-
公开(公告)号：CN109709361A
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201910135641.0
申请日：2019-02-25
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种电磁场近场测量装置和制作电磁探针的方法，属于电磁近场测量领域。包括激光发生器、电磁探针、第一光电探测器和三端口环形器，电磁探针包括沿激光的光路依次设置的光纤准直透镜、集成偏振片和八分之一波片的微纳光纤、处于外加电磁场范围内的非线性纳米线和一反光元件；激光束进入电磁探针后在非线性纳米线的电光效应作用下携带被测电磁场参数信息，并在反光元件的反射作用下沿原路返回。激光通过非线性纳米线的电光效应将待测电磁场参数的信息耦合到激光中。激光首次经过非线性纳米线后经过光纤光栅结构的反射再次通过非线性纳米线，并反射回微纳光纤中，再通过光电探测器对激光进行测量，实现对待测电磁场的测量。
-
公开(公告)号：CN116660285B
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202310920882.2
申请日：2023-07-26
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种晶圆特征光谱在线检测装置，包括发散光源、透镜、晶圆、物镜、二向色镜、带阻滤光片、会聚透镜、小孔、准直透镜、分光器件、成像会聚透镜、线阵探测器以及转台，该在线检测装置可以在线对无图案晶圆表面进行扫描，并根据表面的发光光谱检测和分析晶圆缺陷，同时也可以辅助科研人员对晶体缺陷的发光特性进行研究，辅助产线的员工更好的识别缺陷，该在线检测装置可以结合其他成像装置，能够在获取缺陷位置后能够立即对晶体缺陷进行光谱分析，避免离线检测，大幅提升了检测效率和准确性，同时，也可以对无图案晶圆进行全局扫描，获得晶圆上的每一点光谱信息。
-
公开(公告)号：CN116660285A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310920882.2
申请日：2023-07-26
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种晶圆特征光谱在线检测装置，包括发散光源、透镜、晶圆、物镜、二向色镜、带阻滤光片、会聚透镜、小孔、准直透镜、分光器件、成像会聚透镜、线阵探测器以及转台，该在线检测装置可以在线对无图案晶圆表面进行扫描，并根据表面的发光光谱检测和分析晶圆缺陷，同时也可以辅助科研人员对晶体缺陷的发光特性进行研究，辅助产线的员工更好的识别缺陷，该在线检测装置可以结合其他成像装置，能够在获取缺陷位置后能够立即对晶体缺陷进行光谱分析，避免离线检测，大幅提升了检测效率和准确性，同时，也可以对无图案晶圆进行全局扫描，获得晶圆上的每一点光谱信息。
-
公开(公告)号：CN115980083A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202211540940.0
申请日：2022-12-02
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种基于线阵布里渊显微的晶圆和芯片缺陷检测系统及方法，属于光学精密测量领域和晶圆检测领域。系统中布里渊散射探测模块、明场探测模块和信号处理与反馈模块相连，信号处理与反馈模块与位移模块相连；信号处理与反馈模块和成像与分析模块相连，将单次线束测量数据传输至成像与分析模块；位移模块与样品相连；布里渊散射探测模块、明场探测模块与样品相连，实现对样品信息的采集。本发明通过布里渊散射探测模块能对晶圆和非透明的芯片等样品的机械性质进行线扫描共聚焦测量，大大提高布里渊散射探测的速度；明场线阵探测和布里渊散射线阵探测的结合，可同时获取晶圆和芯片样品的几何缺陷和机械应力缺陷，拓宽缺陷检测参量。
-
-
-
Search Results
14
records
(took 0.021 seconds)
