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公开(公告)号:CN214921373U
公开(公告)日:2021-11-30
申请号:CN202023328867.X
申请日:2020-12-31
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: B23K26/046 , B23K26/362 , B23K26/70
Abstract: 本实用新型公开了一种基于定位耦合的水导激光装置,包括底座、聚焦透镜、喷嘴和定位模块,所述喷嘴同轴安装于底座上;定位模块包括定位圆盘和压盖,定位圆盘同轴安装于底座上,底座与定位圆盘之间形成耦合水腔,耦合水腔中的液体从喷嘴喷出形成水射流;聚焦透镜为球透镜或半球透镜,其同轴安装于定位圆盘内且聚焦透镜的底部悬伸于耦合水腔中,在聚焦透镜与定位圆盘之间设有第一密封圈;压盖设于定位圆盘上并部分与聚焦透镜接触,压盖和定位圆盘以紧固件连接,两者之间设有第二密封圈;平行激光束入射至聚焦透镜,经聚焦透镜、耦合水腔后耦合到水射流中形成水束光纤。本实用新型所述水导激光装置结构简单,可最大限度减少从透镜到水束光纤距离。
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公开(公告)号:CN211915510U
公开(公告)日:2020-11-13
申请号:CN202020271239.3
申请日:2020-03-06
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本实用新型公开了一种磁场激励激光增材装置,包括底板、激光头和送粉头,激光头和送粉头与计算机控制系统连接,送粉头的喷粉端点和激光头的激光束聚焦点沿计算机控制系统设定的加工路径在底板上移动,底板通过浮动机构安装于工作台上并置于匀强磁场内,匀强磁场的磁力线垂直穿透底板,底板为导电薄板,导电薄板的前、后端或左、右端分别与交流电的两极端连接,匀强磁场激励载流底板上、下振动。本实用新型在激光增材成型过程中,磁场激励载流的底板振动,搅动成型材料的内部组织,在一定程度上细化晶粒、改善组织均匀性、减小应力集中、提高材料成型的力学性能。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号:CN212634671U
公开(公告)日:2021-03-02
申请号:CN202020758490.2
申请日:2020-05-09
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: B23K26/046 , B23K26/14 , B23K26/142 , B23K26/38 , B23K26/402 , B23K26/70
Abstract: 本实用新型公开了一种射流辅助调制激光低损伤加工碳纤维复合材料系统,其激光聚焦射流辅助切割单元包括聚焦装置和射流辅助装置,聚焦装置包括于镜筒内设置的的聚焦透镜和保护镜,镜筒上筒口的上方设有45°角斜置的反射镜;其射流辅助装置包括喷嘴和流体供给机构,流体供给机构通过管路连通镜筒,喷嘴通过锥形接头安装于镜筒的下筒口;其激光器设于反射镜的一侧,激光器发出的激光束经反射镜反射后进入镜筒,激光束经聚焦透镜和保护镜后聚焦于从喷嘴喷出射流中;其工件运行单元包括设于喷嘴下方的工作台,工作台上设有装夹碳纤维复合材料于锯齿架上的夹具,工作台将碳纤维复合材料运行至激光束的切割范围内。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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