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公开(公告)号：CN101146740B
公开(公告)日：2010-05-19
申请号：CN200680009004.X
申请日：2006-03-10
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 德光秀造
CPC classification number: C09K11/70 , C01B25/087 , Y10S977/813 , Y10S977/815 , Y10S977/816 , Y10S977/818 , Y10S977/819 , Y10S977/82 , Y10S977/823 , Y10S977/824 , Y10S977/896
Abstract: 公开了本发明提供一种用于以工业上规模，在短时间内，高效且有利地制备纳米级尺寸InP微粒的方法；和一种InP微粒分散体溶液。用于制备InP微粒的方法包括使含有至少两种In化合物的In原料与含有至少一种P化合物的P原料在溶剂中反应来制备InP微粒，其中使用至少一种第一In化合物和至少一种第二In化合物作为所述至少两种In化合物，其中所述第一In化合物具有能够与P化合物上的官能团反应使P化合物上的官能团脱离从而生成In-P键的基团，所述P化合物具有与In原子相邻的P原子，所述第二In化合物其在化合物中的In原子电子密度比在所述第一In化合物中的低，并将路易斯碱溶剂作为所述溶剂；以及通过该方法制得的InP微粒分散体溶液。
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公开(公告)号：CN104508742B
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201380038866.5
申请日：2013-09-30
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B5/84
CPC classification number: G11B5/84 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该方法尽可能不使通过精密研磨得到的平滑的表面粗糙度恶化，能够实施高度洁净的清洗。本发明使用含有碱性试剂的清洗液，该碱性试剂不包含钠和钾，一边维持清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度为4.00×10‑3mol/L以下的条件，一边对两个以上的玻璃基板进行清洗处理，所述两个以上的玻璃基板在玻璃成分中含有钠和钾中的至少一种成分，且主表面进行了镜面研磨。
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公开(公告)号：CN105518780A
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201480046423.5
申请日：2014-09-30
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 德光秀造
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/044 , C09K3/1409
Abstract: 本发明提供一种二氧化硅磨粒，其不会对研磨对象物造成损伤，且不会降低研磨速度。对于所述二氧化硅磨粒，磨粒内部的硅烷醇基(Si-OH)相对于磨粒整体的硅元素(Si)的比值(Si-OH)/Si为0.4以上。
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公开(公告)号：CN105122363A
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201480021802.9
申请日：2014-04-22
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B5/84
CPC classification number: G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法尽可能不使通过精密研磨得到的平滑的表面粗糙度恶化，能够实施高度洁净的清洗。本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法中，在磁盘用玻璃基板的镜面研磨工序后，进行使玻璃基板与清洗液接触的清洗处理，该清洗液对玻璃基板具有蚀刻性并含有胍和咪唑中的至少一种。另外，一边抑制上述清洗液中的钠离子和钾离子的总量小于200ppm，一边进行清洗处理。
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公开(公告)号：CN102448888A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201080024077.2
申请日：2010-06-14
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 德光秀造
IPC: C01G25/02
CPC classification number: C01G25/02 , B82Y30/00 , C01P2004/64
Abstract: 本发明公开了表面改性的氧化锆纳米晶粒，该表面改性的氧化锆纳米晶粒的特征在于，通过由有机磺酰氧基将氧化锆纳米颗粒表面改性而成。本发明还公开了用于制造由羰酰氧基、有机磷酰氧基或芳氧基表面改性的氧化锆纳米晶粒的方法，所述方法的特征在于，通过羰酰氧基、有机磷酰氧基或芳氧基取代上述表面改性的氧化锆纳米晶粒中的表面改性剂。该表面改性的氧化锆纳米晶粒可通过简单的方法制造并具有高度稳定的溶剂分散性。此外，该表面改性的氧化锆纳米晶粒具有可易于通过适于特定用途的官能团取代的结构。该用于制造表面改性的氧化锆纳米晶粒的方法能使上述表面改性的氧化锆纳米晶粒易于制造。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101563414A
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200780046904.6
申请日：2007-12-19
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 德光秀造
IPC: C08K9/04 , C01G23/053 , C01G25/02 , C08L101/00
CPC classification number: C09C3/08 , B82Y30/00 , C01P2002/72 , C01P2004/64 , C08J5/005 , C09C1/3669 , C09C1/3684 , C09C1/3692 , C09C3/006 , Y10T428/2993
Abstract: 本发明提供金属氧化物系纳米粒子，其特征在于，是在表面具有有机官能团的经表面修饰的核壳结构的金属氧化物系纳米粒子，通过将构成核的金属氧化物的构成元素选自周期表第4族元素、第5族元素中的至少1种，对折射率进行控制。本发明还提供纳米粒子分散树脂，其特征在于，含有基体树脂、以及分散于该基体树脂中的所述金属氧化物系纳米粒子，其中，所述金属氧化物系纳米粒子在基体树脂中不会发生二次凝聚而能够均匀分散，并且高折射率且无着色，所述纳米粒子分散树脂是所述金属氧化物系纳米粒子在基体树脂中均匀分散而成的，折射率高、无色透明性优异。
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公开(公告)号：CN105940450A
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201580005892.7
申请日：2015-02-02
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: B24B37/08 , C09K3/1463 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法能够抑制研磨磨粒的清洗残留，能够充分降低基板表面缺陷。本发明中，用表面配备有研磨垫的一对定盘夹持圆板状的基板，将包含胶态二氧化硅作为研磨磨粒的研磨液供给至研磨面，从而对圆板状的基板的主表面进行研磨。上述研磨液含有具有特定的酰胺基或脲基的下述物质作为添加剂。R1‑NH‑CO‑R2式中，R1表示烷基或氢原子，R2表示烷基或‑NH‑R3，R3表示烷基。
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公开(公告)号：CN105940450B
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201580005892.7
申请日：2015-02-02
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: B24B37/08 , C09K3/1463 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法能够抑制研磨磨粒的清洗残留，能够充分降低基板表面缺陷。本发明中，用表面配备有研磨垫的一对定盘夹持圆板状的基板，将包含胶态二氧化硅作为研磨磨粒的研磨液供给至研磨面，从而对圆板状的基板的主表面进行研磨。上述研磨液含有具有特定的酰胺基或脲基的下述物质作为添加剂。R1‑NH‑CO‑R2式中，R1表示烷基或氢原子，R2表示烷基或‑NH‑R3，R3表示烷基。
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公开(公告)号：CN105074823B
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201480017936.3
申请日：2014-03-31
Applicant: HOYA株式会社 , HOYA玻璃磁盘越南第二公司
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该方法即便在使用HDI传感器的情况下，也能够降低可引起磁头碰撞的异物缺陷。本发明包括下述研磨处理：使包含胶态二氧化硅的研磨液和研磨垫与玻璃基板的表面接触，对玻璃基板表面进行镜面研磨。作为研磨液，选择不含有含Al、Si和O的各元素的异物的研磨液，在将玻璃基板作成磁盘并用磁头进行记录再生时，上述各元素可抑制记录再生；利用该研磨液进行研磨处理。
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