一种取向硅钢渗氮装置及其渗氮方法

    公开(公告)号:CN111304583A

    公开(公告)日:2020-06-19

    申请号:CN202010146107.2

    申请日:2020-03-05

    Abstract: 本发明提供一种应用于冶金技术领域的取向硅钢渗氮方法,本发明还涉及一种取向硅钢渗氮装置,所述的取向硅钢渗氮方法的渗氮方法的渗氮步骤为:前导电密封辊(7)通电使得清理与活化段(2)内的氢离子化,对待处理硅钢(13)表面进行清理和活化;待处理硅钢(13)进入渗氮段(3),离子对待处理硅钢(13)进行渗氮处理;待处理硅钢(13)进入密封室(4),密封室(4)内的后导电密封辊(8)通电去除待处理硅钢(13)表面的氧化层,完成渗氮处理,本发明所述的取向硅钢渗氮装置和渗氮方法,使得钢带表面清洁和具有活性,使得氨气进行渗氮过程快速、均匀,取向硅钢加工质量高。

    一种低铁损高磁极化强度的无取向硅钢及其制备方法

    公开(公告)号:CN109082596B

    公开(公告)日:2019-12-13

    申请号:CN201811025877.0

    申请日:2018-09-04

    Abstract: 本发明公开了一种低铁损高磁极化强度的无取向硅钢及其制备方法,所述无取向硅钢包括以下重量百分比的化学成分:C≤0.0050%、Si≤1.70%、Mn 0.15~0.50%、Als 0.010~0.025%、S 0.0010~0.0050%,N 0.0010~0.0030%、O≤0.0050%,其余为Fe及不可避免的杂质。通过铁水预处理、转炉炼钢、真空处理、连铸、热轧、常化处理、轧制、退火、涂覆绝缘层、拉伸平整退火得到。通过合金成分和工艺调整,在不添加贵重金属的条件下,通过合理的工艺措施,获得一种Si含量在1.7%以下、Al含量在0.010~0.030%之间的一种低铁损、高磁极化强度的无取向硅钢,同时磁极化强度轧向(L)和横向(C)的比例控制在1.2以下,产品各向异性小。且产品表面硬度HV1控制在140~170之间,可以较好的满足冲片加工要求。

    一种无瓦楞状缺陷的无取向电工钢及其制备方法

    公开(公告)号:CN110218945A

    公开(公告)日:2019-09-10

    申请号:CN201910620334.1

    申请日:2019-07-10

    Abstract: 本发明公开了一种无瓦楞状缺陷的无取向电工钢及其制备方法,所述无瓦楞状缺陷的无取向电工钢,包括以下重量百分比的化学成分:C≤0.003%,Si:1.0%~2.2%,Mn:0.6~1.5%,Als:0.1~0.4%,S≤0.0030%,P≤0.02%,Cu≤0.1%,N≤0.0040%,Ti≤0.0040%,其余为Fe及不可避免的杂质,其中1.5Mn%≤Si%+2Al%≤2.5Mn%;其制备方法为:铁水预处理、转炉冶炼、RH处理、连铸连轧、酸洗冷轧、连续退火、涂覆绝缘涂层。本发明通过合金体系的合理设计,不要额外增置生产设备,在现有薄板坯连铸连轧生产线上可以顺利实施。利用铁素体轧制获得的热轧组织为再结晶晶粒,避免了沿轧向伸长的纤维状组织的存在,为无瓦楞缺陷产品的生产提供了热轧组织基础。

Patent Agency Ranking