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公开(公告)号：CN105074823A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201480017936.3
申请日：2014-03-31
Applicant: HOYA株式会社 , HOYA玻璃磁盘越南第二公司
CPC classification number: G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该方法即便在使用HDI传感器的情况下，也能够降低可引起磁头碰撞的异物缺陷。本发明包括下述研磨处理：使包含胶态二氧化硅的研磨液和研磨垫与玻璃基板的表面接触，对玻璃基板表面进行镜面研磨。作为研磨液，选择不含有含Al、Si和O的各元素的异物的研磨液，在将玻璃基板作成磁盘并用磁头进行记录再生时，上述各元素可抑制记录再生；利用该研磨液进行研磨处理。
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公开(公告)号：CN102054549A
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN201010523367.3
申请日：2010-10-26
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种溶剂分散性粒子及其制造方法、以及将这种粒子分散于极性溶剂中而形成的分散液，所述溶剂分散性粒子不拘于显示强磁性，对水等高极性溶剂仍具有高分散性。图1(i)所示的溶剂分散性粒子(1)(本发明的溶剂分散性粒子)包含2种以上的金属成分，且具有原子排列具有有序结构的组成的多成分合金粒子(10)、和包覆该多成分合金粒子(10)表面的表面改性剂(m)。表面改性剂(m)在其1分子中分别具有1个以上的与多成分合金粒子(10)中的金属元素(a)相互作用的官能团(X)、与金属元素(b)相互作用的官能团(Y)、在极性溶剂中具有亲和性的官能团(Z)。溶剂分散性粒子(1)不拘于多成分合金粒子(10)显示强磁性，由于表面改性剂(m)高密度结合，所以即使分散于水等极性溶剂中时也可以可靠地防止粒子的凝集。
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公开(公告)号：CN105493184B
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201480047898.6
申请日：2014-08-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C15/02 , C03C23/0075 , C11D7/3209 , C11D11/0035 , C11D11/0047
Abstract: 本发明提供一种在清洗处理后可得到高平滑表面的磁盘用玻璃基板的制造方法。在本发明中，在玻璃基板的镜面研磨后，在使碱性的清洗液与玻璃基板的表面接触而进行清洗的清洗处理中，清洗液含有下述通式I的有机碱，在抑制清洗液中所含有的钠离子和钾离子的含量的同时进行清洗处理。通式I：[(R)4N]+OH‑(其中，R表示烷基，与N原子键合的4个烷基之中的至少一个烷基具有一个以上的羟基(OH基))。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105122363B
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201480021802.9
申请日：2014-04-22
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B5/84
CPC classification number: G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法尽可能不使通过精密研磨得到的平滑的表面粗糙度恶化，能够实施高度洁净的清洗。本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法中，在磁盘用玻璃基板的镜面研磨工序后，进行使玻璃基板与清洗液接触的清洗处理，该清洗液对玻璃基板具有蚀刻性并含有胍和咪唑中的至少一种。另外，一边抑制上述清洗液中的钠离子和钾离子的总量小于200ppm，一边进行清洗处理。
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公开(公告)号：CN105493184A
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201480047898.6
申请日：2014-08-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C15/02 , C03C23/0075 , C11D7/3209 , C11D11/0035 , C11D11/0047
Abstract: 本发明提供一种在清洗处理后可得到高平滑表面的磁盘用玻璃基板的制造方法。在本发明中，在玻璃基板的镜面研磨后，在使碱性的清洗液与玻璃基板的表面接触而进行清洗的清洗处理中，清洗液含有下述通式I的有机碱，在抑制清洗液中所含有的钠离子和钾离子的含量的同时进行清洗处理。通式I：[(R)4N]+OH-(其中，R表示烷基，与N原子键合的4个烷基之中的至少一个烷基具有一个以上的羟基(OH基))。
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公开(公告)号：CN104508742A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201380038866.5
申请日：2013-09-30
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B5/84
CPC classification number: G11B5/84 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该方法尽可能不使通过精密研磨得到的平滑的表面粗糙度恶化，能够实施高度洁净的清洗。本发明使用含有碱性试剂的清洗液，该碱性试剂不包含钠和钾，一边维持清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度为4.00×10-3mol/L以下的条件，一边对两个以上的玻璃基板进行清洗处理，所述两个以上的玻璃基板在玻璃成分中含有钠和钾中的至少一种成分，且主表面进行了镜面研磨。
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公开(公告)号：CN102448888B
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201080024077.2
申请日：2010-06-14
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 德光秀造
IPC: C01G25/02
CPC classification number: C01G25/02 , B82Y30/00 , C01P2004/64
Abstract: 本发明公开了表面改性的氧化锆纳米晶粒，该表面改性的氧化锆纳米晶粒的特征在于，通过由有机磺酰氧基将氧化锆纳米颗粒表面改性而成。本发明还公开了用于制造由羰酰氧基、有机磷酰氧基或芳氧基表面改性的氧化锆纳米晶粒的方法，所述方法的特征在于，通过羰酰氧基、有机磷酰氧基或芳氧基取代上述表面改性的氧化锆纳米晶粒中的表面改性剂。该表面改性的氧化锆纳米晶粒可通过简单的方法制造并具有高度稳定的溶剂分散性。此外，该表面改性的氧化锆纳米晶粒具有可易于通过适于特定用途的官能团取代的结构。该用于制造表面改性的氧化锆纳米晶粒的方法能使上述表面改性的氧化锆纳米晶粒易于制造。
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公开(公告)号：CN101146740A
公开(公告)日：2008-03-19
申请号：CN200680009004.X
申请日：2006-03-10
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 德光秀造
CPC classification number: C09K11/70 , C01B25/087 , Y10S977/813 , Y10S977/815 , Y10S977/816 , Y10S977/818 , Y10S977/819 , Y10S977/82 , Y10S977/823 , Y10S977/824 , Y10S977/896
Abstract: 公开了本发明提供一种用于以工业上规模，在短时间内，高效且有利地制备纳米级尺寸InP微粒的方法；和一种InP微粒分散体溶液。用于制备InP微粒的方法包括使含有至少两种In化合物的In原料与含有至少一种P化合物的P原料在溶剂中反应来制备InP微粒，其中使用至少一种第一In化合物和至少一种第二In化合物作为所述至少两种In化合物，其中所述第一In化合物具有能够与P化合物上的官能团反应使P化合物上的官能团脱离从而生成In－P键的基团，所述P化合物具有与In原子相邻的P原子，所述第二In化合物其在化合物中的In原子电子密度比在所述第一In化合物中的低，并将路易斯碱溶剂作为所述溶剂；以及通过该方法制得的InP微粒分散体溶液。
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