多色调光掩模、多色调光掩模的制造方法和图案转印方法

    公开(公告)号:CN101963753A

    公开(公告)日:2011-02-02

    申请号:CN201010238214.4

    申请日:2010-07-23

    Abstract: 本发明涉及多色调光掩模、多色调光掩模的制造方法和图案转印方法,所述多色调光掩模在透明基板上形成有规定的转印图案,所述规定的转印图案含有遮光部、透光部和半透光部。遮光部在透明基板上层积有半透光膜和遮光膜而成。透光部露出透明基板。半透光部是形成于透明基板上的半透光膜露出而成的。半透光膜具有第1半透光层和层积于第1半透光层上的第2半透光层。以构成半透光部的第2半透光层的膜厚小于构成遮光部的第2半透光层的膜厚的方式进行了减膜。

Patent Agency Ranking