压器8。
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公开(公告)号:CN1243366C
公开(公告)日:2006-02-22
申请号:CN02800274.1
申请日:2002-02-08
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C11D7/02 , B08B7/0021 , C11D7/04 , C11D7/10 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D7/5004 , C11D11/0047 , G03F7/422 , G03F7/425 , H01L21/02052 , H01L21/31116 , H01L21/31133 , H01L21/67086
Abstract: 本发明提供了一种从物体微观结构中去除残余物的方法,该方法包括的步骤有:制备去除剂,该去除剂包含二氧化碳、去除残余物的添加剂、和在加压流体状态下将添加剂溶解于该二氧化碳的助溶剂;将物体与去除剂接触以从物体中去除残余物。还提供了一种用来实现此方法的装置。
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公开(公告)号:CN1457502A
公开(公告)日:2003-11-19
申请号:CN02800274.1
申请日:2002-02-08
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C11D7/02 , B08B7/0021 , C11D7/04 , C11D7/10 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D7/5004 , C11D11/0047 , G03F7/422 , G03F7/425 , H01L21/02052 , H01L21/31116 , H01L21/31133 , H01L21/67086
Abstract: 本发明提供了一种从物体微观结构中去除残余物的方法,该方法包括的步骤有:制备去除剂,该去除剂包含二氧化碳、去除残余物的添加剂、和在加压流体状态下将添加剂溶解于该二氧化碳的助溶剂;将物体与去除剂接触以从物体中去除残余物。还提供了一种用来实现此方法的装置。
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公开(公告)号:CN1251570A
公开(公告)日:2000-04-26
申请号:CN98803871.4
申请日:1998-02-04
Applicant: 株式会社神户制钢所 , 武田药品工业株式会社
IPC: C07C211/50 , C07C209/62 , B09B3/00 , C08J11/14
CPC classification number: C08J11/14 , C07C209/62 , C08J2375/00 , C08J2375/04 , Y02W30/704 , C07C211/50
Abstract: 一种用于分解有至少一个异氰酸基和/或由异氰酸基得到的基团的异氰酸酯化物,以便以该化合物的原料或衍生物的形式回收该化合物的设备,它包括用于使待分解的该化合物在一台高压下的反应器中事实上仅与被加热到190~370℃的液体水接触,以使该化合物水解的水解设备,和用于使自该反应器中排出的分解产物经受如脱水、加成、蒸馏、分离和液体分离等后处理的后处理设备。
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