公开(公告)号：CN102149633B

公开(公告)日：2015-04-15

申请号：CN200980135947.0

申请日：2009-09-11

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 稻田卓 ,  西川泰司 ,  三代真琴

IPC: C01B31/04

CPC classification number: C01B31/02 ,  C01B32/05 ,  C01B32/20

Abstract: 本发明能够在卷芯卷绕高分子膜进行热处理的碳质膜的制造方法中防止碳化工序中的原料膜彼此间的熔接，得到长尺寸·大面积的碳质膜。通过减压下及在流通惰性气体的同时的减压下对高分子膜进行热处理，能够防止熔接。减压的范围优选-0.08MPa～-0.01kPa。优选导入惰性气体的同时在-0.08MPa～-0.01kPa的范围的减压下进行碳化。此外，将卷绕于卷芯的高分子膜收容在外筒内，将由(外筒的内径-卷芯的直径)除以2所得的值设为a(mm)、高分子膜的卷厚设为b(mm)时，b除以a而得的值(b/a)在0.2～0.9的范围内。

公开(公告)号：CN103402915B

公开(公告)日：2014-12-03

申请号：CN201280010613.2

申请日：2012-03-26

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 三代真琴 ,  太田雄介 ,  稻田敬 ,  西川泰司

IPC: C01B31/04 ,  C01B31/02

CPC classification number: C01B31/02 ,  B32B18/00 ,  C01B32/05 ,  C01B32/20 ,  C04B35/522 ,  C04B35/524 ,  C04B2237/363 ,  C04B2237/704 ,  C04B2237/84 ,  C08G73/10

Abstract: 本发明的课题在于，在利用高分子热分解法的长尺寸（辊状）的碳质膜的制造中，抑制碳质膜的熔合、波状起伏。一种碳质膜的制造，其特征在于，其是经由将高分子膜在卷成辊状的状态下进行热处理的工序来制造碳质膜的方法，在低于该高分子膜的热分解开始温度的温度下，当制成下述的辊状高分子膜后进行热处理，所述辊状高分子膜在50%截面圆的内侧的部分具有空间（50%截面圆内的空间），所述50%截面圆是以辊状高分子膜的中心为圆周的中心、以相对于高分子膜全长从内侧开始50%的膜长度的位置为圆周上的一点的辊状高分子膜的截面圆，50%截面圆内的空间所占的面积相对于50%截面圆的截面积为25%以上；特别是通过在芯与辊状高分子膜的最内径之间具有空间，上述课题的抑制进一步有效。

公开(公告)号：CN103764555A

公开(公告)日：2014-04-30

申请号：CN201280041428.X

申请日：2012-07-25

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 三代真琴 ,  太田雄介 ,  稻田敬 ,  西川泰司

IPC: C01B31/02 ,  C01B31/04

CPC classification number: C01B31/04 ,  C01B32/20

Abstract: 本发明的课题在于，在基于高分子热分解法制造辊状的碳质膜时，抑制碳质膜熔合。在经过以将高分子膜卷成辊状的状态进行热处理的工序来制造碳质膜的方法中，在该高分子膜的热分解起始温度以上、且相对于热处理开始前高分子膜的重量的重量减少率为40%的温度以下的温度时，为下述辊状高分子膜：（2-1）具有满足以下关系的高分子膜间的间隙：关于辊状高分子膜整体计算出的相邻的该高分子膜间的间隙的厚度即Ts除以该高分子膜的厚度即Tf而得的值即Ts/Tf为0.33～1.50，和/或（2-2）在辊状高分子膜的50%截面圆内具有空间，50%截面圆内的空间所占的面积相对于50%截面圆的截面积为25%以上。

公开(公告)号：CN102811947A

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：CN201180010401.X

申请日：2011-02-14

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 太田雄介 ,  稻田敬 ,  三代真琴 ,  西川泰司 ,  稻田卓

IPC: C01B31/04

CPC classification number: B32B37/20 ,  B32B7/12 ,  B32B9/007 ,  B32B37/0053 ,  B32B37/12 ,  B32B38/10 ,  B32B38/18 ,  B32B2250/02 ,  B32B2313/04 ,  C01B32/20 ,  C04B35/522 ,  C04B35/524 ,  C04B35/62218 ,  C04B35/6269 ,  C04B35/63468 ,  C04B2235/604 ,  C04B2235/6581 ,  C04B2235/96 ,  C04B2235/9638

Abstract: 表现出极低的平均撕裂负荷的石墨膜在其制造步骤及加工步骤中容易发生破裂不良、卷边不齐、褶皱不良、尺寸精度不良等各种不良情况。即便如此，通过使用满足以下条件（1）、（2）的石墨膜，就能抑制这些不良情况。（1）在依照日本工业标准JIS K7128来进行的裤形撕裂试验中，平均撕裂负荷为0.08N以下；（2）在依照日本工业标准JIS C2151来进行的膜卷取性评价中，松弛度为5mm以上且80mm以下。

公开(公告)号：CN102803137A

公开(公告)日：2012-11-28

申请号：CN200980160008.1

申请日：2009-06-22

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 太田雄介 ,  三代真琴 ,  稻田卓 ,  西川泰司

IPC: C01B31/04

CPC classification number: C04B35/524 ,  C01B32/19 ,  C01B32/20 ,  C01B32/205 ,  C01B32/225 ,  Y10T428/30

