书写感改善片
    14.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112334304B

    公开(公告)日:2023-12-01

    申请号:CN201980042001.3

    申请日:2019-12-12

    Abstract: 本发明提供一种书写感改善片1,其具备基材11及触控笔所接触的书写感改善层12,其中,在使具有直径为0.5mm的笔尖的触控笔的该笔尖与书写感改善层12的触控笔所接触的表面接触后,在对所述触控笔施加200g载荷的同时,边将所述触控笔与所述表面所呈的角度维持在45°,边以1.6mm/秒的速度使所述触控笔直线滑动时,在滑动距离为10mm的地点至100mm的地点之间所测定的、所述笔尖与所述表面之间产生的摩擦力的最大值与最小值的差为80mN以上、300mN以下。该书写感改善片1能够良好地再现使用圆珠笔在纸上进行书写时的书写感。

    硬涂膜
    15.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113009602B

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN202110239725.6

    申请日:2016-08-23

    Abstract: 本发明提供一种硬涂膜(1),其具备基材膜(2)、层叠在基材膜(2)的至少一个主面侧的第一硬涂层(3)、及层叠在第一硬涂层(3)的与基材膜(2)侧相反的主面侧的第二硬涂层(4),基材膜(2)为聚酰亚胺膜,第一硬涂层(3)及第二硬涂层(4)由彼此不同的材料构成,第一硬涂层(3)的折射率与第二硬涂层(4)的折射率之差以绝对值计为0.04以下,第一硬涂层(3)的厚度及第二硬涂层(4)的厚度的合计为7μm以上、35μm以下。所述硬涂膜(1)具有经得起重复弯曲的耐弯曲性,同时不容易发生翘曲,进而不容易产生干涉条纹。

    书写感改进膜
    16.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108070101B

    公开(公告)日:2022-08-16

    申请号:CN201711114060.6

    申请日:2017-11-13

    Abstract: [课题]提供能够将书写振动稳定地控制在规定的范围中、从而能够有效地重现在纸上用铅笔书写时的书写感的书写感改进膜。[解决手段]包含基材膜、和书写感改进层的触控面板用的书写感改进膜,书写感改进层由包含作为(A)成分的活性能量射线固化性树脂、和作为(B)成分的填料的书写感改进层形成用组合物的固化物形成,同时作为(B)成分的填料包含非规则形状二氧化硅颗粒,非规则形状二氧化硅颗粒的算数平均粒径为0.5~3μm的范围内的值,并且非规则形状二氧化硅颗粒的Cv值为50~200%的范围内的值。

    具有位置检测功能的影像显示装置

    公开(公告)号:CN108459365B

    公开(公告)日:2022-04-26

    申请号:CN201711335916.2

    申请日:2017-12-14

    Abstract: 技术问题:本发明提供一种无损使用触控笔的书写感觉,抑制眩光,且显示影像的可视性良好的具有位置检测功能的影像显示装置。解决手段:一种具有位置检测功能的影像显示装置(1A),其至少具备:触控笔所接触的书写感觉提高层(10)、具有彩色滤光膜(44)的显示体模块(4)、以及设置于书写感觉提高层(10)及显示体模块(4)之间任意位置的光扩散层(30),其中,从书写感觉提高层(10)至光扩散层(30)为止的总雾度为12%以上、45%以下,光扩散层(30)与彩色滤光膜(44)的距离为4mm以下。

    书写感改进膜
    18.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108070328B

    公开(公告)日:2022-04-05

    申请号:CN201711115743.3

    申请日:2017-11-13

    Abstract: [课题]提供能够将书写振动稳定地控制在规定的范围中、从而能够有效地重现在纸上用铅笔书写时的书写感、并且能够有效地抑制眩光的产生的书写感改进膜。[解决手段]包含基材膜、和书写感改进层的触控面板用的书写感改进膜,雾度值为10~40%的范围内的值,同时书写感改进层中的算数平均粗糙度Ra为0.15~1μm的范围内的值,并且以点触笔的轴心与所述书写感改进膜的膜表面垂直的方式,在载重3.92N的加压条件下使笔尖的直径为0.5mm的具备硬毡笔芯的点触笔的笔尖与书写感改进层的表面接触,同时,使所述点触笔沿着与书写感改进膜的膜表面平行的任意一个方向以100mm/分钟的速度移动从而测定笔尖阻力,此时的笔尖滑动系数为0.1~0.5的范围内的值。

    透明导电性膜
    20.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106024109B

    公开(公告)日:2019-10-11

    申请号:CN201610190000.1

    申请日:2016-03-30

    Abstract: 本发明提供低折射率层的耐蚀刻性优异、可稳定地将透明导电层的图案形状不可见化、并且与透明导电层等之间的粘附性优异的透明导电层形成用层合体和使用该层合体的透明导电性膜。所述透明导电层形成用层合体等在基材膜的至少一侧的表面具有光学调整层,其中,光学调整层是从基材膜侧将折射率为1.6以上的值的高折射率层和折射率为1.45以下的值的低折射率层依次进行层合而成的,而且,低折射率层含有二氧化硅微粒,并且将低折射率层的露出面侧的不存在二氧化硅微粒的空隙的比例设为15%以上的值。

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