光学玻璃和光学元件
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108689599A

    公开(公告)日:2018-10-23

    申请号:CN201810292798.X

    申请日:2018-03-30

    CPC classification number: C03C3/247 C03C4/20 G02B1/002

    Abstract: 本发明提供光学玻璃和光学元件,上述光学玻璃包含P5+、Al3+、Nb5+、O2‑及F‑作为必要成分,Al3+的含量相对于P5+的含量的摩尔比(Al3+/P5+)为0.30以上,Nb5+的含量为1.0阳离子%以上,O2‑含有量为10~85阴离子%、F‑的含量为15~90阴离子%、O2‑的含量相对于P5+和Nb5+的合计含量的摩尔比(O2‑/(P5++Nb5+))为3.0以上。

    光学玻璃和光学元件
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109748497B

    公开(公告)日:2023-09-08

    申请号:CN201811276115.8

    申请日:2018-10-30

    Inventor: 盐田勇树

    Abstract: 本发明提供一种光学玻璃和光学元件,上述光学玻璃为具有异常部分色散性的氟磷酸盐玻璃,具有比重小的特性,除此以外,具有温度变化导致的光学特性的变动小、清洗耐性优异、更加高折射低色散、并且耐热性优异这些各种特性。一种光学玻璃,为比重是3.3以下的氟磷酸盐玻璃,满足(a)~(d)中的1者以上。(a)He‑Ne激光的波长(633nm)的相对折射率的温度系数dn/dT在20~40℃的范围为0±5.0×10‑6℃‑1的范围。(b)在0.01mol/L的三聚磷酸钠Na5P3O10水溶液中浸渍了1小时时的每1cm2的玻璃表面的重量减少量DSTPP为0.4mg/cm2·h以下。(c)折射率nd与阿贝数νd满足下述的关系式(1)。(d)玻璃化转变温度Tg为360℃以上。

    玻璃、压制成型用玻璃材料、光学元件坯件及光学元件

    公开(公告)号:CN105693087B

    公开(公告)日:2018-08-03

    申请号:CN201510864266.5

    申请日:2015-12-01

    Abstract: 本发明提供种热稳定性、均质性及耐酸性优秀的高折射率低色散氟磷酸盐类玻璃。种玻璃,其中,作为阳离子成分至少包含P、Al、Ba及R,所述R是选自Mg、Ca、Sr及Zn的种以上,作为阴离子成分至少包含O和F,在阳离子成分比例中,Al的含量相对于Al和P的合计含量的摩尔比Al/(Al+P)的范围为0.56~0.75,Al的含量相对于Ba和R的合计含量的摩尔比Al/(Ba+R)为0.58以上,Ba和Sr的合计含量相对于Ba和R的合计含量的摩尔比(Ba+Sr)/(Ba+R)为0.60以上,Li、Na及K的合计含量相对于Al和P的合计含量的摩尔比(Li+Na+K)/(P+Al)不足0.39,折射率nd的范围为超过1.47且1.53以下,并且阿贝数νd的范围为80~95。

    半色调型相移掩膜坯料、半色调型相移掩膜及其制造方法

    公开(公告)号:CN1924697A

    公开(公告)日:2007-03-07

    申请号:CN200610094622.0

    申请日:2002-06-04

    Abstract: 一种半色调型相移掩膜坯料,是用于制造以下这种半色调型相移掩膜,即,所述半色调型相移掩膜在透明基板上具有透过曝光光的透光部、和在透过一部分曝光光的同时将透过光的相位以给定量位移的相移部,并且该半色调型相移掩膜具有在所述透光部和相移部边界部附近透过各处的光能够相互抵消的光学特性,能够良好地保持并改善转移到被曝光体表面的曝光图案边界部的对比度。其中,用于形成移相部的相移膜是由主要构成要素为硅、氧、及氮的膜,以及形成于所述膜和透明基板之间的刻蚀阳止膜构成。

    半色调型相移掩膜坯料、半色调型相移掩膜及其制造方法

    公开(公告)号:CN1896868A

    公开(公告)日:2007-01-17

    申请号:CN200610094621.6

    申请日:2002-06-04

    Abstract: 一种半色调型相移掩膜坯料,是用于制造以下这种半色调型相移掩膜,即,所述半色调型相移掩膜在透明基板上具有透过曝光光的透光部、和在透过一部分曝光光的同时将透过光的相位以给定量位移的相移部,并且该半色调型相移掩膜具有在所述透光部和相移部边界部附近透过各处的光能够相互抵消的光学特性,能够良好地保持并改善转移到被曝光体表面的曝光图案边界部的对比度。其中,用于形成移相部的相移膜是由主要构成要素为硅、氧、及氮的膜,以及形成于所述膜和透明基板之间的刻蚀阻止膜构成。