Abstract: 提供长条状、大面积的热扩散性、耐弯曲性、波状起伏得到改善的石墨膜。利用如下的石墨膜的制造方法能够提供波状起伏得到非常大的改善的石墨膜，该石墨膜的制造方法是以在内芯上卷绕由碳化的高分子膜形成的热处理膜的状态，进行石墨化的石墨膜的制造方法，其特征在于，控制内芯和膜及/或膜间的距离来进行热处理。

公开(公告)号：CN102811947B

公开(公告)日：2016-05-18

申请号：CN201180010401.X

申请日：2011-02-14

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 太田雄介 ,  稻田敬 ,  三代真琴 ,  西川泰司 ,  稻田卓

IPC: C01B31/04

CPC classification number: B32B37/20 ,  B32B7/12 ,  B32B9/007 ,  B32B37/0053 ,  B32B37/12 ,  B32B38/10 ,  B32B38/18 ,  B32B2250/02 ,  B32B2313/04 ,  C01B32/20 ,  C04B35/522 ,  C04B35/524 ,  C04B35/62218 ,  C04B35/6269 ,  C04B35/63468 ,  C04B2235/604 ,  C04B2235/6581 ,  C04B2235/96 ,  C04B2235/9638

Abstract: 表现出极低的平均撕裂负荷的石墨膜在其制造步骤及加工步骤中容易发生破裂不良、卷边不齐、褶皱不良、尺寸精度不良等各种不良情况。即便如此，通过使用满足以下条件（1）、（2）的石墨膜，就能抑制这些不良情况。（1）在依照日本工业标准JIS K7128来进行的裤形撕裂试验中，平均撕裂负荷为0.08N以下；（2）在依照日本工业标准JIS C2151来进行的膜卷取性评价中，松弛度为5mm以上且80mm以下。

公开(公告)号：CN102939260B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201180026301.6

申请日：2011-05-12

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 太田雄介 ,  稻田敬 ,  三代真琴 ,  稻田卓 ,  西川泰司

IPC: C01B31/04

CPC classification number: C01B31/04 ,  C01B32/20

Abstract: 平坦性差的原料石墨膜在进行与其它材料的层压时会发生产生褶皱等不良情况。特别是对于大面积的石墨膜，往往会发生产生褶皱等不良情况。为了解决该问题而实施平坦性矫正处理工序，该工序中，一边对原料石墨膜施加压力，一边进行热处理直至2000℃以上。通过该平坦性矫正处理，可获得平坦性良好的石墨膜。进一步利用内芯的热膨胀进行矫正时，可获得松弛度小的石墨膜。

公开(公告)号：CN105217608A

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：CN201510593364.X

申请日：2009-06-22

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 太田雄介 ,  三代真琴 ,  稻田卓 ,  西川泰司

IPC: C01B31/04

CPC classification number: C04B35/524 ,  C01B32/19 ,  C01B32/20 ,  C01B32/205 ,  C01B32/225 ,  Y10T428/30

Abstract: 提供长条状、大面积的热扩散性、耐弯曲性、波状起伏得到改善的石墨膜。利用如下的石墨膜的制造方法能够提供波状起伏得到非常大的改善的石墨膜，该石墨膜的制造方法是以在内芯上卷绕由碳化的高分子膜形成的热处理膜的状态，进行石墨化的石墨膜的制造方法，其特征在于，控制内芯和膜及/或膜间的距离来进行热处理。

公开(公告)号：CN103380082B

公开(公告)日：2015-04-22

申请号：CN201280008559.8

申请日：2012-03-26

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 三代真琴 ,  太田雄介 ,  稻田敬 ,  西川泰司

IPC: C01B31/04 ,  C01B31/02

CPC classification number: B65D85/671 ,  C01B32/00 ,  C01B32/05 ,  C01B32/20 ,  C08G73/10 ,  Y10T428/24744

Abstract: 本发明的课题在于，在利用高分子热分解法的长尺寸（辊状）的碳质膜的制造中，抑制碳质膜的熔合。一种碳质膜的制造方法，其特征在于，其是经由将高分子膜在卷成辊状的状态下进行热处理的工序来制造碳质膜的方法，在低于该高分子膜的热分解开始温度的温度下制成下述的辊状高分子膜后进行热处理，所述辊状高分子膜具有高分子膜间的间隙，所述间隙满足下述关系：关于辊状高分子膜全体而算出的、将相邻的该高分子膜间的间隙的厚度即Ts除以该高分子膜的厚度即Tf而得到的值即Ts/Tf为0.16以上且1.50以下。另外，作为间隙的形成方法，在将高分子膜卷成辊状时，将衬纸同时卷取，然后抽出所述衬纸，通过使用上述方法，对抑制碳质膜的熔合具有效果。

公开(公告)号：CN103547530A

公开(公告)日：2014-01-29

申请号：CN201280011528.8

申请日：2012-03-15

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 太田雄介 ,  稻田敬 ,  三代真琴 ,  西川泰司

IPC: C01B31/02 ,  C04B35/52

CPC classification number: C01B31/04 ,  C04B35/522 ,  C04B35/524 ,  C04B35/62218 ,  H01L23/373 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明通过设置2个级别以上的加热空间连续地进行煅烧，可以获得褶皱或波纹得到抑制的石墨片材。特别是如果在各加热空间之间存在冷却空间，那么可以获得平坦性优异、热扩散率较高的石墨膜。