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公开(公告)号：CN115244227B
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202180003017.0
申请日：2021-02-22
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D17/06
Abstract: 本发明涉及镀覆装置，本发明提供一种能够抑制由旋转机构的轴承产生的颗粒侵入镀覆槽的技术。镀覆装置(1000)具备迷宫式密封部件(50)，迷宫式密封部件具有：内侧迷宫式密封件(53)，配置于比轴承(33)靠下方的位置，且密封轴承；外侧迷宫式密封件(54)，配置于比内侧迷宫式密封件在旋转轴(32)的径向上靠外侧的位置；排出口(55)，构成为向形成于比内侧迷宫式密封件在径向上靠内侧的内侧密封空间(60)供给空气；以及吸收口(56)，构成为对形成于比内侧迷宫式密封件在径向上靠外侧且比外侧迷宫式密封件在径向上靠内侧的外侧密封空间(65)的空气进行吸收。
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公开(公告)号：CN113355729A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110032620.3
申请日：2021-01-11
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种镀敷装置及电阻体。所述镀敷装置对具有圆形的镀敷区域的基板实施镀敷处理。所述镀敷装置包括：阳极，配置于镀敷槽；基板固持器，保持基板并以与阳极相向的方式配置；基板接点，与基板的周缘部接触并向基板供给电流；电阻体，以与基板固持器相向的方式配置于阳极与基板固持器之间，用于调整阳极与基板之间的离子移动；以及旋转驱动机构，使电阻体与基板固持器绕轴线相对地旋转。电阻体包括：遮蔽区域，其形成外框，阻断阳极与基板之间的离子移动；以及电阻区域，形成于遮蔽区域的径向内侧，具有允许离子通过的多孔结构。电阻区域的外径具有以假想的基准圆为中心的振幅，具有周期性且呈环状连续的波形形状。
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公开(公告)号：CN116324046B
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202180040817.X
申请日：2021-11-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D21/08
Abstract: 镀覆模块包括：镀覆槽，构成为收容镀覆液；基板保持器，构成为保持被镀覆面朝向下方的基板；旋转机构，构成为使基板保持器旋转；触点部件(494‑4)，具有与保持于基板保持器的基板的被镀覆面的外周部接触的基板接点(494‑4a)、及比基板接点(494‑4a)向上方延伸的主体部(494‑4b)，该触点部件安装于基板保持器；以及触点清洗部件(482)，用于从基板保持器的下方朝向触点部件(494‑4)的主体部(494‑4b)排出清洗液。
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公开(公告)号：CN117460866A
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202280006000.5
申请日：2022-06-17
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供一种可清洗触点清洗部件的镀覆装置。镀覆装置包括：镀覆槽，构成为收容镀覆液；基板保持器，构成为保持被镀覆面朝向下方的基板，且具有用于对基板供电的触点部件；触点清洗部件(482)，用于在位于镀覆槽与基板保持器之间的清洗位置时朝向触点部件排出清洗液；驱动机构(476)，构成为使触点清洗部件(482)在清洗位置与退避位置之间移动，该退避位置是从镀覆槽与基板保持器之间退避了的位置；以及喷嘴清洗用罩(489)，构成为在触点清洗部件(482)位于退避位置时覆盖触点清洗部件(482)的上部。
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公开(公告)号：CN115135813B
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN202180011191.X
申请日：2021-10-28
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种能够抑制由整体上滞留于膜的下表面的气泡引起的基板的镀覆品质恶化的技术。镀覆装置(1000)具备镀覆槽(10)、基板保持架(20)以及膜模块(40)，膜模块具备第一膜(41)和第二膜(42)，第二膜具有用于供比第二膜靠下方的第一区域(R1)的镀覆液流入至比第二膜靠上方且比第一膜靠下方的第二区域(R2)的流入口(42c)、和相对于水平方向倾斜并且以随着从阳极室的中央侧朝向阳极室的外缘侧而位于上方的方式倾斜的倾斜部位(42b)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115119515B
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202180003254.7
申请日：2021-01-20
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供能够在镀覆处理时测定基板的膜厚的技术。镀覆装置(1000)具备：镀覆槽(10)；基板保持架(20)；旋转机构(30)；接触部件(50)，配置于基板保持架，并且在基板保持架的周向上配置有多个，与基板的下表面的外周缘接触，在镀覆处理时向基板供电；线圈(60)，构成为通过基于因在镀覆处理时与基板保持架一起旋转的接触部件流动的电流而产生的磁场的电磁感应来产生电流；电流传感器(65)，对在线圈产生的电流进行检测；以及膜厚测定装置(70)，在镀覆处理时，基于电流传感器检测出的电流来对基板的膜厚进行测定。
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公开(公告)号：CN115461499A
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202180030228.3
申请日：2021-11-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供用于兼具执行基板的清洗和抑制镀覆槽内的镀覆液气氛释放至镀覆模块内的技术。镀覆模块包括：镀覆槽(410)，构成为收容镀覆液；基板保持器，构成为保持被镀覆面朝向下方的基板(Wf)；升降机构，构成为使基板保持器升降；罩部件(460)，配置于镀覆槽(410)的上方，并具有包围基板保持器的升降路径的侧壁(461)；开闭机构，构成为将形成于罩部件(460)的侧壁(461)的开口(461a)开闭；基板清洗部件(472)，用于朝向基板保持器所保持的基板(Wf)的被镀覆面排出清洗液；以及驱动机构(476)，构成为使基板清洗部件(472)经由开口(461a)在清洗位置与退避位置之间移动，上述清洗位置是镀覆槽(410)与基板保持器之间的位置，上述退避位置是从镀覆槽(410)与基板保持器之间退避的位置。
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公开(公告)号：CN115210413A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202180016348.8
申请日：2021-06-11
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供一种顺畅地进行镀覆液向被镀覆面的接触并且能够抑制气泡残留于被镀覆面的镀覆装置。镀覆装置的基板保持器具有：头部模块，用于与基板接触来进行保持；倾斜模块，构成为使头部模块倾斜；以及升降模块，构成为使头部模块升降。倾斜模块具有：第一部件；第二部件，支承头部模块并且相对于第一部件连接为能够绕旋转轴旋转；以及致动器，用于使第二部件绕旋转轴旋转。旋转轴从保持于头部模块的基板的中心偏移，升降模块构成为通过使倾斜模块的第一部件升降来使基板保持器升降。
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公开(公告)号：CN114606555A
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202111455081.0
申请日：2021-12-01
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 实现一种能够在所希望的时机将基板的特定的部位遮蔽的镀敷装置。镀敷装置包括：用于收容镀敷液的镀敷槽(410)；配置于镀敷槽(410)内的阳极(430)；用于以将被镀敷面朝向下方的状态保持基板(Wf)的基板保持架(440)；用于使基板保持架(440)旋转的旋转机构(447)；以及与基板保持架(440)的旋转角度相对应地使遮蔽部件(482)向阳极(430)与基板(Wf)之间移动的遮蔽机构(460)。
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