    光学玻璃及光学元件
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109467312A

    公开(公告)日:2019-03-15

    申请号:CN201810863708.8

    申请日:2018-08-01

    Inventor: 盐田勇树

    CPC classification number: C03C3/19 C03C3/064 C03C3/21 G02B1/00

    Abstract: 本发明提供耐酸性和耐候性优异的光学玻璃及光学元件。一种光学玻璃,是包含选自Li+、Na+及K+中的1种以上碱金属离子且包含P5+、B3+及Ba2+作为阳离子成分的磷酸盐玻璃,Al3+、Ln3+、Ti4+、Zr4+、Nb5+、Ta5+、Bi3+及W6+的合计含量[Al3++Ln3++Ti4++Zr4++Nb5++Ta5++Bi3++W6+]为10阳离子%以上(其中,Ln3+表示La3+、Gd3+、Y3+、Yb3+及Lu3+的合计含量[La3++Gd3++Y3++Yb3++Lu3+]。),P5+和B3+的合计含量[P5++B3+]为30~50阳离子%,P5+的含量与P5+和B3+的合计含量的阳离子比[P5+/(P5++B3+)]为0.50以上且0.84以下,Li+、Na+及K+的合计含量[Li++Na++K+]为5阳离子%以上,Ba2+的含量为5阳离子%以上,Mg2+、Ca2+、Sr2+及Ba2+的合计含量[Mg2++Ca2++Sr2++Ba2+]为10阳离子%以上,阿贝数νd为40以上。

    光学玻璃、光学元件坯件、压制成型用玻璃材料、光学元件及它们的制造方法

    公开(公告)号:CN105452183B

    公开(公告)日:2018-04-27

    申请号:CN201480032013.5

    申请日:2014-06-03

    Inventor: 盐田勇树

    CPC classification number: C03C3/247 C03B23/03 C03C3/23

    Abstract: 本发明一个方式涉及光学玻璃,其作为必要成分含有作为阳离子成分的P5+、Al3+、Ba2+及R2+(R2+为选自Mg2+、Ca2+、Sr2+及Zn2+的一种以上),作为必要成分含有作为阴离子成分的O2‑及F‑,关于阳离子成分比率,P5+、Al3+、Ba2+、R2+及R’+(R’+为选自Li+、Na+及K+的一种以上)的合计含量为86%以上,摩尔比Al3+/P5+为0.70以上,摩尔比Al3+/(Ba2++R2+)为0.40以上,摩尔比Ba2+/(Ba2++R2+)的范围为0.50~0.85,阿贝数νd的范围为72以上且不足80,且折射率nd和阿贝数νd满足nd≥2.179‑0.0085×νd。

    玻璃、压制成型用玻璃材料、光学元件坯件及光学元件

    公开(公告)号:CN105693087A

    公开(公告)日:2016-06-22

    申请号:CN201510864266.5

    申请日:2015-12-01

    Abstract: 本发明提供一种热稳定性、均质性及耐酸性优秀的高折射率低色散氟磷酸盐类玻璃。一种玻璃,其中,作为阳离子成分至少包含P5+、Al3+、Ba2+及R2+,所述R2+是选自Mg2+、Ca2+、Sr2+及Zn2+的一种以上,作为阴离子成分至少包含O2-和F-,在阳离子成分比例中,Al3+的含量相对于Al3+和P5+的合计含量的摩尔比Al3+/(Al3++P5+)的范围为0.56~0.75,Al3+的含量相对于Ba2+和R2+的合计含量的摩尔比Al3+/(Ba2++R2+)为0.58以上,Ba2+和Sr2+的合计含量相对于Ba2+和R2+的合计含量的摩尔比(Ba2++Sr2+)/(Ba2++R2+)为0.60以上,Li+、Na+及K+的合计含量相对于Al3+和P5+的合计含量的摩尔比(Li++Na++K+)/(P5++Al3+)不足0.39,折射率nd的范围为超过1.47且1.53以下,并且阿贝数νd的范围为80~95。

    半色调型相移掩膜坯料、半色调型相移掩膜及其制造方法

    公开(公告)号:CN100440038C

    公开(公告)日:2008-12-03

    申请号:CN02823609.2

    申请日:2002-06-04

    CPC classification number: G03F1/32

    Abstract: 一种半色调型相移掩膜坯料,是用于制造以下这种半色调型相移掩膜,即,所述半色调型相移掩膜在透明基板上具有透过曝光光的透光部、和在透过一部分曝光光的同时将透过光的相位以给定量位移的相移部,并且该半色调型相移掩膜具有在所述透光部和相移部边界部附近透过各处的光能够相互抵消的光学特性,能够良好地保持并改善转移到被曝光体表面的曝光图案边界部的对比度。其中,用于形成移相部的相移膜是由主要构成要素为硅、氧、及氮的膜,以及形成于所述膜和透明基板之间的刻蚀阻止膜构成。

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