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公开(公告)号：CN105683088B
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：CN201480058525.9
申请日：2014-11-28
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B32/205
CPC classification number: C01B32/20
Abstract: 本发明为高热扩散率的石墨薄膜的制造方法，其特征在于：对使用含有70摩尔％以上的PMDA的酸二酐成分与含有70摩尔％以上的ODA的二胺成分所获得的厚度为34μm以上42μm以下且双折射率为0.100以上的聚酰亚胺薄膜、或上述聚酰亚胺薄膜经碳化后而成的碳化薄膜，在2400℃以上的温度下进行热处理。
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公开(公告)号：CN103764558B
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201280040904.6
申请日：2012-08-17
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B31/04
CPC classification number: C01B31/04 , C01B32/20 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , C04B2235/6562 , H01L23/373 , H01L2924/0002 , Y10T428/24628 , Y10T428/24653 , H01L2924/00
Abstract: 本发明通过实施松弛控制步骤，能获得形状得到了控制的石墨膜。该松弛控制步骤为：在自高分子膜的热分解开始温度起至高分子膜的松弛控制温度为止的温度范围下，控制高分子膜的宽度方向上的两端部的温度、以及高分子膜的宽度方向上的中央部的温度。
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公开(公告)号：CN103958405B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201280058698.1
申请日：2012-10-23
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B31/04
CPC classification number: C01B31/04 , C01B32/20 , H01L23/373 , H01L2924/0002 , Y10T428/24628 , H01L2924/00
Abstract: 本发明中，实施一边对原料石墨膜施压一边加热至2000℃以上来进行热处理的矫正处理步骤，从而通过该矫正处理来控制石墨膜的松弛。通过在矫正处理步骤中使用表面状态相异的多个内芯，能够制作一种在1张膜中具有2种以上发挥各自效果的松弛的石墨膜。
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公开(公告)号：CN105102200A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201480006911.3
申请日：2014-01-30
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: B32B9/007 , B29C45/0005 , B29C45/14 , B29C45/14811 , B29C2045/0012 , B29K2707/04 , B29L2009/00 , B32B7/02 , B32B9/04 , B32B9/045 , B32B27/308 , B32B27/38 , B32B27/42 , B32B38/00 , B32B2307/51 , B32B2457/00 , C08J5/042
Abstract: 为了防止在制造由石墨膜层积体和树脂所一体形成的树脂成形体时发生石墨膜层积体错位，使用包含以下结构的石墨膜层积体：250℃下的弹性模数为7.0×104Pa以上5.0×107Pa以下的第一固定层与石墨膜的至少一方主面相接触。
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公开(公告)号：CN103193222B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201310088168.8
申请日：2008-05-15
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C09K5/14 , B32B5/18 , B32B7/12 , B32B9/007 , B32B9/045 , B32B27/065 , B32B27/281 , B32B2307/302 , B32B2307/306 , B32B2307/54 , B32B2307/714 , B32B2457/00 , C01B32/20 , H01L23/373 , H01L23/3737 , H01L2924/0002 , H05K7/20481 , Y10T428/24446 , Y10T428/2918 , Y10T428/30 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种石墨膜及石墨复合膜，其兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。本发明的石墨膜的特征在于，在MIT耐弯曲试验中，使用15mm宽的长方形试验片，在折弯夹板的曲率半径R为2mm、左右的折弯角度为135°、折弯速度为90次／分钟、载荷为0.98N的条件下测得的直到折断为止的往返折弯次数为10000次以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103402915B
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201280010613.2
申请日：2012-03-26
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C01B31/02 , B32B18/00 , C01B32/05 , C01B32/20 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B2237/363 , C04B2237/704 , C04B2237/84 , C08G73/10
Abstract: 本发明的课题在于，在利用高分子热分解法的长尺寸（辊状）的碳质膜的制造中，抑制碳质膜的熔合、波状起伏。一种碳质膜的制造，其特征在于，其是经由将高分子膜在卷成辊状的状态下进行热处理的工序来制造碳质膜的方法，在低于该高分子膜的热分解开始温度的温度下，当制成下述的辊状高分子膜后进行热处理，所述辊状高分子膜在50%截面圆的内侧的部分具有空间（50%截面圆内的空间），所述50%截面圆是以辊状高分子膜的中心为圆周的中心、以相对于高分子膜全长从内侧开始50%的膜长度的位置为圆周上的一点的辊状高分子膜的截面圆，50%截面圆内的空间所占的面积相对于50%截面圆的截面积为25%以上；特别是通过在芯与辊状高分子膜的最内径之间具有空间，上述课题的抑制进一步有效。
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公开(公告)号：CN103764558A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201280040904.6
申请日：2012-08-17
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B31/04
CPC classification number: C01B31/04 , C01B32/20 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , C04B2235/6562 , H01L23/373 , H01L2924/0002 , Y10T428/24628 , Y10T428/24653 , H01L2924/00
Abstract: 本发明通过实施松弛控制步骤，能获得形状得到了控制的石墨膜。该松弛控制步骤为：在自高分子膜的热分解开始温度起至高分子膜的松弛控制温度为止的温度范围下，控制高分子膜的宽度方向上的两端部的温度、以及高分子膜的宽度方向上的中央部的温度。
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公开(公告)号：CN103764555A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201280041428.X
申请日：2012-07-25
Applicant: 株式会社钟化
Abstract: 本发明的课题在于，在基于高分子热分解法制造辊状的碳质膜时，抑制碳质膜熔合。在经过以将高分子膜卷成辊状的状态进行热处理的工序来制造碳质膜的方法中，在该高分子膜的热分解起始温度以上、且相对于热处理开始前高分子膜的重量的重量减少率为40%的温度以下的温度时，为下述辊状高分子膜：（2-1）具有满足以下关系的高分子膜间的间隙：关于辊状高分子膜整体计算出的相邻的该高分子膜间的间隙的厚度即Ts除以该高分子膜的厚度即Tf而得的值即Ts/Tf为0.33～1.50，和/或（2-2）在辊状高分子膜的50%截面圆内具有空间，50%截面圆内的空间所占的面积相对于50%截面圆的截面积为25%以上。
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公开(公告)号：CN102811947A
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN201180010401.X
申请日：2011-02-14
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B31/04
CPC classification number: B32B37/20 , B32B7/12 , B32B9/007 , B32B37/0053 , B32B37/12 , B32B38/10 , B32B38/18 , B32B2250/02 , B32B2313/04 , C01B32/20 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , C04B35/6269 , C04B35/63468 , C04B2235/604 , C04B2235/6581 , C04B2235/96 , C04B2235/9638
Abstract: 表现出极低的平均撕裂负荷的石墨膜在其制造步骤及加工步骤中容易发生破裂不良、卷边不齐、褶皱不良、尺寸精度不良等各种不良情况。即便如此，通过使用满足以下条件（1）、（2）的石墨膜，就能抑制这些不良情况。（1）在依照日本工业标准JIS K7128来进行的裤形撕裂试验中，平均撕裂负荷为0.08N以下；（2）在依照日本工业标准JIS C2151来进行的膜卷取性评价中，松弛度为5mm以上且80mm以下。
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公开(公告)号：CN102803137A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN200980160008.1
申请日：2009-06-22
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B31/04
CPC classification number: C04B35/524 , C01B32/19 , C01B32/20 , C01B32/205 , C01B32/225 , Y10T428/30
Abstract: 提供长条状、大面积的热扩散性、耐弯曲性、波状起伏得到改善的石墨膜。利用如下的石墨膜的制造方法能够提供波状起伏得到非常大的改善的石墨膜，该石墨膜的制造方法是以在内芯上卷绕由碳化的高分子膜形成的热处理膜的状态，进行石墨化的石墨膜的制造方法，其特征在于，控制内芯和膜及/或膜间的距离来进行热处理。
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